光ディスク用オーバーコート組成物
【課題】 硬化速度が速く、基材に対する密着性および耐久性に優れ、空気（酸素）による硬化阻害のない光カチオン硬化型光ディスク用オーバーコート組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する化合物および光カチオン重合開始剤を必須成分としてなる。
【解決手段】 少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する化合物および光カチオン重合開始剤を必須成分としてなる。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ディスク用オーバーコート組成物に関する。さらに詳しくは、紫外線等の光照射により高速に硬化し、記録媒体との密着性、硬度、耐久性等に優れた硬化塗膜を形成する、プロペニルエーテル末端基化合物を含む光カチオン硬化型オーバーコート組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、コンパクトディスク記録媒体などの光ディスクの記録膜のためにオーバーコート剤が塗布されている。該オーバーコート剤としては、不飽和ポリエステル、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどの光ラジカル硬化型オーバーコート剤（例えば特開昭６３−９６０３６号公報）が知られている。しかし、光ラジカル重合型の硬化は一般に体積収縮が起こり、記録媒体面に対するの密着性が低下し易く、さらに、アクリル系組成物は特有の臭気を有し、作業環境の汚染や皮膚刺激性が高いという問題点がある。さらに、ＵＶ硬化に際して空気（酸素）が介在するとラジカル硬化反応が阻害されるため、不活性ガス雰囲気中でＵＶ照射を行う必要があり、装置の面でも制約があった。このようなラジカル硬化型の問題点を改善するものとして、エポキシ系の光カチオン硬化性樹脂があるが、該樹脂は光反応性が低いため、硬化時に多大のＵＶエネルギーを必要とする。そのため、高ＵＶエネルギー照射装置を必要としたり、照射時間が長くかかるという欠点があった。このような光カチオン硬化性樹脂の反応性の低さを向上させる方法として、脂環式エポキシ化合物をベースレジンまたは希釈剤として用いる方法が提案されている（特開平５−１８６７５５号公報など）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記脂環式エポキシ化合物を用いた光カチオン硬化型の反応速度も、従来の光ラジカル硬化性樹脂に比べると遅く、しかも工業的に入手できる脂環式エポキシ化合物の種類は限られており、実用性能を満足できるものを得るのは困難であった。本発明は、有機溶剤、刺激性のモノマー、オリゴマーなどを含まず、ＵＶ等の活性エネルギー線を照射することにより高速に硬化し、ディスク基材に対するの密着性、耐久性、硬度等にすぐれ硬化物を与える光ディスク用オーバーコート組成物を提供することを目的とする。本発明のオーバーコート組成物は、従来技術における種々の問題点、すなわち作業者に対する有害性、環境汚染、臭気問題、硬化速度、塗膜物性等を大幅に改善するものである。
【０００４】本発明者らは、上記問題点を解決する光ディスク用オーバーコート剤について鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達した。すなわち本発明は、分子内に少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する化合物（Ａ）および光カチオン重合開始剤（Ｂ）を必須成分とすることを特徴とする光ディスク用オーバーコート組成物である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明における分子内に少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する化合物（Ａ）は、たとえばプロペニルエーテル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーおよびプロペニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選ばれる１種以上のものであり、特に好ましくはプロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーである。
【０００６】上記プロペニルエーテル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマーは、下記一般式（１）で表される化合物である。
Ｘ1［−Ｏ−（ＡＯ）m−Ｒ1］n （１）
｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、ｎ個のｍは０〜２００の整数でありｍの少なくとも１個は１以上である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていても良く、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加でも良い。Ｘ1は多価アルコール残基である。｝
【０００７】該一般式（１）において、Ａは炭素数１〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレン基よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。アラルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。これらのうち好ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン基の炭素数が１２を越えるものでは後述する光カチオン重合開始剤（Ｂ）の溶解性が悪くなる。
【０００８】Ｘ1は多価アルコール残基であり、該多価アルコールとしては、グリセリン、ポリグリセリン（グリセリンの２〜１８量体、例えばジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン等）、グリシドールの開環重合物（重合度が２〜５０００である化合物）、トリメチロールアルカン（トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン等）およびこれらの２〜３量体、モノペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、１，３，５−ペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビタンソルビタングリセリン縮合物等が挙げられる。これらのうち特に好ましいものはグリセリン、ポリグリセリン、ならびにトリメチロールアルカンおよびその２〜３量体である。
【０００９】該一般式（１）において、ｎ個のｍは通常０〜２００の整数であり、ｍの少なくとも１個は通常１以上、好ましくは１〜８０、特に好ましくは１〜５の整数である。ｍが２００を超えると粘度が高くなり（Ｂ）の溶解が困難になる。
【００１０】また、ｎは通常２〜２００、好ましくは３〜１００、特に好ましくは３〜５の整数である。ｎが２００を超えると、粘度が高くなり開始剤（Ｂ）の溶解が困難になる。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。
【００１１】本発明におけるプロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマーとしては、下記一般式（２）、（３）または（４）で表される化合物が挙げられる。
【００１２】
｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ1は多価カルボン酸残基であり、Ｙ2は２価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝
【００１３】該一般式（２）におけるＸ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基である。
【００１４】ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオールの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、１．４−シクロヘキサンジオールなどがあげらる。これらのうち好ましくは、エチレングリコールおよびプロピレングリコールである。
【００１５】ＨＯＸ2ＯＨで表されるアリーレンジオールの具体例としては、カテコール、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビスフェノールＡなどが挙げられる。これらのうち好ましくは、ビスフェノールＡである。
【００１６】ＨＯＸ2ＯＨで表されるポリエーテルジオールの具体例としては、ポリ（オキシエチレン）ジオール、ポリ（オキシプロピレン）ジオール、ポリ（オキシテトラメチレン）ジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物などが挙げられる。これらのうち好ましくは、ポリ（オキシエチレン）ジオールおよびポリ（オキシプロピレン）ジオールである。
【００１７】上記ポリエーテルジオールの重合度は通常１〜２００、好ましくは２〜１００、特に好ましくは３〜２０である。
【００１８】ＨＯＸ2ＯＨで表されるポリウレタンジオールの例としては、下記の（ｉ）と（ｉｉ）との反応生成物が挙げられる。
（ｉ） Ｈ（ＯＸ5）ｍ−ＯＨ で表されるジオール（ただし、ｍは１〜２００の整数、Ｘ5は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である。）
（ｉｉ） ＯＣＮ−Ｚ3−ＮＣＯ で表されるジイソシアネート（ただし、Ｚ3はアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基からなる群から選ばれる２価の基である。）
【００１９】上記（ｉ）のジオールにおいて、ｍは通常１〜２００、好ましくは３〜２０の整数である。
【００２０】上記（ｉ）のジオールにおいて、Ｘ5は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。これらのうち特に好ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン基の炭素数が１２を越えると重合開始剤（Ｂ）の溶解性が悪くなる。
【００２１】上記（ｉｉ）のジイソシアネートの例としては、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ｐ−およびｍ−フェニレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（水添ＭＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、３，３’−ジメチル−４、４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−テトラヒドロナフタリンジイソシアネート、ナフタリン−１，５’−ジイソシアネート、ビス（２−メチル−３−イソシアナトフェニル）メタン、４，４’−ジフェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）などが挙げられる。これらのうち好ましいものは、ＴＤＩ、ＭＤＩ、ＩＰＤＩ、ＴＭＸＤＩ、水添ＭＤＩおよびＨＤＩである。
【００２２】ＨＯＸ2ＯＨで表されるポリカーボネートジオールの例としては下記の一般式で表される化合物が挙げられる。
（ただし、ｍは１〜２００の整数であり、Ｘ6は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である。）
【００２３】上記一般式におけるｍは通常１〜２００、好ましくは３〜２０の整数である。
【００２４】上記一般式におけるＸ6は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。これらのうち好ましくはエチレン基およびプロピレン基である。
【００２５】前記一般式（２）におけるＸ3としては、該式（２）のＸ2として例示したものと同一のものが挙げられ、Ｘ2とＸ3とは同一であっても異なっていてもよい。
【００２６】一般式（２）におけるＹ1は２価以上の多価カルボン酸残基であり、Ｙ2は２価カルボン酸残基である。該２価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸等が挙げられる。３価以上多価カルボン酸としてはトリメリット酸、ピリメリット酸等が挙げられる。これらのうちＹ1、Ｙ2ともにイソフタル酸、テレフタル酸およびアジピン酸から選ばれる１種以上であることが好ましい。
【００２７】一般式（２）において、ｍは通常１〜２００、好ましくは１〜８０、特に好ましくは１〜２０の整数である。ｍが２００を越えると粘度が高くなり重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になる。
【００２８】一般式（２）おいて、ｎは通常２〜２００、好ましくは３〜１００、特に好ましくは３〜２０の整数である。ｎが２００を越えると、粘度が高くなり開始剤（Ｂ）の溶解が困難になる。また、ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。
【００２９】次に下記一般式（３）で表されるポリエステルオリゴマーについて説明する。
｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2はアルキレンまたはアリーレン基であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【００３０】該一般式（３）におけるＸ1は、前記一般式（１）で示されたものと同一のものが挙げられ、Ｘ2、ｍおよびｎは、それぞれ前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられる。
【００３１】次に下記一般式（４）で表されるポリエステルオリゴマーについて説明する。
｛式中、ｍは１〜２００、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれ、ＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝
【００３２】該一般式（４）におけるＸ1は、前記一般式（１）で示されたものと同一のものが挙げられ、Ｘ2、Ｘ3、ｍおよびｎは、それぞれ前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられる。Ｘ2とＸ3は同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】本発明における（Ａ）におけるプロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーは下記一般式（５）で表される化合物である。
｛式中、ｍは０〜２００、ｎは２〜２００の整数であり、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−で表される基であり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表される基である。Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキルジオール、アリールジオール、ポリ エーテルジオール、ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基である。−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−は、ＨＮ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）Ｈで表されるジアミン残基であり、Ｘ4は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、Ｒ2は炭素数２〜１２のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Ｚ1は多価イソシアネート残基であり、Ｚ2は２価イソシアネート残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【００３４】該一般式（５）において、Ｚ2における２価イソシアネートとしては前記式（ｉｉ）で挙げられたものと同一のものが挙げられる。Ｚ1における多価イソシアネートとしては上記２価イソシアネートの他にリジンエステルトリイソシアネート、ジイソシアネートの変性体（イソシアヌレート３量体、ビューレット３量体、トリメチロールプロパンアダクト体など）、トリフェニルメタントリイソシアネート、ポリフェニルメタンポリイソシアネート等が挙げられる。
【００３５】一般式（５）において、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−で表される基であり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表される基である。Ｘ2はＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリ−レンジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｘ2は前記一般式（２）におけるＸ2と同一のものが挙げられる。
【００３６】上記ＨＯＸ2ＯＨがポリエステルジオールの場合、下記の（ｉｉｉ）と（ｉｖ）との反応生成物が挙げられる。
（ｉｉｉ） Ｈ（ＯＸ7）ｍ−ＯＨ で表されるジオール（式中、ｍは１〜２００の整数、Ｘ7は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である。）
（ｉｖ） ＨＯＯＣ−Ｙ3−ＣＯＯＨ で表されるジカルボン酸（式中、Ｙ3はアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である。）
【００３７】上記（ｉｉｉ）のジオールにおいて、ｍは通常１〜２００、好ましくは３〜２０の整数である。
【００３８】上記（ｉｉｉ）のジオールにおいて、Ｘ7は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。これらのうち好ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン基がの炭素数が１２を越えると重合開始剤（Ｂ）の溶解性が悪くなる。
【００３９】上記（ｉｖ）のジカルボン酸の例としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ポリカルボン酸等が挙げられる。これらのうち好ましいものはイソフタル酸、テレフタル酸およびアジピン酸である。Ｘ4は、前記一般式（２）におけるＸ2と同一のものが挙げられ、Ｒ2は前記一般式（１）中のＡで示されたものと同一のものが挙げられ、ｍおよびｎは前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられる。
【００４０】本発明の（Ａ）におけるプロペニルエーテル末端基を有するモノマーは下記一般式（６）または一般式（７）で表される化合物である。
Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６）
｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【００４１】該一般式（６）において、ｎは通常２〜２００、好ましくは２〜６の整数である。ｎが２００を超えると粘度が高くハンドリングが悪くなる。Ｘ1は前記一般式（１）で示したものと同一のものが挙げられる。
【００４２】
｛式中、ｎは２〜２００の整数、Ｘ2はＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ1は多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
該一般式（７）において、ｎは通常２〜２００、好ましくは２〜６の整数である。ｎが２００を超えると粘度が高くハンドリングが悪くなる。Ｙ1およびＸ2は前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられる。
【００４３】本発明において使用される光カチオン重合開始剤（Ｂ）としては、公知の光カチオン重合開始剤が使用できる。該（Ｂ）の具体例としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロフォスフェート、ビス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］スルフィド‐ビス‐ヘキサフルオロアンチモネート、（２、４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等を挙げることができる。これらは市場より容易に入手することができる。市販品の例としては、旭電化（株）製の「ＳＰ−１５０」、「ＳＰ−１７０」；チバ・ガイギー社製の「イルガキュアー２６１」；ユニオンカーバイド社製の「ＵＶＲ−６９７４」、「ＵＶＲ−６９９０」等を挙げることができる。
【００４４】本発明において組成物の粘度を調節する目的で必要により反応性希釈剤（Ｃ）を使用できる。
【００４５】該（Ｃ）としては、下記一般式（８）で表される化合物が挙げられる。
ＣＨ3−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｘ2−Ｏ−Ｒ3 （８）
｛式中、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｒ3は炭素数が２〜１２のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロアルキル基、または水素原子である。｝
【００４６】上記一般式（８）におけるＸ2は、前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられ、Ｒ3は炭素数が２〜１２のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロアルキル基、または水素原子である。
【００４７】本発明において（Ａ）：（Ｂ）の使用割合は重量比で通常（９５〜９９．９）：（０．０１〜５）、好ましくは（９６〜９８）：（２〜４）である。（Ｂ）の比率が０．０５未満では十分な重合開始効果が得られず、５を越えて使用しても硬化速度の更なる向上効果はなく不経済である。
【００４８】また、反応性希釈剤（Ｃ）を用いる場合の該（Ｃ）の量は、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に対して通常５〜６０重量％、好ましくは１０〜３０重量％である。該（Ｃ）の量が６０重量％を越えると、硬化速度が低下する。
【００４９】本発明の組成物には必要により公知の光ラジカル重合性組成物（Ｄ）を含有させることができる。該（Ｄ）の量は、本発明の組成物１００重量部あたり、通常０〜１００重量部、好ましくは０〜４０重量部である。
【００５０】本発明の組成物には、更に必要に応じて、公知のエポキシ樹脂（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等）、着色剤、充填剤、非反応樹脂、レベリング剤、帯電防止剤、溶剤、その他各種添加剤等を含有させることができる。
【００５１】本発明の組成物からなる光ディスク用光カチオン硬化型オーバーコート剤は、光ディスクの記録膜の上に塗布後、ＵＶ等の光エネルギーを照射することにより高速に硬化し、密着性、耐久性等に優れた皮膜を形成する。また、光硬化に際して従来の光ラジカル硬化型のように空気中の酸素による硬化阻害を受けることがなく、さらに硬化時の収縮がほとんどないので被覆時の反りが極めて小さい。
【００５２】光ディスク記録膜上への塗布方法については特に限定はなく、公知の方法（スピンコーターなど）を用いることができる。また、使用できる光としては高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ等から放出されるＵＶなどを挙げることができる。
【００５３】
【実施例】以下、実施例を以て本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、配合組成欄の数値は重量部である。
【００５４】実施例１〜６、比較例１〜３表１に示した配合処方で調製したオーバーコート剤を、ポリカーボネート基板にスパッタリングにより記録膜を設けた光ディスクの上に、スピンコーターで塗布し、下記評価方法および評価基準にしたがい、光反応性および硬化膜の耐湿性の評価をおこなった。得られた評価結果を表１に示す。
光反応性：オーバーコート塗布面に、高圧水銀灯でＵＶを所定量照射して硬化性を観察した。硬化性は、一定エネルギー量のＵＶを照射後の被覆面を綿棒でこすり、未硬化物の綿への付着の程度により評価した。
耐湿性 ：９００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶを照射して得た硬化膜を有する光ディスクを、７０℃・９０％ＲＨの雰囲気中に１０００時間放置し、硬化膜の異常の有無を評価した。
【００５５】
【表１】
【００５６】表１に示した配合に用いた化合物は以下の通りである。なお、ＣＨ3−ＣＨ＝ＣＨ−基（プロペニル基）はＰｒと略す。
プロペニルエーテル末端基化合物（１）：Ｐｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）12−Ｐｒプロペニルエーテル末端基化合物（２）：
（Ｙ：テレフタル酸残基）
プロペニルエーテル末端基化合物（３）：
（Ｘ：トリエチレングリコール残基）
（Ｚ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート残基）
プロペニルエーテル末端基化合物（４）：
（Ｘ：トリエチレングリコール残基）
プロペニルエーテル末端基化合物（５）：Ｒ［Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）12−Ｐｒ］3（Ｒ：グリセリン残基）
プロペニルエーテル末端基化合物（６）：
（Ｘ1：トリエチレングリレリン残基）
（Ｙ：テレフタル酸残基）
（Ｘ2：次式のポリウレタンジオールの残基）
（Ｚ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート残基）
アクリレート末端基化合物（７）：
エポキシ末端基化合物（８）：「エピコート８２８」（油化シェル社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂）
脂環式エポキシ末端基化合物（９）：「ＥＲＬ−４２２１」（ユニオンカーバイド社製、脂環式エポキシ樹脂）
反応性希釈剤（１０）：Ｐｒ−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＨ反応性希釈剤（１１）：２−ヒドロキエチルアクリレート反応性希釈剤（１２）：「ＢＲＬ−４２０６」（ユニオンカーバイド社製、脂環式エポキシ樹脂希釈剤）
光カチオン重合触媒（１３）：「ＵＶＲ−６９７４」｛ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートとビス［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネートの混合物の５０％エチレンカーボネート溶液、ユニオンカーバイド社製｝
光ラジカル重合触媒（１４）：「イルガキュアー１８４」（チバガイギー社製）
【００５７】
【発明の効果】本発明のプロペニルエーテル末端基を有する化合物を含む光カチオン硬化型の光ディスク用オーバーコート組成物は、従来のラジカル重合型のアクリレート系のものよりも硬化性が良く、ディスク基板との密着性および耐湿性の優れた硬化塗膜を形成する。また、従来公知のエポキシ系ＵＶカチオン硬化型樹脂を用いたものに比べても高速硬化性である。上記効果を奏することから、本発明の光カチオン硬化型組成物は、特に光ディスクの記録膜を保護するためのオーバーコート剤として極めて有用である。
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ディスク用オーバーコート組成物に関する。さらに詳しくは、紫外線等の光照射により高速に硬化し、記録媒体との密着性、硬度、耐久性等に優れた硬化塗膜を形成する、プロペニルエーテル末端基化合物を含む光カチオン硬化型オーバーコート組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、コンパクトディスク記録媒体などの光ディスクの記録膜のためにオーバーコート剤が塗布されている。該オーバーコート剤としては、不飽和ポリエステル、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどの光ラジカル硬化型オーバーコート剤（例えば特開昭６３−９６０３６号公報）が知られている。しかし、光ラジカル重合型の硬化は一般に体積収縮が起こり、記録媒体面に対するの密着性が低下し易く、さらに、アクリル系組成物は特有の臭気を有し、作業環境の汚染や皮膚刺激性が高いという問題点がある。さらに、ＵＶ硬化に際して空気（酸素）が介在するとラジカル硬化反応が阻害されるため、不活性ガス雰囲気中でＵＶ照射を行う必要があり、装置の面でも制約があった。このようなラジカル硬化型の問題点を改善するものとして、エポキシ系の光カチオン硬化性樹脂があるが、該樹脂は光反応性が低いため、硬化時に多大のＵＶエネルギーを必要とする。そのため、高ＵＶエネルギー照射装置を必要としたり、照射時間が長くかかるという欠点があった。このような光カチオン硬化性樹脂の反応性の低さを向上させる方法として、脂環式エポキシ化合物をベースレジンまたは希釈剤として用いる方法が提案されている（特開平５−１８６７５５号公報など）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記脂環式エポキシ化合物を用いた光カチオン硬化型の反応速度も、従来の光ラジカル硬化性樹脂に比べると遅く、しかも工業的に入手できる脂環式エポキシ化合物の種類は限られており、実用性能を満足できるものを得るのは困難であった。本発明は、有機溶剤、刺激性のモノマー、オリゴマーなどを含まず、ＵＶ等の活性エネルギー線を照射することにより高速に硬化し、ディスク基材に対するの密着性、耐久性、硬度等にすぐれ硬化物を与える光ディスク用オーバーコート組成物を提供することを目的とする。本発明のオーバーコート組成物は、従来技術における種々の問題点、すなわち作業者に対する有害性、環境汚染、臭気問題、硬化速度、塗膜物性等を大幅に改善するものである。
【０００４】本発明者らは、上記問題点を解決する光ディスク用オーバーコート剤について鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達した。すなわち本発明は、分子内に少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する化合物（Ａ）および光カチオン重合開始剤（Ｂ）を必須成分とすることを特徴とする光ディスク用オーバーコート組成物である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明における分子内に少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する化合物（Ａ）は、たとえばプロペニルエーテル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーおよびプロペニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選ばれる１種以上のものであり、特に好ましくはプロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーである。
【０００６】上記プロペニルエーテル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマーは、下記一般式（１）で表される化合物である。
Ｘ1［−Ｏ−（ＡＯ）m−Ｒ1］n （１）
｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、ｎ個のｍは０〜２００の整数でありｍの少なくとも１個は１以上である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていても良く、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加でも良い。Ｘ1は多価アルコール残基である。｝
【０００７】該一般式（１）において、Ａは炭素数１〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレン基よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。アラルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。これらのうち好ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン基の炭素数が１２を越えるものでは後述する光カチオン重合開始剤（Ｂ）の溶解性が悪くなる。
【０００８】Ｘ1は多価アルコール残基であり、該多価アルコールとしては、グリセリン、ポリグリセリン（グリセリンの２〜１８量体、例えばジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン等）、グリシドールの開環重合物（重合度が２〜５０００である化合物）、トリメチロールアルカン（トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン等）およびこれらの２〜３量体、モノペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、１，３，５−ペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビタンソルビタングリセリン縮合物等が挙げられる。これらのうち特に好ましいものはグリセリン、ポリグリセリン、ならびにトリメチロールアルカンおよびその２〜３量体である。
【０００９】該一般式（１）において、ｎ個のｍは通常０〜２００の整数であり、ｍの少なくとも１個は通常１以上、好ましくは１〜８０、特に好ましくは１〜５の整数である。ｍが２００を超えると粘度が高くなり（Ｂ）の溶解が困難になる。
【００１０】また、ｎは通常２〜２００、好ましくは３〜１００、特に好ましくは３〜５の整数である。ｎが２００を超えると、粘度が高くなり開始剤（Ｂ）の溶解が困難になる。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。
【００１１】本発明におけるプロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマーとしては、下記一般式（２）、（３）または（４）で表される化合物が挙げられる。
【００１２】
｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ1は多価カルボン酸残基であり、Ｙ2は２価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝
【００１３】該一般式（２）におけるＸ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基である。
【００１４】ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオールの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、１．４−シクロヘキサンジオールなどがあげらる。これらのうち好ましくは、エチレングリコールおよびプロピレングリコールである。
【００１５】ＨＯＸ2ＯＨで表されるアリーレンジオールの具体例としては、カテコール、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビスフェノールＡなどが挙げられる。これらのうち好ましくは、ビスフェノールＡである。
【００１６】ＨＯＸ2ＯＨで表されるポリエーテルジオールの具体例としては、ポリ（オキシエチレン）ジオール、ポリ（オキシプロピレン）ジオール、ポリ（オキシテトラメチレン）ジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物などが挙げられる。これらのうち好ましくは、ポリ（オキシエチレン）ジオールおよびポリ（オキシプロピレン）ジオールである。
【００１７】上記ポリエーテルジオールの重合度は通常１〜２００、好ましくは２〜１００、特に好ましくは３〜２０である。
【００１８】ＨＯＸ2ＯＨで表されるポリウレタンジオールの例としては、下記の（ｉ）と（ｉｉ）との反応生成物が挙げられる。
（ｉ） Ｈ（ＯＸ5）ｍ−ＯＨ で表されるジオール（ただし、ｍは１〜２００の整数、Ｘ5は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である。）
（ｉｉ） ＯＣＮ−Ｚ3−ＮＣＯ で表されるジイソシアネート（ただし、Ｚ3はアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基からなる群から選ばれる２価の基である。）
【００１９】上記（ｉ）のジオールにおいて、ｍは通常１〜２００、好ましくは３〜２０の整数である。
【００２０】上記（ｉ）のジオールにおいて、Ｘ5は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。これらのうち特に好ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン基の炭素数が１２を越えると重合開始剤（Ｂ）の溶解性が悪くなる。
【００２１】上記（ｉｉ）のジイソシアネートの例としては、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ｐ−およびｍ−フェニレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（水添ＭＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、３，３’−ジメチル−４、４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−テトラヒドロナフタリンジイソシアネート、ナフタリン−１，５’−ジイソシアネート、ビス（２−メチル−３−イソシアナトフェニル）メタン、４，４’−ジフェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）などが挙げられる。これらのうち好ましいものは、ＴＤＩ、ＭＤＩ、ＩＰＤＩ、ＴＭＸＤＩ、水添ＭＤＩおよびＨＤＩである。
【００２２】ＨＯＸ2ＯＨで表されるポリカーボネートジオールの例としては下記の一般式で表される化合物が挙げられる。
（ただし、ｍは１〜２００の整数であり、Ｘ6は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である。）
【００２３】上記一般式におけるｍは通常１〜２００、好ましくは３〜２０の整数である。
【００２４】上記一般式におけるＸ6は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。これらのうち好ましくはエチレン基およびプロピレン基である。
【００２５】前記一般式（２）におけるＸ3としては、該式（２）のＸ2として例示したものと同一のものが挙げられ、Ｘ2とＸ3とは同一であっても異なっていてもよい。
【００２６】一般式（２）におけるＹ1は２価以上の多価カルボン酸残基であり、Ｙ2は２価カルボン酸残基である。該２価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸等が挙げられる。３価以上多価カルボン酸としてはトリメリット酸、ピリメリット酸等が挙げられる。これらのうちＹ1、Ｙ2ともにイソフタル酸、テレフタル酸およびアジピン酸から選ばれる１種以上であることが好ましい。
【００２７】一般式（２）において、ｍは通常１〜２００、好ましくは１〜８０、特に好ましくは１〜２０の整数である。ｍが２００を越えると粘度が高くなり重合開始剤（Ｂ）の溶解が困難になる。
【００２８】一般式（２）おいて、ｎは通常２〜２００、好ましくは３〜１００、特に好ましくは３〜２０の整数である。ｎが２００を越えると、粘度が高くなり開始剤（Ｂ）の溶解が困難になる。また、ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。
【００２９】次に下記一般式（３）で表されるポリエステルオリゴマーについて説明する。
｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2はアルキレンまたはアリーレン基であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【００３０】該一般式（３）におけるＸ1は、前記一般式（１）で示されたものと同一のものが挙げられ、Ｘ2、ｍおよびｎは、それぞれ前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられる。
【００３１】次に下記一般式（４）で表されるポリエステルオリゴマーについて説明する。
｛式中、ｍは１〜２００、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれ、ＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝
【００３２】該一般式（４）におけるＸ1は、前記一般式（１）で示されたものと同一のものが挙げられ、Ｘ2、Ｘ3、ｍおよびｎは、それぞれ前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられる。Ｘ2とＸ3は同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】本発明における（Ａ）におけるプロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーは下記一般式（５）で表される化合物である。
｛式中、ｍは０〜２００、ｎは２〜２００の整数であり、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−で表される基であり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表される基である。Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキルジオール、アリールジオール、ポリ エーテルジオール、ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基である。−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−は、ＨＮ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）Ｈで表されるジアミン残基であり、Ｘ4は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、Ｒ2は炭素数２〜１２のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Ｚ1は多価イソシアネート残基であり、Ｚ2は２価イソシアネート残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【００３４】該一般式（５）において、Ｚ2における２価イソシアネートとしては前記式（ｉｉ）で挙げられたものと同一のものが挙げられる。Ｚ1における多価イソシアネートとしては上記２価イソシアネートの他にリジンエステルトリイソシアネート、ジイソシアネートの変性体（イソシアヌレート３量体、ビューレット３量体、トリメチロールプロパンアダクト体など）、トリフェニルメタントリイソシアネート、ポリフェニルメタンポリイソシアネート等が挙げられる。
【００３５】一般式（５）において、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−で表される基であり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表される基である。Ｘ2はＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリ−レンジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｘ2は前記一般式（２）におけるＸ2と同一のものが挙げられる。
【００３６】上記ＨＯＸ2ＯＨがポリエステルジオールの場合、下記の（ｉｉｉ）と（ｉｖ）との反応生成物が挙げられる。
（ｉｉｉ） Ｈ（ＯＸ7）ｍ−ＯＨ で表されるジオール（式中、ｍは１〜２００の整数、Ｘ7は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である。）
（ｉｖ） ＨＯＯＣ−Ｙ3−ＣＯＯＨ で表されるジカルボン酸（式中、Ｙ3はアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である。）
【００３７】上記（ｉｉｉ）のジオールにおいて、ｍは通常１〜２００、好ましくは３〜２０の整数である。
【００３８】上記（ｉｉｉ）のジオールにおいて、Ｘ7は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。これらのうち好ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン基がの炭素数が１２を越えると重合開始剤（Ｂ）の溶解性が悪くなる。
【００３９】上記（ｉｖ）のジカルボン酸の例としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ポリカルボン酸等が挙げられる。これらのうち好ましいものはイソフタル酸、テレフタル酸およびアジピン酸である。Ｘ4は、前記一般式（２）におけるＸ2と同一のものが挙げられ、Ｒ2は前記一般式（１）中のＡで示されたものと同一のものが挙げられ、ｍおよびｎは前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられる。
【００４０】本発明の（Ａ）におけるプロペニルエーテル末端基を有するモノマーは下記一般式（６）または一般式（７）で表される化合物である。
Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６）
｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【００４１】該一般式（６）において、ｎは通常２〜２００、好ましくは２〜６の整数である。ｎが２００を超えると粘度が高くハンドリングが悪くなる。Ｘ1は前記一般式（１）で示したものと同一のものが挙げられる。
【００４２】
｛式中、ｎは２〜２００の整数、Ｘ2はＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ1は多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
該一般式（７）において、ｎは通常２〜２００、好ましくは２〜６の整数である。ｎが２００を超えると粘度が高くハンドリングが悪くなる。Ｙ1およびＸ2は前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられる。
【００４３】本発明において使用される光カチオン重合開始剤（Ｂ）としては、公知の光カチオン重合開始剤が使用できる。該（Ｂ）の具体例としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロフォスフェート、ビス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］スルフィド‐ビス‐ヘキサフルオロアンチモネート、（２、４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等を挙げることができる。これらは市場より容易に入手することができる。市販品の例としては、旭電化（株）製の「ＳＰ−１５０」、「ＳＰ−１７０」；チバ・ガイギー社製の「イルガキュアー２６１」；ユニオンカーバイド社製の「ＵＶＲ−６９７４」、「ＵＶＲ−６９９０」等を挙げることができる。
【００４４】本発明において組成物の粘度を調節する目的で必要により反応性希釈剤（Ｃ）を使用できる。
【００４５】該（Ｃ）としては、下記一般式（８）で表される化合物が挙げられる。
ＣＨ3−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｘ2−Ｏ−Ｒ3 （８）
｛式中、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｒ3は炭素数が２〜１２のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロアルキル基、または水素原子である。｝
【００４６】上記一般式（８）におけるＸ2は、前記一般式（２）で示されたものと同一のものが挙げられ、Ｒ3は炭素数が２〜１２のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロアルキル基、または水素原子である。
【００４７】本発明において（Ａ）：（Ｂ）の使用割合は重量比で通常（９５〜９９．９）：（０．０１〜５）、好ましくは（９６〜９８）：（２〜４）である。（Ｂ）の比率が０．０５未満では十分な重合開始効果が得られず、５を越えて使用しても硬化速度の更なる向上効果はなく不経済である。
【００４８】また、反応性希釈剤（Ｃ）を用いる場合の該（Ｃ）の量は、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に対して通常５〜６０重量％、好ましくは１０〜３０重量％である。該（Ｃ）の量が６０重量％を越えると、硬化速度が低下する。
【００４９】本発明の組成物には必要により公知の光ラジカル重合性組成物（Ｄ）を含有させることができる。該（Ｄ）の量は、本発明の組成物１００重量部あたり、通常０〜１００重量部、好ましくは０〜４０重量部である。
【００５０】本発明の組成物には、更に必要に応じて、公知のエポキシ樹脂（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等）、着色剤、充填剤、非反応樹脂、レベリング剤、帯電防止剤、溶剤、その他各種添加剤等を含有させることができる。
【００５１】本発明の組成物からなる光ディスク用光カチオン硬化型オーバーコート剤は、光ディスクの記録膜の上に塗布後、ＵＶ等の光エネルギーを照射することにより高速に硬化し、密着性、耐久性等に優れた皮膜を形成する。また、光硬化に際して従来の光ラジカル硬化型のように空気中の酸素による硬化阻害を受けることがなく、さらに硬化時の収縮がほとんどないので被覆時の反りが極めて小さい。
【００５２】光ディスク記録膜上への塗布方法については特に限定はなく、公知の方法（スピンコーターなど）を用いることができる。また、使用できる光としては高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ等から放出されるＵＶなどを挙げることができる。
【００５３】
【実施例】以下、実施例を以て本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、配合組成欄の数値は重量部である。
【００５４】実施例１〜６、比較例１〜３表１に示した配合処方で調製したオーバーコート剤を、ポリカーボネート基板にスパッタリングにより記録膜を設けた光ディスクの上に、スピンコーターで塗布し、下記評価方法および評価基準にしたがい、光反応性および硬化膜の耐湿性の評価をおこなった。得られた評価結果を表１に示す。
光反応性：オーバーコート塗布面に、高圧水銀灯でＵＶを所定量照射して硬化性を観察した。硬化性は、一定エネルギー量のＵＶを照射後の被覆面を綿棒でこすり、未硬化物の綿への付着の程度により評価した。
耐湿性 ：９００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶを照射して得た硬化膜を有する光ディスクを、７０℃・９０％ＲＨの雰囲気中に１０００時間放置し、硬化膜の異常の有無を評価した。
【００５５】
【表１】
【００５６】表１に示した配合に用いた化合物は以下の通りである。なお、ＣＨ3−ＣＨ＝ＣＨ−基（プロペニル基）はＰｒと略す。
プロペニルエーテル末端基化合物（１）：Ｐｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）12−Ｐｒプロペニルエーテル末端基化合物（２）：
（Ｙ：テレフタル酸残基）
プロペニルエーテル末端基化合物（３）：
（Ｘ：トリエチレングリコール残基）
（Ｚ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート残基）
プロペニルエーテル末端基化合物（４）：
（Ｘ：トリエチレングリコール残基）
プロペニルエーテル末端基化合物（５）：Ｒ［Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）12−Ｐｒ］3（Ｒ：グリセリン残基）
プロペニルエーテル末端基化合物（６）：
（Ｘ1：トリエチレングリレリン残基）
（Ｙ：テレフタル酸残基）
（Ｘ2：次式のポリウレタンジオールの残基）
（Ｚ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート残基）
アクリレート末端基化合物（７）：
エポキシ末端基化合物（８）：「エピコート８２８」（油化シェル社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂）
脂環式エポキシ末端基化合物（９）：「ＥＲＬ−４２２１」（ユニオンカーバイド社製、脂環式エポキシ樹脂）
反応性希釈剤（１０）：Ｐｒ−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＨ反応性希釈剤（１１）：２−ヒドロキエチルアクリレート反応性希釈剤（１２）：「ＢＲＬ−４２０６」（ユニオンカーバイド社製、脂環式エポキシ樹脂希釈剤）
光カチオン重合触媒（１３）：「ＵＶＲ−６９７４」｛ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートとビス［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネートの混合物の５０％エチレンカーボネート溶液、ユニオンカーバイド社製｝
光ラジカル重合触媒（１４）：「イルガキュアー１８４」（チバガイギー社製）
【００５７】
【発明の効果】本発明のプロペニルエーテル末端基を有する化合物を含む光カチオン硬化型の光ディスク用オーバーコート組成物は、従来のラジカル重合型のアクリレート系のものよりも硬化性が良く、ディスク基板との密着性および耐湿性の優れた硬化塗膜を形成する。また、従来公知のエポキシ系ＵＶカチオン硬化型樹脂を用いたものに比べても高速硬化性である。上記効果を奏することから、本発明の光カチオン硬化型組成物は、特に光ディスクの記録膜を保護するためのオーバーコート剤として極めて有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】 分子内に少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する化合物（Ａ）および光カチオン重合開始剤（Ｂ）を必須成分とすることを特徴とする光ディスク用オーバーコート組成物。
【請求項２】 （Ａ）が、プロペニルエーテル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーおよびプロペニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選ばれる１種以上の化合物である請求項１記載の組成物。
【請求項３】 プロペニルエーテル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマーが、下記一般式（１）で表されるオリゴマーである請求項２記載の組成物。
Ｘ1［−Ｏ−（ＡＯ）m−Ｒ1］n （１）
｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、ｎ個のｍは０〜２００の整数でありｍの少なくとも１個は１以上である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていてもよく、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加でもよい。Ｘ1は多価アルコール残基である。｝
【請求項４】 プロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマーが下記一般式（２）、一般式（３）、または一般式（４）で表されるオリゴマーである請求項２記載の組成物。
｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ1は多価カルボン酸残基であり、Ｙ2は２価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2はアルキレンまたはアリーレン基であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
｛式中、ｍは１〜２００、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれ、ＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝
【請求項５】 プロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーが下記一般式（５）で表されるオリゴマーである請求項２記載の組成物。
｛式中、ｍは０〜２００、ｎは２〜２００の整数であり、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−で表される基であり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表される基である。Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキルジオール、アリールジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基である。−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−はＨＮ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）Ｈで表されるジアミン残基であり、Ｘ4は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、Ｒ2は炭素数２〜１２のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Ｚ1は多価イソシアネート残基であり、Ｚ2は２価イソシアネート残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【請求項６】 プロペニルエーテル末端基を有するモノマーが下記一般式（６）または一般式（７）で表される化合物である請求項２記載の組成物。
Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６）
｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
｛式中、ｎは２−２００、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ1は多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【請求項７】 （Ａ）：（Ｂ）の重量比が（９５〜９９．９）：（０．０１〜５）である請求項１〜６のいずれか記載の組成物。
【請求項８】 さらに反応性希釈剤（Ｃ）が配合されてなり、（Ｃ）の含量が、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に対して５〜６０重量％である請求項１〜７のいずれか記載の組成物。
【請求項９】 （Ｃ）が下記一般式（８）で表される反応性希釈剤である請求項８記載の組成物。
ＣＨ3−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｘ2−Ｏ−Ｒ3 （８）
｛式中、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｒ3は炭素数が２〜１２のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル基または水素原子である。｝
【請求項１】 分子内に少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する化合物（Ａ）および光カチオン重合開始剤（Ｂ）を必須成分とすることを特徴とする光ディスク用オーバーコート組成物。
【請求項２】 （Ａ）が、プロペニルエーテル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーおよびプロペニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選ばれる１種以上の化合物である請求項１記載の組成物。
【請求項３】 プロペニルエーテル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマーが、下記一般式（１）で表されるオリゴマーである請求項２記載の組成物。
Ｘ1［−Ｏ−（ＡＯ）m−Ｒ1］n （１）
｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、ｎ個のｍは０〜２００の整数でありｍの少なくとも１個は１以上である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていてもよく、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加でもよい。Ｘ1は多価アルコール残基である。｝
【請求項４】 プロペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマーが下記一般式（２）、一般式（３）、または一般式（４）で表されるオリゴマーである請求項２記載の組成物。
｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ1は多価カルボン酸残基であり、Ｙ2は２価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2はアルキレンまたはアリーレン基であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
｛式中、ｍは１〜２００、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれ、ＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝
【請求項５】 プロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマーが下記一般式（５）で表されるオリゴマーである請求項２記載の組成物。
｛式中、ｍは０〜２００、ｎは２〜２００の整数であり、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−で表される基であり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表される基である。Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキルジオール、アリールジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基である。−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−はＨＮ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）Ｈで表されるジアミン残基であり、Ｘ4は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、Ｒ2は炭素数２〜１２のアルキル、アリール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Ｚ1は多価イソシアネート残基であり、Ｚ2は２価イソシアネート残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【請求項６】 プロペニルエーテル末端基を有するモノマーが下記一般式（６）または一般式（７）で表される化合物である請求項２記載の組成物。
Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６）
｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
｛式中、ｎは２−２００、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ1は多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【請求項７】 （Ａ）：（Ｂ）の重量比が（９５〜９９．９）：（０．０１〜５）である請求項１〜６のいずれか記載の組成物。
【請求項８】 さらに反応性希釈剤（Ｃ）が配合されてなり、（Ｃ）の含量が、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に対して５〜６０重量％である請求項１〜７のいずれか記載の組成物。
【請求項９】 （Ｃ）が下記一般式（８）で表される反応性希釈剤である請求項８記載の組成物。
ＣＨ3−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｘ2−Ｏ−Ｒ3 （８）
｛式中、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｒ3は炭素数が２〜１２のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル基または水素原子である。｝
【公開番号】特開平９−１４３３９１
【公開日】平成９年（１９９７）６月３日
【国際特許分類】
【出願番号】特願平７−３２６３９２
【出願日】平成７年（１９９５）１１月２０日
【出願人】（０００００２２８８）三洋化成工業株式会社 (1,719)
【公開日】平成９年（１９９７）６月３日
【国際特許分類】
【出願日】平成７年（１９９５）１１月２０日
【出願人】（０００００２２８８）三洋化成工業株式会社 (1,719)
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