光学材料用調合装置の洗浄方法
【課題】
光学材料用組成物調合装置の接液面を簡便に洗浄すること。
【解決手段】
調合装置の接液面にフッ素樹脂によりライニングまたはコーティングを施し、メルカプト基を1分子あたり1個以上有する化合物を一種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％である洗浄液を、回転式ノズルを用いて調合装置の接液面に噴霧したあと、さらに沸点３０℃〜８０℃の有機溶剤を同様に噴霧することにより、少量の洗浄液にて光学材料用組成物調合装置の接液面より光学材料用組成物を簡便に洗浄することができる。
光学材料用組成物調合装置の接液面を簡便に洗浄すること。
【解決手段】
調合装置の接液面にフッ素樹脂によりライニングまたはコーティングを施し、メルカプト基を1分子あたり1個以上有する化合物を一種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％である洗浄液を、回転式ノズルを用いて調合装置の接液面に噴霧したあと、さらに沸点３０℃〜８０℃の有機溶剤を同様に噴霧することにより、少量の洗浄液にて光学材料用組成物調合装置の接液面より光学材料用組成物を簡便に洗浄することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター、接着剤等の光学製品、中でも、眼鏡用プラスチックレンズ製造装置の洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラスチック材料は軽量かつ靭性に富み、また染色が容易であることから、近年では各種光学材料、特に眼鏡レンズに多く用いられている。光学材料、中でも眼鏡レンズに最も要求される、主たる性能は高屈折率であり、高屈折率化によりレンズの薄肉化が実現される。近年、高屈折率化を目的として硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を使用した光学材料が報告されている（特許文献１〜３）が、光学材料用調合装置の洗浄方法に関する記載および開示はない。
【０００３】
【特許文献１】特許３５６２５７９号公報
【特許文献２】特許３７３８８１７号公報
【特許文献３】特開２００４−１３７４８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
これらの光学材料用組成物は、熱硬化性である場合が多く、この調合に供した装置類を洗浄する際に先に調合した組成物が残留していると、これら組成物が徐々に硬化して装置に固着し、その除去が困難になる場合がある。接液面にライニングまたはコーティングが施されていない場合、接液面に光学材料組成物が付着しやすく、周知の洗浄方法では残留した組成物を十分に除去できない。
【０００５】
一般的に熱硬化性の光学材料用組成物の調合に供した装置類を洗浄する際には、市販の洗浄剤あるいは通常の有機溶媒が使用されており、物理的な拭き取りを併用する場合もあるが、すべての接液面を洗浄するためには、多くの場合、多量の洗浄剤あるいは有機溶剤が必要であり、物理的拭き取りを実施する場合は、作業環境と時間的な側面で多くの問題がみられる。また、これら従来手法で洗浄した場合には、度々、洗浄残さが装置に残留し、次回の光学材料用組成物の調合において、組成物に異常および異物の存在が見られる場合があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者はこの発明の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、
（ａ）下記（１）式で表される化合物と、
【化１】
（ｂ）硫黄原子と、
（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合させる装置において、調合装置接液面にライニングあるいはコーティングを施し、かつ調合装置に設置した回転式ノズルから洗浄液およびリンス液を噴霧することにより、少量の洗浄液で簡便に洗浄できるという新たな事実を見出し、解決に至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、以下のようである。
１．(ａ)（１）式で表される化合物と、（ｂ）硫黄原子と、（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合させる装置において、調合装置接液面にライニングあるいはコーティングを施し、かつ調合装置に設置した回転式ノズルから洗浄液およびリンス液を噴霧することを特徴とする光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
２．調合装置接液面のライニングあるいはコーティングが、フッ素樹脂により施されていることを特徴とする、第１項記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
３．洗浄液が、メルカプト基を１分子あたり１個以上有する化合物を１種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％であることを特徴とする、第１項記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
４．リンス液が、沸点３０℃〜８０℃の有機溶剤であることを特徴とする、請求項１記載の光学材料用調合装置の接液面の洗浄方法。
【発明の効果】
【０００８】
接液面にライニングまたはコーティングを施した調合装置を使用して、
（ａ）（１）式で表される化合物と、
（ｂ）硫黄原子と、
（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合した後、回転式ノズルを調合装置に接続し、メルカプト基を１分子あたり１個以上有する化合物を１種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％である洗浄液を接液面に対して噴霧することで、少量の洗浄液によって、接液面に残留した光学材料用組成物を容易に除去できる。その後、リンス液を同様に噴霧することにより、少量のリンス液によって、洗浄液を容易に除去できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明で使用される調合装置の母質は、特に制約を受けないが、耐久性などの理由により、ステンレス鋼（ＳＵＳ）などの金属製であることが好ましい。
【００１０】
本発明で使用される調合装置の接液面のライニングあるいはコーティングに用いる材質は、フッ素樹脂であることが好ましい。具体的には、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン・四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）などが挙げられる。これらは単独でも、あるいは２種類以上を複合して使用しても良い。より好ましくは、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、およびＥＴＦＥであり、更に好ましくは、ＰＦＡ、ＰＴＦＥである。
【００１１】
本発明で使用される洗浄液としては、メルカプト基を１分子あたり１個以上含む化合物が好ましい。具体的には、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、ｎ−プロピルメルカプタン、ｎ−ブチルメルカプタン、アリルメルカプタン、ｎ−ヘキシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−デシルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−オクタデシルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、ｉ−プロピルメルカプタン、ｔ−ブチルメルカプタン、ｔ−ノニルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、フェニルメルカプタン、ベンジルメルカプタン、３−メチルフェニルメルカプタン、４−メチルフェニルメルカプタン、４−クロロベンジルメルカプタン、４−ビニルベンジルメルカプタン、３−ビニルベンジルメルカプタン、メチルメルカプトプロピオネート、２−メルカプトエタノール、３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、２−メルカプト−１，３−プロパンジオール、メルカプト酢酸、メルカプトグリコール酸、メルカプトプロピオン酸、メタンジチオール、１，２−ジメルカプトエタン、１，２−ジメルカプトプロパン、２，２−ジメルカプトプロパン、１，４−ジメルカプトブタン、１，６−ジメルカプトヘキサン、ビス（メルカプトメチル）エーテル、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、ビス（メルカプトメチル）スルフィド、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、ビス（１，２−ジメルカプトエチル）スルフィド、ビス（２，３−ジメルカプトプロピル）スルフィド、１，２−ビス（２−メルカプトエチルオキシ）エタン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−１，３−ジメルカプトプロパン、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、１，２，３−トリメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル−１，３−ジメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル−１，４−ジメルカプトブタン、２−（２−メルカプトエチルチオ）−１，３−ジメルカプトプロパン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、２，４−ジメルカプトメチル−１，５−ジメルカプト−３−チアペンタン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、１，２，７−トリメルカプト−４，６−ジチアヘプタン、１，２，９−トリメルカプト−４，６，８−トリチアノナン、１，２，１０，１１−テトラメルカプト−４，６，８−トリチアウンデカン、１，２，１２，１３−テトラメルカプト−４，６，８，１０−テトラチアトリデカン、１，１，１−トリス（メルカプトメチル）プロパン、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，２−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ジメルカプトシクロヘキサン、１，４−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（２−メルカプトエチルチオメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１−チアン、２，５−ビス（メルカプトエチル）−１−チアン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−チオフェン、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、２，２′−ジメルカプトビフェニル、４，４′−ジメルカプトビフェニル、ビス（４−メルカプトフェニル）メタン、２，２−ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトフェニル）エーテル、ビス（４−メルカプトフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトフェニル）スルホン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）メタン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）エーテル、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）スルフィド、４−ヒドロキシチオフェノール、メルカプト安息香酸などが挙げられる。これらメルカプタン類は、単独でも、あるいは２種類以上を混合して使用しても良い。メルカプタン類のうち好ましいものは、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−エタンジチオール、３−メルカプトプロピオン酸、およびビス（２−メルカプトエチル）スルフィドであり、更に好ましくは、メルカプト基を１分子あたり２個以上有するメルカプト化合物であり、具体的には、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−エタンジチオール、およびビス（２−メルカプトエチル）スルフィドである。
【００１２】
本発明で使用される洗浄液に含まれる、メルカプト基を１分子あたり１個以上含む化合物の好ましい濃度は１重量％〜１００重量％、さらに好ましくは１０重量％〜１００重量％である。希釈剤としては、公知の有機溶剤を使用することができる。
【００１３】
本発明で使用されるリンス液は、前記洗浄液を除去でき、かつ次バッチの運転までの間に容易に除去できることを目的として使用できる有機溶剤なら全て含まれるが、沸点３０℃〜８０℃の有機溶剤が好適に使用できる。具体的には、エーテル類、ケトン類、アルコール類、エステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などであり、更に好ましくは非極性有機溶剤であるテトラヒドロフラン（沸点６６.０℃）、ジクロロメタン（沸点４０．０℃）、クロロホルム（沸点６１.８℃）である。これらは単独でも、２種類以上を混合して使用してもかまわない。
【００１４】
また、本発明の目的を損なわない範囲で、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤などの公知の添加剤を混合して使用してもかまわない。
【００１５】
本発明で用いる回転式ノズルは、反応槽内壁の接液面ならびに攪拌翼が効果的に洗浄でき、かつ攪拌翼の回転に支障のない箇所に取り付けられる。本発明で用いる回転式ノズルの駆動方式は特に制約を受けず、具体的には固定式、昇降式、液圧二次元回転式、液圧三次元回転式、モータードライブ二次元回転式、およびモータードライブ三次元回転式などが挙げられる。
【００１６】
本発明で洗浄の対象となる光学材料組成物は、
（ａ）（１）式で表される化合物と、
（ｂ）硫黄原子と、
（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物である。
【００１７】
（ａ）化合物の具体例としては、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）トリスルフィド、ビス（β−エピチオプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）エタン、１，３−（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１，４−（β−エピチオプロピルチオ）ブタン、ビス（β−エピチオプロピルチオエチル）スルフィド、などのエピスルフィド類が挙げられる。（a）化合物は単独でも、２種類以上を混合して使用してもかまわない。より好ましくは、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィドである。
【００１８】
接液面にライニングまたはコーティングを施した調合装置を用いて、光学材料用組成物を調合した後の接液面の洗浄方法は、調合装置に回転式ノズルを接続し、回転ノズルへメルカプト基を１分子あたり１個以上有する化合物を１種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％である洗浄液を供給し、洗浄液を接液面に対して噴霧することによって実施される。必要に応じて同時に攪拌、振動、超音波照射、エアバブリングなどを併用してもかまわない。洗浄時の温度は、室温、加温下、冷却下のいずれでもかまわないが、通常−１０℃〜８０℃の範囲で行なわれ、より好ましくは１０℃〜４０℃の範囲である。
【００１９】
洗浄終了後の調合装置の接液面のリンスは、回転ノズルへ前記記載の有機溶剤をリンス液として供給し、接液面に対して噴霧することによって実施される。必要に応じて同時に攪拌、振動、超音波照射、エアバブリングなどを併用してもかまわない。洗浄時の温度は、室温、加温下、冷却下のいずれでもかまわないが、通常−１０℃〜８０℃の範囲で行なわれ、より好ましくは１０℃〜４０℃の範囲である。
【実施例】
【００２０】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】
洗浄後の調合装置の接液面の外観は、全く付着物がないものをＡ、極わずか付着物があるがべたつきがないものをＢ、明らかに付着物がありべたつきもあるものをＣ、洗浄前と同様の外観で全く洗浄がなされていないものをＤ、と評価した。
【００２２】
光学材料用組成物の調合例
各種のフッ素樹脂によりライニングあるいはコーティングを施した容積４０リットル調合装置に、ビス（β―エピチオプロピル）スルフィド２７ｋｇ、硫黄３ｋｇを入れ混合し、６０℃で均一とした。続いて、２−メチル−Ｎ−メチルイミダゾール０．１５０ｋｇ加え反応させた後、２０℃まで冷却し、この反応液に、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド１．６ｋｇ、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド０．００７ｋｇ、ジブチルスズジクロライド０．１ｋｇを２０℃でよく混合し、均一とした。得られた組成物は、３０ｔｏｒｒで１時間反応させた後、調合装置より全量を抜き出した。
【００２３】
実施例１
ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）により接液面をライニングしたＳＵＳ３０４製調合槽を用いて、光学材料用組成物の調合例に記したように光学材料用組成物の調合を実施した。調合装置より組成物を取り出したのち、回転式洗浄ノズルを取り付け、洗浄液としてビス（２−メルカプトエチル）スルフィド１．５リットルを２０℃の雰囲気下で接液面に噴霧した。噴霧前は接液面に組成物の残さが見られたが、本操作により残さは洗浄剤に対して溶解した。その後、リンス液としてテトラヒドロフラン１．５リットルを２０℃の雰囲気下で接液面に噴霧し、接液面の外観を確認したが、残さおよびべたつきは全く認められなかった。得られた結果を表１に示した。
【００２４】
実施例２
洗浄液として１，２−エタンジチオール１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２５】
実施例３
洗浄液として３−メルカプトプロピオン酸１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２６】
実施例４
調合装置としてポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）により接液面をコーティングしたＳＵＳ３０４製調合槽を用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２７】
実施例５
洗浄液としてビス（２−メルカプトエチル）スルフィド１０重量％、テトラヒドロフラン９０重量％の混合液１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２８】
実施例６
リンス液としてジクロロメタン１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２９】
実施例７
リンス液としてクロロホルム１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００３０】
比較例１
調合装置として接液面がライニングされていない無垢のＳＵＳ３０４製調合槽を用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００３１】
比較例２
ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）により接液面をライニングしたＳＵＳ３０４製調合槽を用いて、光学材料用組成物の調合例に記したように光学材料用組成物の調合を実施した。調合装置より組成物を取り出したのち、洗浄液としてビス（２−メルカプトエチル）スルフィド１．５リットルを入れ、回転式洗浄ノズルを装着せず、攪拌翼により攪拌した。大部分の組成物は洗浄剤と接触せず、接液面には残さがみられた。その後、リンス液としてテトラヒドロフラン１．５リットルを、回転式洗浄ノズルを装着して接液面に噴霧したが、接液面には、残さが大量に認められた。得られた結果を表１に示した。
【００３２】
比較例３
洗浄液としてビス（２−メルカプトエチル）スルフィド３０リットルを用いること以外は、比較例２と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００３３】
比較例４〜９
表１に示す溶剤を洗浄剤ならびにリンス液として用いた以外、実施例１と同様の操作を繰り返した。総じて組成物はこれら溶剤には溶解せず、接液面の外観に多量の残留物が認められた。結果を表１にまとめた。
【００３４】
【表１】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター、接着剤等の光学製品、中でも、眼鏡用プラスチックレンズ製造装置の洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラスチック材料は軽量かつ靭性に富み、また染色が容易であることから、近年では各種光学材料、特に眼鏡レンズに多く用いられている。光学材料、中でも眼鏡レンズに最も要求される、主たる性能は高屈折率であり、高屈折率化によりレンズの薄肉化が実現される。近年、高屈折率化を目的として硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を使用した光学材料が報告されている（特許文献１〜３）が、光学材料用調合装置の洗浄方法に関する記載および開示はない。
【０００３】
【特許文献１】特許３５６２５７９号公報
【特許文献２】特許３７３８８１７号公報
【特許文献３】特開２００４−１３７４８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
これらの光学材料用組成物は、熱硬化性である場合が多く、この調合に供した装置類を洗浄する際に先に調合した組成物が残留していると、これら組成物が徐々に硬化して装置に固着し、その除去が困難になる場合がある。接液面にライニングまたはコーティングが施されていない場合、接液面に光学材料組成物が付着しやすく、周知の洗浄方法では残留した組成物を十分に除去できない。
【０００５】
一般的に熱硬化性の光学材料用組成物の調合に供した装置類を洗浄する際には、市販の洗浄剤あるいは通常の有機溶媒が使用されており、物理的な拭き取りを併用する場合もあるが、すべての接液面を洗浄するためには、多くの場合、多量の洗浄剤あるいは有機溶剤が必要であり、物理的拭き取りを実施する場合は、作業環境と時間的な側面で多くの問題がみられる。また、これら従来手法で洗浄した場合には、度々、洗浄残さが装置に残留し、次回の光学材料用組成物の調合において、組成物に異常および異物の存在が見られる場合があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者はこの発明の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、
（ａ）下記（１）式で表される化合物と、
【化１】
（ｂ）硫黄原子と、
（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合させる装置において、調合装置接液面にライニングあるいはコーティングを施し、かつ調合装置に設置した回転式ノズルから洗浄液およびリンス液を噴霧することにより、少量の洗浄液で簡便に洗浄できるという新たな事実を見出し、解決に至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、以下のようである。
１．(ａ)（１）式で表される化合物と、（ｂ）硫黄原子と、（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合させる装置において、調合装置接液面にライニングあるいはコーティングを施し、かつ調合装置に設置した回転式ノズルから洗浄液およびリンス液を噴霧することを特徴とする光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
２．調合装置接液面のライニングあるいはコーティングが、フッ素樹脂により施されていることを特徴とする、第１項記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
３．洗浄液が、メルカプト基を１分子あたり１個以上有する化合物を１種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％であることを特徴とする、第１項記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
４．リンス液が、沸点３０℃〜８０℃の有機溶剤であることを特徴とする、請求項１記載の光学材料用調合装置の接液面の洗浄方法。
【発明の効果】
【０００８】
接液面にライニングまたはコーティングを施した調合装置を使用して、
（ａ）（１）式で表される化合物と、
（ｂ）硫黄原子と、
（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合した後、回転式ノズルを調合装置に接続し、メルカプト基を１分子あたり１個以上有する化合物を１種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％である洗浄液を接液面に対して噴霧することで、少量の洗浄液によって、接液面に残留した光学材料用組成物を容易に除去できる。その後、リンス液を同様に噴霧することにより、少量のリンス液によって、洗浄液を容易に除去できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明で使用される調合装置の母質は、特に制約を受けないが、耐久性などの理由により、ステンレス鋼（ＳＵＳ）などの金属製であることが好ましい。
【００１０】
本発明で使用される調合装置の接液面のライニングあるいはコーティングに用いる材質は、フッ素樹脂であることが好ましい。具体的には、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン・四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）などが挙げられる。これらは単独でも、あるいは２種類以上を複合して使用しても良い。より好ましくは、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、およびＥＴＦＥであり、更に好ましくは、ＰＦＡ、ＰＴＦＥである。
【００１１】
本発明で使用される洗浄液としては、メルカプト基を１分子あたり１個以上含む化合物が好ましい。具体的には、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、ｎ−プロピルメルカプタン、ｎ−ブチルメルカプタン、アリルメルカプタン、ｎ−ヘキシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−デシルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−オクタデシルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、ｉ−プロピルメルカプタン、ｔ−ブチルメルカプタン、ｔ−ノニルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、フェニルメルカプタン、ベンジルメルカプタン、３−メチルフェニルメルカプタン、４−メチルフェニルメルカプタン、４−クロロベンジルメルカプタン、４−ビニルベンジルメルカプタン、３−ビニルベンジルメルカプタン、メチルメルカプトプロピオネート、２−メルカプトエタノール、３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、２−メルカプト−１，３−プロパンジオール、メルカプト酢酸、メルカプトグリコール酸、メルカプトプロピオン酸、メタンジチオール、１，２−ジメルカプトエタン、１，２−ジメルカプトプロパン、２，２−ジメルカプトプロパン、１，４−ジメルカプトブタン、１，６−ジメルカプトヘキサン、ビス（メルカプトメチル）エーテル、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、ビス（メルカプトメチル）スルフィド、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、ビス（１，２−ジメルカプトエチル）スルフィド、ビス（２，３−ジメルカプトプロピル）スルフィド、１，２−ビス（２−メルカプトエチルオキシ）エタン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−１，３−ジメルカプトプロパン、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、１，２，３−トリメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル−１，３−ジメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル−１，４−ジメルカプトブタン、２−（２−メルカプトエチルチオ）−１，３−ジメルカプトプロパン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、２，４−ジメルカプトメチル−１，５−ジメルカプト−３−チアペンタン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、１，２，７−トリメルカプト−４，６−ジチアヘプタン、１，２，９−トリメルカプト−４，６，８−トリチアノナン、１，２，１０，１１−テトラメルカプト−４，６，８−トリチアウンデカン、１，２，１２，１３−テトラメルカプト−４，６，８，１０−テトラチアトリデカン、１，１，１−トリス（メルカプトメチル）プロパン、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，２−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ジメルカプトシクロヘキサン、１，４−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（２−メルカプトエチルチオメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１−チアン、２，５−ビス（メルカプトエチル）−１−チアン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−チオフェン、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、２，２′−ジメルカプトビフェニル、４，４′−ジメルカプトビフェニル、ビス（４−メルカプトフェニル）メタン、２，２−ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトフェニル）エーテル、ビス（４−メルカプトフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトフェニル）スルホン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）メタン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）エーテル、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）スルフィド、４−ヒドロキシチオフェノール、メルカプト安息香酸などが挙げられる。これらメルカプタン類は、単独でも、あるいは２種類以上を混合して使用しても良い。メルカプタン類のうち好ましいものは、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−エタンジチオール、３−メルカプトプロピオン酸、およびビス（２−メルカプトエチル）スルフィドであり、更に好ましくは、メルカプト基を１分子あたり２個以上有するメルカプト化合物であり、具体的には、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−エタンジチオール、およびビス（２−メルカプトエチル）スルフィドである。
【００１２】
本発明で使用される洗浄液に含まれる、メルカプト基を１分子あたり１個以上含む化合物の好ましい濃度は１重量％〜１００重量％、さらに好ましくは１０重量％〜１００重量％である。希釈剤としては、公知の有機溶剤を使用することができる。
【００１３】
本発明で使用されるリンス液は、前記洗浄液を除去でき、かつ次バッチの運転までの間に容易に除去できることを目的として使用できる有機溶剤なら全て含まれるが、沸点３０℃〜８０℃の有機溶剤が好適に使用できる。具体的には、エーテル類、ケトン類、アルコール類、エステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などであり、更に好ましくは非極性有機溶剤であるテトラヒドロフラン（沸点６６.０℃）、ジクロロメタン（沸点４０．０℃）、クロロホルム（沸点６１.８℃）である。これらは単独でも、２種類以上を混合して使用してもかまわない。
【００１４】
また、本発明の目的を損なわない範囲で、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤などの公知の添加剤を混合して使用してもかまわない。
【００１５】
本発明で用いる回転式ノズルは、反応槽内壁の接液面ならびに攪拌翼が効果的に洗浄でき、かつ攪拌翼の回転に支障のない箇所に取り付けられる。本発明で用いる回転式ノズルの駆動方式は特に制約を受けず、具体的には固定式、昇降式、液圧二次元回転式、液圧三次元回転式、モータードライブ二次元回転式、およびモータードライブ三次元回転式などが挙げられる。
【００１６】
本発明で洗浄の対象となる光学材料組成物は、
（ａ）（１）式で表される化合物と、
（ｂ）硫黄原子と、
（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物である。
【００１７】
（ａ）化合物の具体例としては、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）トリスルフィド、ビス（β−エピチオプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）エタン、１，３−（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１，４−（β−エピチオプロピルチオ）ブタン、ビス（β−エピチオプロピルチオエチル）スルフィド、などのエピスルフィド類が挙げられる。（a）化合物は単独でも、２種類以上を混合して使用してもかまわない。より好ましくは、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィドである。
【００１８】
接液面にライニングまたはコーティングを施した調合装置を用いて、光学材料用組成物を調合した後の接液面の洗浄方法は、調合装置に回転式ノズルを接続し、回転ノズルへメルカプト基を１分子あたり１個以上有する化合物を１種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％である洗浄液を供給し、洗浄液を接液面に対して噴霧することによって実施される。必要に応じて同時に攪拌、振動、超音波照射、エアバブリングなどを併用してもかまわない。洗浄時の温度は、室温、加温下、冷却下のいずれでもかまわないが、通常−１０℃〜８０℃の範囲で行なわれ、より好ましくは１０℃〜４０℃の範囲である。
【００１９】
洗浄終了後の調合装置の接液面のリンスは、回転ノズルへ前記記載の有機溶剤をリンス液として供給し、接液面に対して噴霧することによって実施される。必要に応じて同時に攪拌、振動、超音波照射、エアバブリングなどを併用してもかまわない。洗浄時の温度は、室温、加温下、冷却下のいずれでもかまわないが、通常−１０℃〜８０℃の範囲で行なわれ、より好ましくは１０℃〜４０℃の範囲である。
【実施例】
【００２０】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】
洗浄後の調合装置の接液面の外観は、全く付着物がないものをＡ、極わずか付着物があるがべたつきがないものをＢ、明らかに付着物がありべたつきもあるものをＣ、洗浄前と同様の外観で全く洗浄がなされていないものをＤ、と評価した。
【００２２】
光学材料用組成物の調合例
各種のフッ素樹脂によりライニングあるいはコーティングを施した容積４０リットル調合装置に、ビス（β―エピチオプロピル）スルフィド２７ｋｇ、硫黄３ｋｇを入れ混合し、６０℃で均一とした。続いて、２−メチル−Ｎ−メチルイミダゾール０．１５０ｋｇ加え反応させた後、２０℃まで冷却し、この反応液に、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド１．６ｋｇ、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド０．００７ｋｇ、ジブチルスズジクロライド０．１ｋｇを２０℃でよく混合し、均一とした。得られた組成物は、３０ｔｏｒｒで１時間反応させた後、調合装置より全量を抜き出した。
【００２３】
実施例１
ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）により接液面をライニングしたＳＵＳ３０４製調合槽を用いて、光学材料用組成物の調合例に記したように光学材料用組成物の調合を実施した。調合装置より組成物を取り出したのち、回転式洗浄ノズルを取り付け、洗浄液としてビス（２−メルカプトエチル）スルフィド１．５リットルを２０℃の雰囲気下で接液面に噴霧した。噴霧前は接液面に組成物の残さが見られたが、本操作により残さは洗浄剤に対して溶解した。その後、リンス液としてテトラヒドロフラン１．５リットルを２０℃の雰囲気下で接液面に噴霧し、接液面の外観を確認したが、残さおよびべたつきは全く認められなかった。得られた結果を表１に示した。
【００２４】
実施例２
洗浄液として１，２−エタンジチオール１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２５】
実施例３
洗浄液として３−メルカプトプロピオン酸１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２６】
実施例４
調合装置としてポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）により接液面をコーティングしたＳＵＳ３０４製調合槽を用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２７】
実施例５
洗浄液としてビス（２−メルカプトエチル）スルフィド１０重量％、テトラヒドロフラン９０重量％の混合液１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２８】
実施例６
リンス液としてジクロロメタン１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００２９】
実施例７
リンス液としてクロロホルム１．５リットルを用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００３０】
比較例１
調合装置として接液面がライニングされていない無垢のＳＵＳ３０４製調合槽を用いること以外は、実施例１と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００３１】
比較例２
ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）により接液面をライニングしたＳＵＳ３０４製調合槽を用いて、光学材料用組成物の調合例に記したように光学材料用組成物の調合を実施した。調合装置より組成物を取り出したのち、洗浄液としてビス（２−メルカプトエチル）スルフィド１．５リットルを入れ、回転式洗浄ノズルを装着せず、攪拌翼により攪拌した。大部分の組成物は洗浄剤と接触せず、接液面には残さがみられた。その後、リンス液としてテトラヒドロフラン１．５リットルを、回転式洗浄ノズルを装着して接液面に噴霧したが、接液面には、残さが大量に認められた。得られた結果を表１に示した。
【００３２】
比較例３
洗浄液としてビス（２−メルカプトエチル）スルフィド３０リットルを用いること以外は、比較例２と同様の操作を実施した。得られた結果を表１に示した。
【００３３】
比較例４〜９
表１に示す溶剤を洗浄剤ならびにリンス液として用いた以外、実施例１と同様の操作を繰り返した。総じて組成物はこれら溶剤には溶解せず、接液面の外観に多量の残留物が認められた。結果を表１にまとめた。
【００３４】
【表１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(ａ)下記（１）式で表される化合物と、
【化１】
（ｂ）硫黄原子と、
（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合させる装置において、調合装置接液面にライニングあるいはコーティングを施し、かつ調合装置に設置した回転式ノズルから洗浄液およびリンス液を噴霧することを特徴とする光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
【請求項２】
調合装置接液面のライニングあるいはコーティングが、フッ素樹脂により施されていることを特徴とする、請求項１記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
【請求項３】
洗浄液が、メルカプト基を１分子あたり１個以上有する化合物を１種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％であることを特徴とする、請求項１記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
【請求項４】
リンス液が、沸点３０℃〜８０℃の有機溶剤であることを特徴とする、請求項１記載の光学材料用調合装置の洗浄方法。
【請求項１】
(ａ)下記（１）式で表される化合物と、
【化１】
（ｂ）硫黄原子と、
（ｃ）メルカプト基を１分子当り１個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合させる装置において、調合装置接液面にライニングあるいはコーティングを施し、かつ調合装置に設置した回転式ノズルから洗浄液およびリンス液を噴霧することを特徴とする光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
【請求項２】
調合装置接液面のライニングあるいはコーティングが、フッ素樹脂により施されていることを特徴とする、請求項１記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
【請求項３】
洗浄液が、メルカプト基を１分子あたり１個以上有する化合物を１種類以上含み、その濃度の合計が１重量％〜１００重量％であることを特徴とする、請求項１記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
【請求項４】
リンス液が、沸点３０℃〜８０℃の有機溶剤であることを特徴とする、請求項１記載の光学材料用調合装置の洗浄方法。
【公開番号】特開２００９−１６７３６６（Ｐ２００９−１６７３６６Ａ）
【公開日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１０２００（Ｐ２００８−１０２００）
【出願日】平成２０年１月２１日（２００８．１．２１）
【出願人】（０００００４４６６）三菱瓦斯化学株式会社 (1,281)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月２１日（２００８．１．２１）
【出願人】（０００００４４６６）三菱瓦斯化学株式会社 (1,281)
【Ｆターム（参考）】
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