説明

フォトニック整合フィルタ

光路は、入力光学信号を伝搬するように構成される。複数の電極は、光学信号に関して複数の離散的位相偏移を生成するように構成される。出力光学信号は、複数の離散的位相偏移の和だけ入力光学信号に対して位相偏移される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本出願は、一般に、光学デバイスに関し、排他的ではないがより具体的には、フォトニック・デバイスに関する。
【背景技術】
【0002】
本節は、本開示のよりよい理解を促進するのに役立つ可能性がある態様を紹介する。したがって、本節の陳述は、それに照らして読まれ、従来技術に存在するもの、または、従来技術に存在しないものに関する承認として理解されるべきではない。
【0003】
整合フィルタは、レーダおよび電気通信を含む種々のアプリケーションで使用される。整合フィルタは、通常、既知信号またはテンプレートを未知信号に相関付けて、未知信号におけるテンプレートの存在を検出する。
【0004】
通常、整合フィルタは、振幅整合によって動作する。しかし、振幅整合に対する固有の制限は、整合フィルタを含むシステムの性能を制限する可能性がある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0005】
1つの態様は、光路および複数の電極を含む装置を提供する。光路は、入力光学信号を伝搬するように構成される。複数の電極は、光学信号に関して複数の離散的位相偏移を生成するように構成される。出力光学信号は、複数の離散的位相偏移の和だけ入力光学信号に対して位相偏移される。
【0006】
別の態様は、フォトニック整合フィルタを提供する。フィルタは、第1および第2の光学任意位相波形発生器ならびに両者間の伝搬経路を含む。第1の光学任意位相波形発生器は、コヒーレント光信号を受取り、コヒーレント光信号に第1の時間位相偏移パターンを適用するように適合される。第2の光学任意位相波形発生器は、第1の光学任意位相波形発生器の出力信号を受信し、出力信号に第2の時間位相偏移パターンを適用するように構成可能である。伝搬経路は、第1の波形発生器の出力から第2の波形発生器の入力にコヒーレント光信号を伝搬させるように構成される。
【0007】
なお別の態様は方法である。方法は、コヒーレント光学信号を受信するように光路を構成することを含む。第1の複数の電極は、コヒーレント信号に関して第1の複数の離散的位相偏移を生成するように構成される。出力光学信号は、複数の離散的位相偏移の和だけ入力光学信号に対して位相偏移される。第1の位相シーケンス発生器は、コヒーレント光学信号に関して第1の時間位相偏移パターンを生成するよう第1の複数の電極を制御するように構成される。
【0008】
添付図面に関連して考えられる、単に例として提供される、実施形態の以下の説明がここで参照される。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】本開示の一般的な任意位相波形発生器(APWG)を示す図である。
【図2】16個の位相状態を生成するように構成されたAPWGの例示的な実施形態を示す図である。
【図3】APWGによって生成される信号の例示的な大きさおよび位相を示す図である。
【図4】本開示のAPWGの代替の実施形態を示す図である。
【図5】本開示のAPWGの代替の実施形態を示す図である。
【図6】APWGを利用する位相整合(matched-phase)フィルタの本開示の実施形態を示す図である。
【図7】局部発振器を有する位相整合フィルタの本開示の実施形態を示す図である。
【図8A】本開示の方法を示す図である。
【図8B】本開示の方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本開示は、整合フィルタが、従来の整合フィルタ・デバイスの制限を克服するために光学位相形成デバイスを使用して実装されることができるというユニークな認識から利益を得る。光学振幅整合フィルタは、光学振幅整合フィルタ内での信号分離に関する固有の制限による低い消光比によって制限される可能性がある。本明細書の種々の実施形態で述べる位相整合フィルタは、少なくともフィルタ性能に関する消光比制限が実質的に低減されるまたは本質的になくなる点で、従来の光学振幅整合フィルタを改善する。この低減は、とりわけ、従来の光学振幅整合フィルタの場合に比べて位相整合フィルタの高い信号対雑音比(SNR)を可能にする。
【0011】
最初に図1を見ると、全体が100で指定された任意位相波形発生器(APWG)の一般的な実施形態が示される。APWG100は、限定されてないが、基板110上に形成された平面光学導波路デバイスとして示される。ファイバ導波路などの他の形態の光学導波路を利用する実施形態は、本開示が与えられると、光学技術の専門家の能力内にある。光路120は、基板110にわたって形成され、電極130が、光路120と基板110との間に位置する。本明細書で総称的に電極140と呼ばれる電極140.0、140.1、140.2、…140.nは、光路120にわたって位置する。電極は、総称的に制御信号150と呼ばれる制御信号V(t)、V(t)、V(t)、…V(t)によって制御される。基板110、光路120、電極130、および電極140はそれぞれ、従来型であるか、または、将来発見される任意のプロセスによって形成されることができる。光路は、たとえば、ニオブ酸リチウム(LiNbO)、あるいは、他の電気光学材料であって、電極140の1つまたは複数と電極130との間の電圧に応答して、他の電気光学材料を通過する光学信号に位相偏移を誘起することが可能な、他の電気光学材料を含むことができる。
【0012】
各電極140は、対応する位相変調セクション160に関連する。そのため、たとえば、電極140.0は、位相変調セクション160.0に関連し、電極140.1は、位相変調セクション160.1に関連するなどである。各電極140はまた、対応する増分位相偏移φ(t)に関連する。そのため、電極140.0は、位相偏移φ(t)に関連し、電極140.1は、位相偏移φ(t)に関連するなどである。位相偏移は、一般に、時間の関数であり、対応する電極140による位相偏移の変調を反映する。以降で、位相偏移φの時間依存性は省略され、一方、各位相偏移φが一般に時間の関数であることが理解される。
【0013】
光源170は、入力光学信号180を生成するように適合される。光源170は、たとえば、レーザダイオードなどの可視または不可視コヒーレント光学供給原とすることができる。光源170は、一般に、ほぼ一定の大きさEおよび周波数ωを有する、
【0014】
【数1】

の信号を出力する。
【0015】
種々の実施形態では、位相偏移φ、φ、φ、…φは、離散的位相偏移である。位相偏移は、各電極140が、別の電極140によって生成される位相偏移と独立に電極140に関連する位相偏移φを生成するように構成可能であるという意味で離散的である。種々の実施形態では、位相偏移の大きさはまた、一意であり、2つの位相偏移φ、δφ、δφ、…δφは同じでないことを意味する。以下でさらに述べるように、入力光学信号180の位相は、出力光学信号190を生成するために、複数の離散的位相偏移の和である総合位相偏移だけ偏移される。
【0016】
理論によって制限されないが、一般に電極140と電極130との間に電圧が印加されると、その電極140に関連する位相変調セクション160の屈折率が変化することになり、したがって、その位相変調セクション160の光路長が変化する。光路長の変化は、位相変調セクション160を通過する入力光学信号180の位相の対応する変化をもたらすことが予想される。入力光学信号180は、通電される各電極140に関連する増分位相偏移を受ける。
【0017】
入力光学信号180に関して生成される位相偏移は、一般にejφ(t)と表されることができ、ほぼ位相変調セクション160のそれぞれによって生成される増分位相偏移の和である。制御信号150、たとえばV(t)、V(t)、V(t)、…V(t)が、時間の関数として変調される場合、ejφ(t)もまた時間依存性であることになる。表記の便宜のために、制御信号150は、b、b、b、…bで指定されることができる。いくつかの実施形態では、制御信号150は2値方式で制御される。本明細書で、制御線に関する2値方式は、制御線が、通常動作中に2つの状態間で切換ることを意味する。論理の「0」またはブール代数の「偽(false)」に対応する第1の状態は、位相偏移が起こらないような関連する変調セクション160の制御に対応することができる。論理の「1」またはブール代数の「真(true)」に対応する第2の状態は、非ゼロ位相偏移が起こるような関連する変調セクション160の制御に対応することができる。もちろん、電極140の電圧状態に対する論理状態の割当ては任意であり、反転されることができる。入力光学信号180に関してAPWG100によって課される総合位相偏移は、
【0018】
【数2】

として表される。ここで、φ、φ、φ、…φは、ビットb、b、b、…bによって生成される各増分位相偏移であり、bφ+b1φ+bφ、+…+bφは、アクティブ電極140に関連する変調セクション160による総合位相偏移である。
【0019】
本明細書で提示される種々の実施形態は、互いに対して長さについての特定の関係を有するものとして電極140を記述することができる。APWG100は、たとえば、電極140.2が電極140.1より長く、電極140.3が電極140.2より長いなどであり、電極140.nが最も長い電極である状態で示される。電極140は、信号伝搬方向に単調に長さが増加するものとして示されるが、電極140が伝搬方向に小さくなるように順序付けられるか、またはさらに、電極長さが順序付けられないことを含む他の構成が可能でありまた想定される。信号伝搬方向における電極140の順序は、APWG100の動作にとって重要でないと予想される。
【0020】
ある実施形態では、電極140の長さは、対数的に増加し、それにより、たとえば電極140.2の長さと電極140.1の長さの比は、電極140.3の長さと電極140.2の長さの比とほぼ同じである。より具体的には、APWG100の示す実施形態では、電極140.2の長さと電極140.1の長さの比は約2であり、電極140.3の長さと電極140.2の長さの比は約2である、などである。この実施形態は、本明細書で2値電極シーケンスと呼ばれる。
【0021】
電極140が、APWG100について示した2値電極シーケンスで構成されるとき、次の小さな電極140、たとえば電極140.1に対する電極140、たとえば、電極140.2によって生成される位相偏移はまた、|V(t)|≒|V1(t)|であるとき、約2の比を有する。そのため、各変調セクション160、たとえば変調セクション160.2によって生成される位相偏移と、次の短い変調セクション、たとえば変調セクション160.1によって生成される位相偏移の比は、電極がデジタル的に駆動されるとき約2である。
【0022】
2値電極シーケンスを有するAPWG100が示されるが、他の電極構成は本開示の範囲内にある。たとえば、電極140は、2値以外の対数的進行、たとえばデバイス材料および処理制約に適合する任意の所望の比を有することができる。ある場合には、電極140の長さ、および、それにより生成される付随する位相偏移は、対数的関係以外の関係によって異なる可能性がある。いくつかの実施形態では、たとえば、電極140の長さは、直線的に増加することができる。他の実施形態では、電極140は、所望される各位相偏移値を生成するために1つだけの電極140が通電される必要があるような長さを有する。電極の長さは、位相偏移比の精度が所望されるとき、たとえばレーザトリミングによって調整されることができる。
【0023】
図2は、総称的に電極210と呼ばれる、4つの電極210.1、210.2、210.3、210.4を有するAPWG200の実施形態を示す。電極210は、出力光学信号220を生成するために、光路120を通る入力光学信号180の位相を制御するように構成される。電極210は、4つの各制御信号230によって制御される。示す実施形態では、制御信号230は、2値制御線であると考えられ、電極210は、2値電極シーケンスで構成される。APWGの説明において、制御線230は、総称的にBとして、また、ejφ(t)を所望の値に設定するように構成された制御ワードのビットとして種々の実施形態においてその状態を反映するために、個々にb、b、b、bとして呼ばれることができる。
【0024】
種々の実施形態では、APWG200は、2π未満の総合位相偏移φを生成するように構成される。たとえば、制御信号230(b、b、b、およびb)がそれぞれ、2つの状態を有するように構成される場合、APWG200は、2=16個の一意の位相偏移を提供することができる。APWG200によって提供される位相遅延は、
【0025】
【数3】

として表されることができ、ある場合には、約0ラジアンから約
【0026】
【数4】

の範囲にある。
【0027】
図2に示す原理は、4つより大きいかまたは小さい制御線に拡張されることができることを当業者は認識する。いくつかの実施形態では、APWG100の制御線150は、少なくとも6つの制御線を含む。原理上、ビットの数は、デバイス・サイズおよび複雑さなどの全体的な設計制約内の任意に大きな数に拡張されうる。一般に、制御ビットのより大きな数は、入力光学信号180上で生成される総合位相偏移のより高い精度をもたらす。
【0028】
図3は、簡単のために本明細書でパターン300と呼ばれることがある、時間位相偏移パターン300の例示的な位相/大きさ特性を示す。パターン300は、大きさ特性310および位相特性320で記述される。大きさ特性310は、光源170がパルス駆動されるオプションの実施形態の場合について示される。種々の代替の実施形態では、光源170は、少なくとも2つのパターン300の間の間隔に関してCW(連続波)である。位相特性320は、出力光学信号220の場合、たとえば入力光学信号180が4つの一意の位相偏移量のセットによって変調される場合について示される。位相偏移量は、2つの隣接する位相偏移値間の、たとえば、位相偏移値330と位相偏移値340との間の差である。位相特性320は、出力光学信号220が、最初に、入力光学信号180の位相に対して一般に任意であるベースライン位相φを有する非制限的な場合について示される。
【0029】
たとえば位相特性320の示す状態に対応する、制御信号230のビットの組合せは、時間t、t、tに対応する最初の3つの位相状態について表350に示される。時刻tにて、出力光学信号220の位相は、約
【0030】
【数5】

である。時刻tにて、出力光学信号220の位相は、約
【0031】
【数6】

である。時刻tにて、出力光学信号220の位相は、約
【0032】
【数7】

である。パターン300に関連する10個の位相状態を有するパターン300が示されるが、原理上、パターン300は、任意に大きな数の関連する位相状態を有することができる。
【0033】
APWG100が、出力光学信号190の任意の所望のベースライン位相φをもたらすように構成されることができることが留意される。たとえば、種々の光路の長さは、φの特定の値をもたらすように制御されることができる。特定のφは、たとえば受信デバイスの要件に関連する可能性がある。同様に、いくつかの実施形態では、APWG100の制御は、ベースライン位相の周りの所望の位相範囲を生成するようにバイアスされる。たとえば、制御信号150は、ベースライン位相の周りにほぼ±π位相偏移を生成するようにバイアスされることができ、それは、整合フィルタなどの種々の実施形態において望ましい場合がある。
【0034】
APWG100の各位相変調セクション160が、20Gビット/秒より高い周波数で駆動されることができることが予想される。いくつかの実施形態では、各変調セクション160は、50Gビット/秒以上の周波数で駆動されることができる。そのため、APWG100は、非常に高いサンプリングレートで動作することが可能であると予想される。さらに、以下に述べるようなAPWG100を使用する整合フィルタの実施形態は、先に述べた従来の光学振幅整合フィルタと比べて著しく改善されたSNRを提供することが予想される。たとえば、振幅整合フィルタは、25dBより小さい消光比を有することができ、それは、スプリアスフリー・ダイナミックレンジ(SFDR)として表現されることがある、システム・ダイナミックレンジを大幅に制限する可能性がある。対照的に、APWG100に適合するAPWG実施形態の消光比のSFDR測定は、100dBを超える、ある場合には110dBを超える値を提供しうる。その理由は、直接位相変調のために消光比が大きくなるからである。したがって、開示されるAPWG100を使用するいくつかの実施形態は、振幅整合フィルタ設計を使用するアプリケーションより著しく高い分解能、SFDR、および/またはSNRから利益を得ると予想される。さらに、ある場合には、こうしたいくつかの実施形態の高い変調レートおよび高いSNRは、電気的振幅変調に基づく従来の位相変調デバイスの場合に比べて著しく低いコストで達成されることができる。
【0035】
種々の代替の実施形態は、一意の光路長を有する光路部分を生成するために使用されることができる。図4は、全体が400で指定される1つの代替の実施形態を示し、ビットb、b、b、bはそれぞれ、光路長の2値シーケンスを有する4つの位相変調セクション420.0、420.1、420.2、420.3をもたらすために1つまたは複数の電極410に結合される。電極410は、示す実施形態では、名目上は同一である。そのため、ビットbおよびbが、その各電極にほぼ同じ電圧を提供するとき、2つの電極410に制御電圧を印加するビットbは、1つだけの電極410の電圧を制御するビットbの位相偏移の約2倍の位相偏移を入力光学信号180に生成する。同様に、ビットbは4つの電極410の電圧を制御し、ビットbは8つの電極410の電圧を制御する。
【0036】
図5は、全体が500で指定される実施形態を示し、4つの名目上同一の電極510.0、510.1、510.2、510.3、総称的に電極510は、各位相変調セクション520.0、520.1、520.2、520.3、総称的に位相変調セクション520内に位相偏移を生成するために使用される。実施形態500では、電極510に印加される電圧は同じではない。示す実施形態では、位相変調セクション520の物理的長さは、ほぼ同じであるが、不等の光路長を有する実施形態が想定される。電極510.0は、電圧Vによって制御される。電極510.1は、Vの約2倍である電圧Vによって制御される。同様に、電極510.2は、Vの約2倍である電圧Vによって制御され、電極510.3は、Vの約2倍である電圧Vによって制御される。こうして構成されると、印加電圧は位相変調セクション520の線形応答領域に留まるが、電極510および位相変調セクション520によって生成される位相偏移の和は、通電される電極510のパターンを記述する2値ワードの値に一般に比例することになる。
【0037】
述べた原理を適用することによって、制御電圧、電極サイズ、および制御線当たりの電極数の種々の組合せが使用されて、位相偏移値の所望の組合せが生成され、それにより、たとえば材料選択、デバイス幾何形状、および制御ビット数によって課される制約の中で、APWG100によって記述される一般的なAPWGの出力光学信号190の任意の所望の位相形態を生成することができることを当業者は認識するであろう。
【0038】
ここで図6を考えて、位相整合フィルタ600の実施形態が示される。フィルタ600は、光路630によって結合される第1のAPWG610および第2のAPWG620を含む。種々の実施形態では、第1のAPWG610および第2のAPWG620は、製造公差内で名目上同一であり、また特に、それぞれが、それぞれを通過する光学信号に対して名目上同一の時間位相偏移パターンを提供するように構成されることができる。光路630は、制限なしで、光学導波路、たとえば光ファイバ、液体、生体材料、空気、および真空を含む、入力光学信号180の伝搬をサポートする任意の媒体を含むことができる。
【0039】
第1のAPWG610は、制御信号645により第1のシーケンス発生器640によって制御される。第2のAPWG620は、制御信号655により第2のシーケンス発生器650によって制御される。第1および第2のシーケンス発生器640、650は、その出力でビット・パターンのシーケンスを生成するように構成可能である。出力の電圧は、各出力ビットに対応する所望の位相偏移を入力光学信号180に関して形成するために、必要に応じて個々にまたは全体としてスケーリングされることができる。遅延要素660は、制御信号645に対して制御信号655を時間遅延ΔTだけ遅延させるように構成される。種々の実施形態では、遅延要素660は、プログラマブルなまたは調整可能な遅延であり、一方、他の実施形態では、遅延要素660は固定される。
【0040】
一実施形態では、第1のシーケンス発生器640は、入力光学信号180に関して位相偏移の時間シーケンスを生成するように構成される。いくつかの実施形態では、時間シーケンスは、第1のシーケンス発生器640によって出力される、疑似ランダム2値シーケンス(PRBS)670によって例示されるような、疑似ランダム2値シーケンスを使用して形成される。こうした実施形態では、第1のAPWG610によって出力される信号の位相は、上述したように、利用可能な位相状態の疑似ランダム分布を有することになり、利用可能な位相状態の数は、制御信号645の数nによって部分的に確定される。他の実施形態では、時間シーケンスは、その既知の形態の任意の形態で線形FM(LFM)信号である。LFMは、たとえばレーダ・アプリケーションで使用されることができる。種々の実施形態では、制御信号645は、2値方式で制御され、2個の位相状態をもたらす。他の実施形態では、制御信号は、2以外のいくつかの状態によって制御される。一例では、制御信号645は、3元方式で制御され、3個の位相状態をもたらす。
【0041】
第2のAPWG620は、出力信号が光路630を介して伝搬した後、第1のAPWG610によって出力される光学信号を受信するように構成される。種々の実施形態では、第2のAPWG620によって伝搬光学信号に関して生成される位相偏移は、第1のAPWG610によって生成される伝搬光学信号の時間遅延バージョンである。たとえば、第2のシーケンス発生器650はまた、PRBSを生成するように構成されることができる。いくつかの実施形態では、第2のシーケンス発生器650は、第1のシーケンス発生器640と同じであるが、時間遅延ΔTだけ遅延されたビット・パターンのシーケンスを出力するように構成されることができる。
【0042】
第1のAPWG610および第2のAPWG620によって生成される位相偏移がPRBSに応答するとき、一般に、第2のAPWG620によって生成される位相偏移は、第1のAPWG610によって生成される位相偏移に相関付けられないことになる。こうした場合、第2のAPWG620によって生成される位相偏移は、一般に光路630から受信される信号に破壊的に干渉し、第2のAPWG620によって出力される出力光学信号675のパワーをほとんどもたらさない。
【0043】
しかし、遅延要素660によって生成される時間遅延ΔTが、第2のAPWG620によって適用される遅延された時間位相偏移パターンが第1のAPWG610によって適用される到来信号の遅延された時間位相偏移パターンに整列するように調節されるとき、位相偏移パターンは、時間的に相関付けられる。この場合、出力光学信号675のパワーは非ゼロである。そのため、こうして構成されると、第1のAPWG610および第2のAPWG620は、位相整合フィルタとして働く。先に述べたように、整合は、振幅ではなく位相に基づくため、出力光学信号675によって表されるフィルタリング済み信号のSNRは、一般に高く、特に、光学振幅整合フィルタより優れる。
【0044】
非制限的な例証において、出力光学信号675を検出するように構成されたパワーメータ680は、パラメータとしてΔTの遅延が遅延要素660によって適用されたパワー特性690を生成することができる。検出されるパワーは、急峻なピークと低いノイズフロアによって特徴付けられる。これらの特性は、制限なしで、光検出と測距(LIDAR)およびCDMAに基づく光学通信などの位相整合フィルタ600を利用する実施形態の性能の改善をもたらすことが予想される。
【0045】
図7は、光学局部発振器(LO)710を使用する位相整合フィルタ700の実施形態を示す。ある場合には、さらなる信号処理のために、出力光学信号675のパワーを増加させること、または、出力光学信号675をダウンコンバートすることが望ましい場合がある。出力光学信号675およびLO710は、4ポート光学カプラー720に入力される。カプラー720の出力は、平衡検波器730の入力に結合される。一実施形態では、LO710は、出力光学信号675と同じ周波数、たとえばωを有するように構成される。この場合、LO710は、出力光学信号675に建設的に干渉することができる。LO710のパワーを調整することによって、または、平衡検波器730の利得を増加させることによって、平衡検波器は、出力光学信号675の増幅バージョンである出力信号740を生成することができる。
【0046】
別の実施形態では、出力光学信号675の周波数は、周波数ωLO≠ωを有する信号を生成するようにLO710を構成することによって偏移される。カプラー720は、その後、周波数がωLO≠ωの混合生成物を生成する。差(低い)周波数出力が所望される場合、平衡検波器730は、出力信号740による出力のためにωLO−ωの信号を選択するように構成されることができる。
【0047】
ここで図8Aに移動して、全体が800で指定される方法が提供される。方法800は、たとえば、位相整合光学フィルタを形成するために使用されることができる。方法800は開始状態801で始まる。ステップ810にて、光路は、コヒーレント光学信号を受信するように構成される。ステップ820にて、第1の複数の電極は、コヒーレント信号に関して第1の複数の離散的位相偏移を生成するように適合される。位相偏移は、出力光学信号が、入力光学信号に対して複数の離散的位相偏移の和だけ位相偏移されるように適用されることができる。ステップ830にて、第1の位相シーケンス発生器は、コヒーレント光学信号に関して時間位相偏移パターンを生成するように第1の複数の電極を制御するように構成される。方法800は終了状態899で終了する。
【0048】
図8Bは、種々の実施形態で実施されることができる方法800のさらなるステップを示す。ステップ840にて、第2の複数の電極は、コヒーレント信号に関して第2の複数の離散的位相偏移を生成するように構成される。任意選択で、第1の時間位相偏移パターンおよび第2の時間位相偏移パターンは、同じ時間位相偏移パターンである。ステップ850にて、第2の複数の離散的位相偏移は、第1の複数の位相偏移に対して遅延されるように構成される。第2の位相シーケンス発生器は、たとえば、第2の複数の電極を制御するために使用されることができる。ステップ860にて、第2の時間位相偏移パターンは、第1の時間位相偏移パターンに対して遅延時間ΔTだけ遅延されるように構成される。任意選択で、遅延時間ΔTは、第2の時間位相偏移パターンと第1の時間位相偏移パターンとの間に時間相関をもたらす値である。
【0049】
本出願が関連する当業者は、他のまたさらなる追加、削除、置換、および変更が、述べた実施形態に対して行われることができることを認識するであろう。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
装置であって、
入力光学信号を伝搬するように構成された光路と、
前記入力光学信号に関して複数の離散的時間位相偏移を生成するように構成された複数の電極であって、それにより、出力光学信号が、前記複数の離散的時間位相偏移の和だけ前記入力光学信号に対して位相偏移される、複数の電極とを備え、少なくとも1つの時間位相偏移が別の時間位相偏移に対して遅延時間を有する装置。
【請求項2】
前記電極はそれぞれ、前記光路のそれぞれの複数の部分のうちの1つの部分に関連し、それぞれの光路部分は異なる長さを有する、請求項1に記載の装置。
【請求項3】
前記複数の電極は、2個の異なる位相偏移値のうちの任意の位相偏移値だけ前記入力光学信号の位相を偏移させるように構成されたn個の電極を含む、請求項1に記載の装置。
【請求項4】
前記複数の電極は、前記和が約2πラジアンより小さい最大値を有するように構成される、請求項1、2、または3に記載の装置。
【請求項5】
フォトニック整合フィルタであって、
コヒーレント光信号を受取り、前記コヒーレント光信号に第1の時間位相偏移パターンを適用するように適合される第1の光学任意位相波形発生器と、
前記第1の光学任意位相波形発生器の出力信号を受信し、前記出力信号に第2の時間位相偏移パターンを適用するように構成可能な第2の光学任意位相波形発生器と、
前記第1の波形発生器の出力から前記第2の波形発生器の入力に前記コヒーレント光信号を伝搬させるように構成された伝搬経路とを備えるフォトニック整合フィルタ。
【請求項6】
前記第1および第2の時間位相偏移パターンは、位相偏移値の疑似ランダムシーケンスを含む、請求項5に記載のフォトニック整合フィルタ。
【請求項7】
前記第1および第2の光学任意位相波形発生器はそれぞれ、対応する複数の光路部分に関連する複数の電極を含み、それぞれの光路部分は、次の短い光路部分の光路部分長の約2倍程度である長さを有する、請求項5に記載のフォトニック整合フィルタ。
【請求項8】
方法であって、
コヒーレント光学信号を受信するように光路を構成するステップと、
前記コヒーレント信号に関して第1の複数の離散的位相偏移を生成するように第1の複数の電極を適合させるステップであって、それにより、出力光学信号が、前記複数の離散的位相偏移の和だけ前記入力光学信号に対して位相偏移される、適合させるステップと、
前記コヒーレント光学信号に関して第1の時間位相偏移パターンを生成するよう前記第1の複数の電極を制御するように第1の位相シーケンス発生器を構成するステップとを含む方法。
【請求項9】
前記コヒーレント光学信号に関して第2の複数の離散的位相偏移を生成するように構成された第2の複数の電極を設けるステップと、前記コヒーレント光学信号に関して第2の時間位相偏移パターンを生成するよう前記第2の複数の電極を制御するように第2の位相シーケンス発生器を構成するステップとをさらに含む、請求項8に記載の方法。
【請求項10】
前記第2の時間位相偏移パターンは、前記第1の時間位相偏移パターンに対してある遅延時間だけ遅延され、前記遅延時間は、前記第2の時間位相偏移パターンと前記第1の時間位相偏移パターンとの間の時間相関をもたらす値である、請求項9に記載の方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8A】
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【図8B】
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【公表番号】特表2013−514548(P2013−514548A)
【公表日】平成25年4月25日(2013.4.25)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2012−544570(P2012−544570)
【出願日】平成22年11月30日(2010.11.30)
【国際出願番号】PCT/US2010/058291
【国際公開番号】WO2011/075304
【国際公開日】平成23年6月23日(2011.6.23)
【出願人】(391030332)アルカテル−ルーセント (1,149)
【Fターム(参考)】