光学素子用化合物、光学材料及び光学素子
【課題】屈折率の分散特性（アッベ数（νd））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く、可視光領域内の透過率が高く、かつ色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）又は（２）で示される化合物であることを特徴とする光学材料用化合物。
【解決手段】下記一般式（１）又は（２）で示される化合物であることを特徴とする光学材料用化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子用化合物、並びにこれを用いた光学材料及び光学素子に関し、特に特異な光学特性を有する（メタ）アクリレート化合物、並びにこれを用いた光学材料及び光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、硝材（ガラス材料）や有機樹脂等からなる光学材料は、短波長側になるにつれ徐々にその屈折率が高くなる。ところでこの屈折率の波長分散性を表す指標として、アッベ数（νd）や２次分散特性（θｇ，Ｆ）等が挙げられる。このアッベ数やθｇ，Ｆ値は、それぞれの光学材料特有の値であるが、多くの場合、ある一定の範囲内に収まっている。図１は、従来の光学材料（硝子材及び有機樹脂）の２次分散特性とアッベ数との関係を示す図である。
【０００３】
尚、アッベ数（νd）、２次分散特性（θｇ，Ｆ）は以下の式で表される。
アッベ数［νd］＝（ｎd−１）／（ｎF−ｎC）
２次分散特性［θｇ，Ｆ］＝（ｎg−ｎF）／（ｎF−ｎC）
（ｎdは、波長５８７．６ｎｍでの屈折率であり、ｎFは、波長４８６．１ｎｍでの屈折率であり、ｎCは、波長６５６．３ｎｍでの屈折率である、ｎgは、波長４３５．８ｎｍでの屈折率である。）
【０００４】
ところで、光学材料（硝材、有機樹脂等）の構成（材料種や分子構造）を詳細に設計することにより、前記一定の範囲内から外れている優れた光学特性（高θｇ，Ｆ特性）を有する光学材料も提案されている。例えば、図１のＡで示されている有機樹脂であるポリビニルカルバゾールは、汎用の有機樹脂材料よりも高い２次分散特性（高θｇ，Ｆ特性）を有している。
【０００５】
また一般に、屈折光学系においては、分散特性の異なる硝材を適宜組み合わせることによって色収差を減らすことは可能である。例えば、望遠鏡等の対物レンズでは分散の小さい硝材を正レンズ、分散の大きい硝材を負レンズとして、これらを組み合わせて用いることで軸上に現れる色収差を補正している。ただし、レンズの構成、枚数が制限される場合や使用される硝材が限られている場合等では、色収差を十分に補正することが非常に困難となる場合がある。このような課題を解決する方法の一つとして、異常分散特性を有するガラス材料を活用する方法があり、この方法を利用した光学素子類の設計が行われている。
【０００６】
また、色収差補正機能に優れ、その形状が非球面形状等である光学素子を製造する場合、硝材を材料として用いるより、球面ガラス等の上に有機樹脂を成形する等の方が量産性や成形性、形状の自由度、軽量性に優れるという利点がある。しかし、従来の有機樹脂の光学特性は、図１に示すように限られた一定の範囲内（２次分散特性［θｇ，Ｆ］が０．７００以下）に収まっており、特異な分散特性を示す有機樹脂類は非常に少ない。
【０００７】
以上のような背景の中、特許文献１では、Ｎ−アクリロイルカルバゾール及び多官能ポリエステルアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート及び重合開始剤を所定の比率で混合してなる光学用樹脂組成物が提案されている。また特許文献１では、上述した光学用樹脂組成物が、加工が容易であって、硬化物において十分な異常分散性と耐久性を有する材料になることを報告している。
【０００８】
また特許文献２では、芳香族化合物に、π電子を有するヘテロ環化合物が、ｓｐ2炭素原子を介して少なくとも１つ以上結合していることを特徴とする含ヘテロ芳香族化合物が提案されている。また特許文献２によれば、提案された含ヘテロ芳香族化合物は、屈折率の分散特性（アッベ数（νd））が高く、かつ２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高い（異常分散特性）、色収差補正機能の高い特性を有する材料であることを報告している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００８−１５８３６１号公報
【特許文献２】特開２０１０−２０２５３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、図１中のＢで示されているエリア内の特性（高θｇ、Ｆ特性）を有する材料で実用性（低着色、高透明）のあるものが現在存在しない。また特許文献１にて提案された材料は、いずれもθｇ，Ｆ値が０．７０以下である。さらに特許文献２にて提案された材料は、θｇ，Ｆ値が０．７０以上であるものの、透過率が低い。具体的には、膜厚１２．５μｍのサンプルにおいて波長４３０ｎｍの光の透過率９１％以下である。
【００１１】
本発明は、以上に述べた背景技術に鑑みてなされたものであり、その目的は、屈折率の分散特性（アッベ数（νd））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く、可視光領域内の透過率が高く、かつ色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用化合物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の光学材料用有機化合物は、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物であることを特徴とする。
【００１３】
【化１】
（式（１）において、Ｘ及びＹは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００１４】
【化２】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。Ｚ1及びＺ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。ａ及びｂは、それぞれ０乃至２の整数である。ａが２のとき２つのＺ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。ｂが２のとき２つのＺ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。）
（式（２）において、Ｘは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００１５】
【化３】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００１６】
【化４】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
Ｒ11及びＲ12は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。Ｚ1及びＺ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。ｃは、０乃至２の整数である。ｃが２のとき２つのＺ11は、同じであってもよいし異なっていてもよい。）
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、屈折率の分散特性（アッベ数（νｄ））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く、色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用有機化合物を提供することができる。
【００１８】
このため、本発明の光学材料用有機化合物を有する光学材料を成形することで得られる光学素子は、効率良く色収差を取り除くことができる。従って、本発明によれば、光学系をより軽量短小化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】市販されている光学材料の２次分散特性とアッベ数との関係を示したグラフである。
【図２】本発明の光学素子の例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】
まず本発明の光学素子用有機化合物について説明する。本発明の光学素子用有機化合物は、具体的には、下記一般式（１）又は（２）で表される化合物である。
【００２２】
【化５】
【００２３】
本発明の光学素子用有機化合物は、下記（１Ａ）又は（２Ａ）で示される部分構造を基本骨格として有する化合物であるが、好ましくは、下記（１Ａ）又は（２Ａ）で示される部分構造と、（メタ）アクリロイル基と、を有する（メタ）アクリレート化合物である。
【００２４】
【化６】
（式（１Ａ）及び式（２Ａ）において、Ｘ0及びＹ0は、それぞれ酸素原子又は硫黄原子である。）
【００２５】
尚、本発明の光学素子用有機化合物の好ましい態様については後述する。
【００２６】
まず式（１）の化合物について説明する。式（１）において、Ｘ及びＹは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００２７】
【化７】
【００２８】
式（１）中のＸ及びＹで表わされる置換基において、＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。
【００２９】
式（１）において、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。
【００３０】
Ｒ1及びＲ2で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。
【００３１】
式（１）において、Ｚ1及びＺ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。
【００３２】
Ｚ1及びＺ2で表されるハロゲン原子として、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。
【００３３】
Ｚ1及びＺ2で表されるアルコキシ基として、メトキシ基及びエトキシ基が挙げられる。
【００３４】
Ｚ1及びＺ2で表されるアルキルチオ基として、メチルチオ基及びエチルチオ基が挙げられる。
【００３５】
Ｚ1及びＺ2で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。尚、このアルキル基は、さらに、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基）、２−ヒドロキシエトキシ基、２−メルカプトエトキシ基、２−メルカプトエチルチオ基、（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基）、３−ヒドロキシプロポキシ基、３−メルカプトプロポキシ基、３−メルカプトプロピルチオ基、（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基）、４−ヒドロキシブトキシ基、４−メルカプトブトキシ基、４−メルカプトブチルチオ基、アリルオキシ基、アリルチオ基、４−ビニルベンジルオキシ基、オキシラニルメトキシ基、オキシラニルエトキシ基、チイラニルメトキシ基、チイラニルエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メトキシ基及びエトキシ基から選択される置換基を有していてもよい。
【００３６】
式（１）において、ａ及びｂは、それぞれ０乃至２の整数である。ここでａが２のとき２つのＺ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。またｂが２のとき２つのＺ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。合成のし易さを考慮すると、ａ及びｂは、それぞれ０又は１であることが好ましい。
【００３７】
次に、式（１）に示される化合物の好ましい態様について説明する。ここで式（１）に示される化合物の好ましい態様は、下記（１−１）と（１−２）とに大別される。
【００３８】
（１−１）Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示す置換基より選択される置換基である場合
【００３９】
【化８】
（１−２）Ｘ及びＹが、それぞれ硫黄原子（−Ｓ−）又は酸素原子（−Ｏ−）である場合
【００４０】
（１−１）の場合、下記（１−１−１）乃至（１−１−３）を充足する態様がより好ましい。
【００４１】
（１−１−１）Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００４２】
【化９】
（１−１−２）Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基であること
（１−１−３）Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００４３】
また（１−１）の場合、上記（１−１−１）、並びに下記（１−１−４）及び（１−１−５）を充足する態様が特に好ましい。
（１−１−４）Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素又は（メタ）アクリロイル基であること
（１−１−５）Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００４４】
（１−２）の場合、下記（１−２−１）乃至（１−２−３）を充足する態様が好ましい。
（１−２−１）Ｘ及びＹが、それぞれ−Ｓ−又は−Ｏ−であること
（１−２−２）Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素又は炭素数１乃至２のアルキル基であること
（１−２−３）Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００４５】
また（１−２）の場合、上記（１−２−１）及び（１−２−２）、並びに下記（１−２−４）を充足する態様がより好ましい。
（１−２−４）Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基であること
【００４６】
さらに（１−２）の場合、上記（１−２−１）及び（１−２−４）、並びに下記（１−２−５）を充足する態様が特に好ましい。
（１−２−５）Ｒ1及びＲ2が、それぞれ炭素数１乃至２のアルキル基であること
【００４７】
ところで、Ｚ1及びＺ2が置換基を有する炭素数１乃至２のアルキル基である場合、当該アルキル基の具体的な構造として下記一般式（３）に示される構造が好ましい。
【００４８】
【化１０】
【００４９】
式（３）において、＊＊は、結合手を表す。またｍは、０又は１であり、ｎは、２乃至４の整数を表す。尚、合成のし易さという観点から、ｍは０であることが好ましい。ここで、Ｚ1及びＺ2のいずれかの構造が式（３）に示される構造である場合、化合物自体がよりフレキシブルな構造になるので、化合物自体の融点を下げることができる。化合物自体の融点が下がることは、成形のしやすさという観点で有利であるといえる。
【００５０】
次に、下記一般式（２）の化合物について説明する。
【００５１】
【化１１】
【００５２】
式（２）において、Ｘは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００５３】
【化１２】
【００５４】
式（２）中のＸで表わされる置換基において、＊は、Ｒ11との結合手を表す。
【００５５】
式（２）において、Ｙは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００５６】
【化１３】
【００５７】
式（２）中のＹで表わされる置換基において、＊は、Ｒ12との結合手を表す。
【００５８】
式（２）において、Ｒ11及びＲ12は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。
【００５９】
Ｒ11及びＲ12で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。
【００６０】
式（２）において、Ｚ3は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。
【００６１】
Ｚ3で表されるアルコキシ基として、メトキシ基及びエトキシ基が挙げられる。
【００６２】
Ｚ3で表されるアルキルチオ基として、メチルチオ基及びエチルチオ基が挙げられる。
【００６３】
Ｚ3で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。尚、このアルキル基は、さらに、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基）、２−ヒドロキシエトキシ基、２−メルカプトエトキシ基、２−メルカプトエチルチオ基、（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基）、３−ヒドロキシプロポキシ基、３−メルカプトプロポキシ基、３−メルカプトプロピルチオ基、（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基）、４−ヒドロキシブトキシ基、４−メルカプトブトキシ基、４−メルカプトブチルチオ基、アリルオキシ基、アリルチオ基、４−ビニルベンジルオキシ基、オキシラニルメトキシ基、オキシラニルエトキシ基、チイラニルメトキシ基、チイラニルエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メトキシ基及びエトキシ基から選択される置換基を有していてもよい。
【００６４】
式（２）において、ｃは、０乃至２の整数である。ｃが２のとき２つのＺ3は、同じであってもよいし異なっていてもよい。合成のし易さを考慮すると、ｃは、０又は１であることが好ましい。
【００６５】
次に、式（２）に示される化合物の好ましい態様について説明する。式（２）に示される化合物のうち、好ましい態様は、下記（２−１）乃至（２−４）を充足する態様である。
【００６６】
（２−１）Ｘが、下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００６７】
【化１４】
（２−２）Ｙが、下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００６８】
【化１５】
（２−３）Ｒ11及びＲ12が、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基であること
（２−４）Ｚ3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００６９】
また式（２）に示される化合物のうち、より好ましい態様は、上記（２−３）及び（２−４）、並びに下記（２−５）及び（２−６）を充足する態様である。
（２−５）Ｘが、下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００７０】
【化１６】
（２−６）Ｙが、下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００７１】
【化１７】
【００７２】
また式（２）に示される化合物のうち、特に好ましい態様は、上記（２−５）及び（２−６）、並びに下記（２−７）及び（２−８）を充足する態様である。
（２−７）Ｒ11及びＲ12が、それぞれ水素原子及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基であること
（２−８）Ｚ3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００７３】
ところで、Ｚ3が置換基を有する炭素数１乃至２のアルキル基である場合、当該アルキル基の具体的な構造として下記一般式（３）に示される構造が好ましい。
【００７４】
【化１８】
【００７５】
式（３）において、＊＊は、結合手を表す。またｍは、０又は１であり、ｎは、２乃至４の整数を表す。尚、合成のし易さという観点から、ｍは０であることが好ましい。ここで、Ｚ3の構造が式（３）に示される構造である場合、化合物自体がよりフレキシブルな構造になるので、化合物自体の融点を下げることができる。化合物自体の融点が下がることは、成形のしやすさという観点で有利であるといえる。
【００７６】
次に、本発明に係る光学材料用有機化合物の製造方法について一例を挙げて説明する。本発明に係る光学材料用有機化合物は、その製造ルートについては特に限定されず、どの様な製造方法でも採用することが可能である。ただし少なくとも下記（ａ）及び（ｂ）の合成工程が含まれ、化合物によってはさらに（ｃ）の合成工程が含まれる。
（ａ）芳香環（ベンゼン環）同士の結合の形成
（ｂ）エーテル（チオエーテル）化反応
（ｃ）（メタ）アクリレート化反応
【００７７】
合成のしやすさ等を考慮すると、上記合成工程は、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の順番で行われる。
【００７８】
合成工程（ａ）においては、芳香族化合物が有する官能基の種類によって臨機応変に変更可能である。例えば、遷移金属触媒によるカップリング反応やハロゲン化物同士の酸化的カップリング反応、芳香環上での置換反応等である。尚、反応の収率を考慮すると遷移金属触媒によるカップリング反応が望ましい。
【００７９】
遷移金属触媒によるカップリング反応は、任意に選択する事が可能である。代表的な方法としては、ホウ酸等を利用する鈴木カップリング、有機スズを利用するスティルカップリング、有機亜鉛を利用する根岸カップリング等が好適に用いられる。
【００８０】
合成工程（ｂ）において、エーテル化反応の代表的な方法としては、水酸基を水素化ナトリウムや水酸化カリウム等で塩にした後、対応するハロゲン化物を添加するウィリアムソンエーテル合成法等である。
【００８１】
一方、チオエーテル化反応は、チオール基生成反応と、チオール基とハロゲン化物との反応と、により行われる。ここでチオール基生成反応は、例えば、水酸基を求核置換反応に対して活性がある置換基（ＴｓＯ−、Ｃｌ−、ＣＦ3Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ−等）に変換した後、硫化イオン（Ｓ2-）を用いた求核置換反応を行うことにより達成される。またチオール基とハロゲン化物との反応においては、上述したウィリアムソンエーテル合成法等を応用することができる。
【００８２】
合成工程（ｃ）において、代表的な方法としては、（メタ）アクリル酸ハライドや（メタ）アクリル酸無水物を使用して水酸基をエステル化する方法、（メタ）アクリル酸の低級アルコールのエステルを使用するエステル交換反応、Ｎ，Ｎ‘−ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤を使用して（メタ）アクリル酸と該ジオールとを脱水縮合させる直接エステル化反応、（メタ）アクリル酸と該ジオールを硫酸等の脱水剤存在下で加熱する方法等が好適に用いられる。
【００８３】
また、本発明に係る光学材料用有機化合物が（メタ）アクリレート化合物である場合、反応時や保存時に重合が進行しないように重合禁止剤を必要に応じて使用してもよい。重合禁止剤の例としては、ｐ−ベンゾキノン、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、２，５−ジフェニルパラベンゾキノン等のヒドロキノン類、テトラメチルピペリジニル−Ｎ−オキシラジカル（ＴＥＭＰＯ）等のＮ−オキシラジカル類、ｔ−ブチルカテコール等の置換カテコール類、フェノチアジン、ジフェニルアミン、フェニル−β−ナフチルアミン等のアミン類、ニトロソベンゼン、ピクリン酸、分子状酸素、硫黄、塩化銅（ＩＩ）等を挙げることができる。この中でもヒドロキノン類、フェノチアジン及びＮ−オキシラジカル類が汎用性かつ重合抑制の点で好ましい。
【００８４】
重合禁止剤の使用量は、前記（メタ）アクリレート化合物に対して、下限が、通常１０ｐｐｍ以上、好ましくは５０ｐｐｍ以上であり、上限が、通常１００００ｐｐｍ以下、好ましくは１０００ｐｐｍ以下である。少なすぎる場合は、重合禁止剤としての効果が発現しないか効果が小さく、反応時や後処理工程での濃縮時に重合が進行する危険性があり、多すぎる場合には、例えば、後述する光学材料を製造する際の不純物となり、また、重合反応性を阻害する等の悪影響を及ぼす危険性があり好ましくない。
【００８５】
次に、本発明の光学素子用有機化合物の特徴について説明する。
【００８６】
本発明者らは、従来よりも高い色収差補正機能を光学素子に付与するためには、光学素子の材料特性として、下記（ｉ）及び（ｉｉ）を充足することが光学設計上、極めて有効であることに着目した。
（ｉ）可視光領域内の透過率が高いこと
（ｉｉ）２次分散特性（θｇ，Ｆ）が汎用の材料から外れて、より大きい特性（高θｇ，Ｆ特性）であること
【００８７】
具体的には、図１にて示される、アッベ数（νd）と２次分散特性（θｇ，Ｆ）との関係が硝材若しくは有機樹脂の汎用材料のプロットからずれているＢのエリアである。具体的には、５００μｍ内部透過率が４１０ｎｍで９０％以上の特性である。ここでＢエリアの特性は、νd＜２５、θｇ，Ｆ＞０．７０である。
【００８８】
本発明者等は、図１に示されるＢエリアの特性を満たす材料について鋭意検討を重ねた結果、共役可能な電子吸引性置換基と電子供与性置換基を少なくとも一つずつ有する長い共役構造の芳香族化合物が、屈折率の分散特性（アッベ数（νd））が高く、かつ２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高い（高θｇ，Ｆ特性）、色収差補正機能の高い特性と実用性を兼ね備えた材料になることを見出した。即ち、本発明者らは、下記（１Ａ）あるいは（２Ａ）で示される部分構造を基本骨格とする化合物を見出した。
【００８９】
【化１９】
【００９０】
一般に、芳香族化合物に代表される長い共役構造を有する化合物は、汎用材料よりもバンドギャップが小さいため、紫外領域の吸収端が可視光領域側にシフトしている。その影響により、長い共役構造を有する化合物は、高屈折率特性を有するようになる。この高屈折率特性は、短波長側により影響を与えるため、必然的に２次分散特性（θｇ、Ｆ）が高くなって化合物の特性が図１に示されるＢエリア内に収まるようになる。しかし、単純に芳香族化合物を連結させて長い共役構造を構築するだけでは実用性のある材料は得られない。例えば、大きな芳香族化合物は、合成性や他の化合物との相溶性、着色の点において課題が残る。そのため、前記共役可能な電子吸引性置換基と電子供与性置換基を少なくとも一つずつ有する長い共役構造の芳香族化合物が望ましい。
【００９１】
このように、屈折率特性や２次分散特性を高くするという観点からすれば、化合物の共役長は長ければ長い方がよい。しかし、共役構造が長くなり過ぎると可視光領域の短波長側での透過率が低下するため、光学材料という用途を考慮する場合には、共役構造の長さを調整する必要がある。ここで、一般式（１Ａ）及び（２Ａ）で示される部分構造においては、透過率及び屈折率特性について塩梅がよい程の共役長を有している。
【００９２】
ところで共役可能な電子吸引性置換基としては、スルホン、ケトン、イミン、オキシム、ニトリル、ニトロ、エステル等が挙げられる。ここで生成物の長期安定性を考慮すると、好ましくは、スルホン、ケトン、ニトリル、エステルであり、より好ましくはスルホンである。このため、本発明の光学素子用有機化合物には、（１Ａ）及び（２Ａ）に示されるように部分構造としてスルホンを有する化合物である。
【００９３】
また共役可能な電子供与性置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボニルオキシ基等である。好ましくは、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、カルボニルオキシ基である。ただし、置換基の分子量が大きくなり過ぎると高い２次分散特性（θｇ、Ｆ）が得られなくなる。このため、置換基としては、炭素数が０乃至１０の置換基が望ましい。合成のし易さという観点からすれば、好ましくは、炭素数１乃至４の置換基である。本発明においては、特に好ましい置換基であるヒドロキシル基、メルカプト基、炭素数１乃至４のアルコキシ基及び炭素数１乃至４のアルキルチオ基が選択されている。
【００９４】
また式（１）乃至（２）中に示されているＨ（水素原子）は、共役構造を調整するために必要であり、その他の置換基では当該置換基の立体障害に起因する芳香環同士のねじれによる共役の切断が起こり、特性が発現しない場合がある。
【００９５】
次に、本発明に係る光学材料について説明する。
【００９６】
本発明の光学材料は、下記（Ａ）乃至（Ｃ）に大別される。
（Ａ）本発明の光学材料用有機化合物をマトリックスポリマーに含有させてなる材料
（Ｂ）本発明の光学材料用有機化合物を重合させてなる材料
（Ｃ）本発明の光学材料用有機化合物と他の化合物とを共重合させてなる材料
【００９７】
ここで、本発明の光学材料用有機化合物のうち、（メタ）アクリロイル基を有していない化合物は（Ａ）の形態で用いられる。一方、本発明の光学材料用有機化合物のうち、（メタ）アクリロイル基を有している化合物は（Ａ）乃至（Ｃ）のいずれの形態においても利用可能であるが、専ら（Ｂ）又は（Ｃ）の形態で用いられる。
【００９８】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ａ）の形態で用いる場合、マトリックスポリマーとして、（メタ）アクリル系ポリマー；アリル系ポリマー；エチレン単独重合体、エチレンとプロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン等の１種又は２種以上のα−オレフィンとのランダム又はブロック共重合体、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとの１種又は２種以上のランダム又はブロック共重合体、プロピレン単独重合体、プロピレンとプロピレン以外の１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン等の１種又は２種以上のα−オレフィンとのランダム又はブロック共重合体、１−ブテン単独重合体、アイオノマー樹脂、さらにこれら重合体の混合物等のポリオレフィン系樹脂；石油樹脂、テルペン樹脂等の炭化水素原子系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６１０、ナイロン６／６６、ナイロン６６／６１０、ナイロンＭＸＤ等ポリアミド系樹脂；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリル等のスチレン，アクリロニトリル系樹脂；ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリケトン樹脂；ポリメチレンオキシド樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリイミド樹脂；ポリアミドイミド樹脂等が挙げられる。尚、（メタ）アクリル系ポリマーとは、後述する（メタ）アクリレート化合物を重合してなるポリマーである。またアリル系ポリマーとは、後述するアリル化合物を重合してなるポリマーである。これらの樹脂は１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。またこれらマトリックスポリマーは、本発明の光学材料用有機化合物との相溶性を考慮した上で適宜選択される。
【００９９】
また本発明の光学材料用有機化合物を（Ａ）の形態で用いる場合、材料全体に対する本発明の光学材料用有機化合物の含有量は、本発明の光学材料用有機化合物とマトリックスポリマーとの相溶性を考慮した上で適宜選択される。
【０１００】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ａ）の形態で用いる場合、マトリックスポリマーとなる樹脂の含有量は、材料全体を基準として５０重量％以上９９重量％以下である。得られる光学材料のθｇ，Ｆ特性や成形体の脆性を考慮すると、好ましくは、５０重量％以上８０重量％以下が望ましい。
【０１０１】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ｂ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料は、本発明の光学材料用有機化合物（（メタ）アクリレート化合物）と、重合開始剤と、からなる組成物から作製される。尚、この組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、樹脂等をさらに含有させてもよい。
【０１０２】
重合開始剤には、光照射によりラジカル種を発生するものやカチオン種を発生するもの、熱によりラジカル種を発生するもの等が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１０３】
光照射によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、４−フェニルベンゾフェノン、４−フェノキシベンゾフェノン、４，４’−ジフェニルベンゾフェノン、４，４’−ジフェノキシベンゾフェノン等であるがこれらに限定されない。
【０１０４】
また、光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤としては、ヨードニウム（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］−ヘキサフルオロフォスフェートが好適な重合開始剤として挙げられるがこれに限定されない。
【０１０５】
さらに、熱によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、アゾビソイソブチルニトリル（ＡＩＢＮ）等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ―ブチルパーオキシネオヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート、ｔ―ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、クミルパーオキシネオヘキサノエート、クミルパーオキシネオデカノエート等の過酸化物が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１０６】
本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物を（Ｂ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物の含有量は、望ましくは１．０重量％以上９９重量％以下であり、５０重量％以上９９重量％以下が好ましい。
【０１０７】
本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物を（Ｂ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料の硬化・成形に用いる光重合開始剤の添加量は、重合可能な成分に対して０．０１重量％以上１０．００重量％以下の範囲が好ましい。尚、光重合開始剤は樹脂の反応性、光照射の波長によって１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。
【０１０８】
本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物を（Ｂ）の形態で用いる場合、使用される重合禁止剤としては、本発明の光学材料用有機化合物の保存剤として上述した重合禁止剤が挙げられる。
【０１０９】
光として紫外線等を照射して重合を開始させる場合には、公知の増感剤等を使用することもできる。増感剤の代表的なものとしては、ベンゾフェノン、４，４−ジエチルアミノベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０１１０】
尚、重合可能な樹脂成分に対する光重合開始剤の添加比率は、光照射量、さらには、付加的な加熱温度に応じて適宜選択することができる。また、得られる重合体の目標とする平均分子量に応じて、調整することもできる。
【０１１１】
本発明の光学材料の硬化・成形に用いる光重合開始剤の添加量は、重合可能な成分に対して０．０１重量％以上１０．００重量％以下の範囲が好ましい。光重合開始剤は樹脂の反応性、光照射の波長によって１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。
【０１１２】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ｃ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物と共重合させる化合物としては、特に制限は無い。例えば、１，３−アダマンタンジオールジメタクリレート、１，３−アダマンタンジメタノールジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、２（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−メタクリロイルオキシ）フェニル］フルオレン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ブチキシエチルアクリレート、ブトキシメチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジルアクリレート、エチレングリコールビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート、２，２−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＦジアクリレート、ビスフェノールＦジメタクリレート、１，１−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）スルホン、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、メチルチオアクリレート、メチルチオメタクリレート、フェニルチオアクリレート、ベンジルチオメタクリレート、キシリレンジチオールジアクリレート、キシリレンジチオールジメタクリレート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレート、メルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等の（メタ）アクリレート化合物、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合物、スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、３，９−ジビニルスピロビ（ｍ−ジオキサン）等のビニル化合物、ジイソプロペニルベンゼン等が挙げられる。ただし本発明はこれらに限定されない。
【０１１３】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ｃ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物と共重合させる化合物の含有量は、材料全体を基準として１．０重量％以上８０重量％以下である。得られる光学材料のθｇ，Ｆ特性や成形体の脆性を考慮すると、好ましくは、１．０重量％以上３０重量％以下である。
【０１１４】
次に、本発明の光学素子について図を参照しながら説明する。図２は、本発明の光学素子の例を示す概略図である。（ａ）の光学素子は、本発明の光学材料を成形加工してなる薄膜（光学部材１０）がレンズ基板２０の片方の面上に設けられている。図１（ａ）の光学素子を作製する方法としては、例えば、光透過性材料からなる基板上に膜厚の薄い層構造を形成する方法が採用される。具体的には、金属材料からなる型をガラス基板から一定の距離を置いて設け、この型とガラス基板との間にある空隙に流動性の光学材料又は光学用樹脂組成物を充填してから、軽く抑えることで、型成形を行う。そして必要に応じてその状態に保ったまま該光学材料又は該光学用樹脂組成物の重合を行う。かかる重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を用いたラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常、紫外光もしくは可視光を用いて行う。例えば、前記基板として利用する光透過性材料、具体的にはガラス基板を介して、成形されている光学材料調製用のモノマー等の原料に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。
【０１１５】
一方、かかる光重合反応による光学材料の成形体の作製においては、照射される光が型成形されているモノマー等の原料の全体に均一に照射されることがより好ましい。従って、利用される光照射は、基板に利用する光透過性材料、例えばガラス基板を介して、均一に行うことが可能な波長の光を選択することが一層好ましい。この際、光透過性材料の基板上に形成する光学材料の成形体の厚さを薄くすることは、本発明にはより好適である。
【０１１６】
一方、図１（ｂ）の光学素子は、本発明の光学材料を成形加工してなる薄膜（光学部材１０）がレンズ基板３０とレンズ基板４０との間に設けられている。図１（ｂ）の光学素子を作製する方法としては、例えば、前述した成形体の樹脂組成物側の面と、対応する別のレンズの両者の間に、同様の未硬化の樹脂組成物等を流し込み、軽く抑えることで成形を行う。そしてこの状態に保ったまま未硬化の樹脂組成物の光重合を行う。それにより前記光学材料がレンズに挟まれた成形体を得ることができる。
【０１１７】
同様に、熱重合法により成形体の作製を行うこともできる。この場合、全体の温度をより均一とすることが望ましく、光透過性材料の基板上に形成する重合性組成物の成形体の総厚を薄くすることは、本発明にはより好適なものとなる。また形成する光学材料の成形体の総厚を厚くする場合には、より膜厚、樹脂成分の吸収、微粒子成分の吸収を考慮した照射量、照射強度、光源等の選択が必要である。
【０１１８】
一方、本発明の光学材料用有機化合物を含んだ光学材料の成形体を形成する場合、成形方法については、特に限定されるものはないが、低複屈折性、機械強度及び寸法精度等の特性に優れた成形物を得るためには、溶融成形が特に好ましい。溶融成形法としては、プレス成形、押し出し成形、射出成形等が挙げられるが、成形性及び生産性の観点から射出成形が好ましい。また、成形工程における成形条件は、使用目的又は成形方法により適宜選択されるが、射出成形における樹脂組成物の温度は、１５０℃から４００℃の範囲であることが好ましく、２００℃から３５０℃の範囲であることがより好ましく、２００℃から３３０℃の範囲であることが特に好ましい。前記温度範囲で成形することにより、成形時に適度な流動性を樹脂に付与して成形品のヒケやひずみの発生とともに、樹脂の熱分解によるシルバーストリークの発生を防止し、さらには、成形物の黄変を効果的に防止することができる。
【０１１９】
本発明の光学材料を上記の成形方法で成形された成形体は光学素子として用いることができる。光学素子の利用例としては、例えばカメラレンズ等が挙げられる。
【実施例】
【０１２０】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下に説明する実施例に限定されるものではない。また、反応式中の略号はそれぞれ下記の通りである。尚、合成した化合物の分子構造の分析は、日本電子製ＪＮＭ−ＥＣＡ４００ ＮＭＲを用いて行った。
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＴｓＯＨ：パラトルエンスルホン酸水和物
【０１２１】
（合成例１）４，４’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホンの合成
【０１２２】
【化２０】
【０１２３】
下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：１５ｇ
４−ヒドロキシフェニルボロン酸：２１ｇ
炭酸水素ナトリウム：３３ｇ
１，４−ジオキサン：５００ｍｌ
水：２５０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：２．５ｇ
【０１２４】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合を薄相クロマトグラフィー（以下、ＴＬＣ）で随時確認した。反応終了後、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機相を回収した。次に、この有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次に、有機相を減圧濃縮することで得られた残渣についてヘキサン及び酢酸エチルの混合溶液による再結晶精製を行うことにより、淡黄色結晶の４，４’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホン（以下、中間体化合物Ｄ１という。）を２０ｇ（収率９５％）得た。
【０１２５】
（合成例２）４−（２−テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ）−フェニルボロン酸ピナコールエステルの合成
【０１２６】
【化２１】
【０１２７】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：６．２ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：２００ｍｌ
【０１２８】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、４−ブロモチオフェノール２５ｇをゆっくり添加した。次に、室温まで昇温しながら反応溶液を撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン２４ｍｌを添加した後、反応溶液を４０℃に昇温した後この温度（４０℃）で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水で反応を停止させた後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、４−（２−テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ）−ブロモベンゼンを４４ｇ得た。尚、得られた化合物は、そのまま次の工程で使用した。
【０１２９】
（２）（１）にて得られた化合物及びテトラヒドロフラン４００ｍｌを反応容器内に投入した。次に、反応溶液を−７８℃に冷却した後、ブチルリチウム（２．６Ｍ）６４ｍｌをゆっくり滴下した。次に、反応溶液を同温度（−７８℃）でさらに２時間撹拌した。次に、２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン３５ｍｌを滴下した後、反応溶液を室温までゆっくりと昇温しながら１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮することで得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、４−（２−テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ）−フェニルボロン酸ピナコールエステル（以下、中間体化合物Ｄ２という。）を３１ｇ（収率６４％）得た。
【０１３０】
（合成例３）トリフルオロメタンスルホン酸４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニルの合成
【０１３１】
【化２２】
【０１３２】
下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン：２５ｇ
トリフルオロメタンスルホニルクロリド：１２ｍｌ
クロロホルム：２００ｍｌ
【０１３３】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、ゆっくりとトリエチルアミン１５ｍｌを滴下した。次に、同温度（０℃）で反応溶液を１時間撹拌した。次に、反応溶液を室温まで昇温してからさらに５時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することでトリフルオロメタンスルホン酸４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニル（以下、中間化合物Ｄ３という。）を１７ｇ（収率４５％）得た。
【０１３４】
（合成例４）４，４’−ビス（３−ヒドロキシメチル−４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンの合成
【０１３５】
【化２３】
【０１３６】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン：２５ｇ
トリフルオロメタンスルホニルクロリド：２５ｍｌ
クロロホルム：３００ｍｌ
【０１３７】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、ゆっくりとトリエチルアミン４２ｍｌを滴下した。次に、同温度（０℃）で反応溶液を１時間撹拌した。次に、反応溶液を室温まで昇温してからさらに５時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して得られた粗生成物についてヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、ジフェニルスルホン−４，４’−ジイルビス（トリフルオロメタンスルホナート）を４９ｇ（収率９４％）得た。ここで得られた化合物については、そのまま次の工程で使用した。
【０１３８】
（２）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
ジフェニルスルホン−４，４’−ジイルビス（トリフルオロメタンスルホナート）（（１）で合成したものをそのまま使用）：２８ｇ
３−ホルミル−４−メトキシフェニルボロン酸：２５ｇ
炭酸水素ナトリウム：３０ｇ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：１．３ｇ
１，４−ジオキサン：５００ｍｌ
水：２５０ｍｌ
【０１３９】
次に、反応溶液を８０℃に加熱してこの温度（８０℃）で３時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水２５０ｍｌを添加した後、反応溶液を８０℃で１時間撹拌した。次に、生成した結晶（粗結晶）をろ過・回収した後、この粗結晶をエタノールで洗浄してから、ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで薄灰色の結晶を得た。
【０１４０】
次に、得られた薄灰色結晶と、下記に示す溶媒を反応容器内に投入した。
メタノール：２００ｍｌ
テトラヒドロフラン：２００ｍｌ
【０１４１】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、水素化ホウ素ナトリウム１２ｇをゆっくり添加した。次に、反応進行度合をＴＬＣで確認しながら反応溶液を同温度（０℃）で撹拌した。反応の進行を確認した後、２Ｎ塩酸水溶液を添加した。次に、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次に、生成した結晶を炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した。次に、エタノール／酢酸エチル／ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（３−ヒドロキシメチル−４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホン（以下、中間化合物Ｄ４という。）を４８ｇ（収率９０％）得た。
【０１４２】
［実施例１］
実施例１で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１４３】
【化２４】
【０１４４】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：６２０ｍｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：３０ｍｌ
【０１４５】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、中間化合物Ｄ１（２．３ｇ）をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン２．７ｍｌを添加した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で１２時間撹拌した。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。このようにして得られた粗生成物をそのまま次の工程で使用した。
【０１４６】
（２）（１）にて得られた粗生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
テトラヒドロフラン：１０ｍｌ
メタノール：４０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸水和物：少量
【０１４７】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過した後、この沈殿物をクロロホルム／ヘキサン混合溶液で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホン２．３ｇ（収率８２％）が得られた。
【０１４８】
（３）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホン：３．０ｇ
メタクリル酸：３０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：０．２ｇ
４−メトキシフェノール：０．２ｇ
トルエン：３０ｍｌ
【０１４９】
次に、反応溶液を２０時間加熱撹拌した。尚、このとき生成する水分を適宜除去し、反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応溶液を中性にした後、有機相をクロロホルムで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、４，４’−ビス（４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンを２．１ｇ（収率５５％）得た。
【０１５０】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１５１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９５（ｓ、６Ｈ）、４．２７（ｔ、４Ｈ）、４．５２（ｔ、４Ｈ）、５．５９（ｓ、２Ｈ）、６．１４（ｓ、２Ｈ）、６．９９−７．０１（ｍ、４Ｈ）、７．２５−７．２６（ｍ、４Ｈ）、７．５０−７．５３（ｍ、４Ｈ）、７．６５−７．６７（ｍ、４Ｈ）、７．９８−８．０２（ｍ、４Ｈ）
【０１５２】
［実施例２］
実施例２で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１５３】
【化２５】
【０１５４】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
中間体化合物Ｄ３：５ｇ
中間体化合物Ｄ２：６ｇ
炭酸水素ナトリウム：４ｇ
ジオキサン：１５０ｍｌ
水：７０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．３ｇ
【０１５５】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。この精製によって得られた化合物をそのまま次の工程で使用した。
【０１５６】
（２）次に、下記に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム：０．６ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：１００ｍｌ
【０１５７】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、（１）にて得られた化合物をゆっくり添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら２時間撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン２．４ｍｌを添加した後、反応溶液を６０℃に加熱しこの温度（６０℃）で１０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮することで粗生成物を得た。得られた粗生成物は、このまま次の工程で使用した。
【０１５８】
（３）（２）で得られた粗生成物、及び下記に示した試薬、溶媒を反応容器に投入した。
テトラヒドロフラン：１０ｍｌ
メタノール：４０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：少量
【０１５９】
次に、反応溶液を室温で１０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収し、クロロホルム／ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４−（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）−４’−（２−ヒドロキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを４．１ｇ（収率７３％）得た。
【０１６０】
（４）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンに代えて４−（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）−４’−（２−ヒドロキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により合成を行い、４−（４−（２−メタクリロイルオキシエチルチオ）フェニル）−４’−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを２．５ｇ（収率６３％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸の使用量は２０ｍｌである。
【０１６１】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１６２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９２（ｓ、３Ｈ）、１．９５（ｓ、３Ｈ）、３．２２（ｔ、２Ｈ）、４．２５（ｔ、２Ｈ）、４．２７（ｔ、２Ｈ）、４．５０（ｔ、２Ｈ）、５．５７（ｄ、１Ｈ）、５．５８（ｄ、１Ｈ）、６．１２（ｄ、１Ｈ）、６．１２（ｄ、１Ｈ）、６．９４−７．０３（ｍ、４Ｈ）、７．４７−７．６７（ｍ、４Ｈ）、７．８９−７．９９（ｍ、４Ｈ）
【０１６３】
［実施例３］
実施例３で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１６４】
【化２６】
【０１６５】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：１０ｇ
４−ヒドロキシフェニルボロン酸：５．８ｇ
炭酸水素ナトリウム：１０ｇ
ジオキサン：４００ｍｌ
水：２００ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．８ｇ
【０１６６】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で１０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。
【０１６７】
（２）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム：１．４ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：２００ｍｌ
【０１６８】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、（１）にて得られた生成物をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら２時間撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン６．４ｍｌを添加した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で５時間撹拌した。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。
【０１６９】
（３）（２）にて得られた生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
中間化合物Ｄ２：６．６ｇ
炭酸水素ナトリウム：４．５ｇ
ジオキサン：３００ｍｌ
水：１５０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．３ｇ
【０１７０】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。
【０１７１】
（４）（３）にて得られた生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
テトラヒドロフラン：１０ｍｌ
メタノール：４０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：少量
【０１７２】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収した後、この沈殿物をクロロホルム／ヘキサンの混合溶媒で再結晶精製を行うことで４−（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）−４’−（４−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル）ジフェニルスルホンを５ｇ（２８％）得た。
【０１７３】
（５）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンの代わりに４−（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）−４’−（４−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル）ジフェニルスルホン（２．０ｇ）を使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により合成を行い、４−（４−（２−メタクリロイルオキシエチルチオ）フェニル）−４’−（４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）フェニル）ジフェニルスルホンを０．８ｇ（収率３１％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸の使用量は２０ｍｌである。
【０１７４】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１７５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９１（ｓ、３Ｈ）、１．９５（ｓ、３Ｈ）、３．２４（ｔ、２Ｈ）、４．２７（ｔ、２Ｈ）、４．３５（ｔ、２Ｈ）、４．５２（ｔ、２Ｈ）、５．５６−５．６０（ｍ、２Ｈ）、６．０９−６．１３（ｍ、２Ｈ）、６．９８−７．０２（ｍ、２Ｈ）、７．４５−７．６９（ｍ、１２Ｈ）、７．９８−８．０２（ｍ、２Ｈ）
【０１７６】
［実施例４］
実施例４で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１７７】
【化２７】
【０１７８】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：１３ｇ
中間化合物Ｄ２：５０ｇ
炭酸水素ナトリウム：２９ｇ
ジオキサン：４００ｍｌ
水：２００ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：２．１ｇ
【０１７９】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。
【０１８０】
（２）（１）にて得られた生成物及び下記に示される試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
テトラヒドロフラン：３０ｍｌ
メタノール：１００ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：少量
【０１８１】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収した後、クロロホルム／ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）ジフェニルスルホンを１９ｇ（収率７４％）得た。
【０１８２】
（３）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンの代わりに、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）ジフェニルスルホンを使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により合成を行い、４，４’−ビス（４−（２−メタクリロイルオキシエチルチオ）フェニル）ジフェニルスルホンを３．０ｇ（収率８０％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸及びトルエンの使用量は、それぞれ２９ｍｌ、４０ｍｌである。
【０１８３】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１８４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９１（ｓ、６Ｈ）、３．２２（ｔ、４Ｈ）、４．３５（ｔ、４Ｈ）、５．５６（ｓ、２Ｈ）、６．０７（ｓ、２Ｈ）、７．４２−７．５２（ｍ、８Ｈ）、７．６５−７．７１（ｍ、４Ｈ）、８．００−８．０５（ｍ、４Ｈ）
【０１８５】
［実施例５］
実施例５で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１８６】
【化２８】
【０１８７】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：２．５ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：２００ｍｌ
【０１８８】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、中間化合物Ｄ１（１０ｇ）をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら撹拌した。次に、３−ブロモプロパノール５．４ｍｌを添加した後、反応溶液を５０℃に加熱してこの温度（５０℃）で１２時間撹拌した。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して得られた粗生成物をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶することにより白色結晶を得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。
【０１８９】
（２）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンの代わりに本実施例の（１）で得られた白色結晶を使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により、４，４’−ビス（４−（３−メタクリロイルオキシプロポキシ）フェニル）ジフェニルスルホンを１１．５ｇ（収率７１％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸、パラトルエンスルホン酸、メトキシフェノール及びトルエンの使用量は、それぞれ９０ｍｌ、０．６ｇ、０．６ｇ、９０ｍｌである。
【０１９０】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１９１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９４（ｓ、６Ｈ）、２．１９（ｄｔ、４Ｈ）、４．１１（ｔ、４Ｈ）、４．３６（ｔ、４Ｈ）、５．５６（ｂｒ、２Ｈ）、６．１１（ｂｒ、２Ｈ）、６．９４−６．９９（ｍ、４Ｈ）、７．４５−７．５４（ｍ、４Ｈ）、７．６３−７．６９（ｍ、４Ｈ）、７．９６−８．０３（ｍ、４Ｈ）
【０１９２】
［実施例６］
実施例６で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１９３】
【化２９】
【０１９４】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：１０ｇ
３−メトキシ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノール：２５ｇ
炭酸水素ナトリウム：２５ｇ
１，４−ジオキサン：５００ｍｌ
水：２５０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：２．５ｇ
【０１９５】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈して溶媒抽出により有機相を回収した後、この有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、この有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮することで粗生成物を得た。次に、この粗生成物をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで４，４’−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンが淡黄色結晶として得られた。このようにして得られた淡黄色結晶を、次の工程でそのまま使用した。
【０１９６】
（２）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：５．１ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：３００ｍｌ
【０１９７】
次に、反応溶液中に、（１）にて得られた淡黄色結晶をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次に、３−ブロモプロパノール１０ｍｌをゆっくりと滴下した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶することで白色結晶を得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。
【０１９８】
（３）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンの代わりに本実施例の（２）で得られた白色結晶を使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により、４，４’−ビス（４−（３−メタクリロイルオキシプロポキシ）−３−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンを２１ｇ（収率８４％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸、パラトルエンスルホン酸、メトキシフェノール及びトルエンの使用量は、それぞれ１２０ｍｌ、１．３ｇ、１１．３ｇ、３００ｍｌである。
【０１９９】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２００】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９４（ｓ、６Ｈ）、２．２４（ｄｔ、４Ｈ）、３．９１（ｓ、６Ｈ）、４．１７（ｔ、４Ｈ）、４．３７（ｔ、４Ｈ）、５．５６（ｂｒ、２Ｈ）、６．１１（ｂｒ、２Ｈ）、６．９２−７．１５（ｍ、６Ｈ）、７．６４−７．７０（ｍ、４Ｈ）、７．９７−８．０３（ｍ、４Ｈ）
【０２０１】
［実施例７］
実施例７で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０２０２】
【化３０】
【０２０３】
（１）実施例６（１）において、２−メトキシ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノールの代わりに２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノールを使用した以外は、実施例６（１）と同様の方法で合成を行った。尚、本実施例において４，４’−ジクロロジフェニルスルホン及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの使用量は、それぞれ９．６ｇ、２．３ｇである。これにより４，４’−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルスルホンを白色結晶として得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。
【０２０４】
（２）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：３．１ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：３００ｍｌ
【０２０５】
次に、反応溶液中に、（１）にて得られた白色結晶をゆっくりと添加した後、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次に、メタクリル酸−２−ブロモエチル１５ｇをゆっくりと滴下した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水を添加して反応を停止した後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより４，４’−ビス（４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルスルホンを１５ｇ（収率６６％）得た。
【０２０６】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２０７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．８９（ｓ、６Ｈ）、２．３０（ｓ、１２Ｈ）、４．３０（ｔ、４Ｈ）、４．６２（ｓ、４Ｈ）、５．４７（ｂｒ、２Ｈ）、６．０５（ｂｒ、２Ｈ）、７．２１−７．２７（ｍ、４Ｈ）、７．６０−７．６７（ｍ、４Ｈ）、７．９３−８．０１（ｍ、４Ｈ）
【０２０８】
［実施例８］
実施例８で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０２０９】
【化３１】
【０２１０】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：１１ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：３００ｍｌ溶液
【０２１１】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、中間化合物Ｄ４（３０ｇ）をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を同温度（０℃）で１時間撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン３６ｍｌを添加した後、反応溶液を７０℃に加熱してこの温度（７０℃）で６時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られる粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで薄黄色液体を得た。このようにして得られた薄黄色固体をそのまま次の工程で使用した。
【０２１２】
（２）（１）にて得られた薄黄色液体及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
メタノール：１５０ｍｌ
テトラヒドロフラン：５０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：触媒量
【０２１３】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、トリエチルアミンを添加して反応を停止させた後、生成した結晶をろ過・回収した。次に、得られた結晶をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで白色結晶を得た。このようにして得られた白色固体をそのまま次の工程で使用した。
【０２１４】
（３）（２）にて得られた白色液体及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
クロロホルム：１００ｍｌ
ピリジン：１５０ｍｌ
４−メトキシフェノール：０．２ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン：１．２ｇ
無水メタクリル酸：３０ｍｌ
【０２１５】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、２Ｎ塩酸を添加して反応を停止させた後、有機層をトルエンで抽出した。次に、得られた有機層を２Ｎ塩酸、１０％水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで油状の生成物を得た。次に、得られた油状生成物をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（（３−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）メチル）−４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンを２６ｇ（収率５５％）得た。
【０２１６】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２１７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．８９（ｓ、６Ｈ）、３．７８（ｔ、４Ｈ）、３．８７（ｓ、６Ｈ）、４．３５（ｔ、４Ｈ）、４．６５（ｓ、４Ｈ）、５．４９（ｂｒ、２Ｈ）、６．０９（ｂｒ、２Ｈ）、６．９０−６．９８（ｍ、２Ｈ）、７．４５−７．５１（ｍ、２Ｈ）、７．６０−７．７２（ｍ、８Ｈ）、７．９４−８．０２（ｍ、４Ｈ）
【０２１８】
［実施例９］
実施例９で合成した化合物の具体的な合成方法について以下に説明する。
【０２１９】
（１）実施例８（１）において、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピランの代わりに、下記に示す２−（４−クロロブトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（９．０ｍｌ）を使用した。これを除いては、実施例８（１）と同様の方法により合成を行い、薄黄色液体の生成物を得た。尚、本実施例において、水素化ナトリウム（５５％）及び中間化合物Ｄ４の使用量は、それぞれ２．８ｇ、８．０ｇである。このようにして得られた薄黄色液体をそのまま次の工程で使用した。
【０２２０】
【化３２】
【０２２１】
（２）実施例８（２）において、実施例８（１）にて得られた薄黄色液体の代わりに、本実施例（１）にて得られた薄黄色液体を使用したことを除いては、実施例８（２）と同様の方法により白色結晶を得た。このようにして得られた白色固体をそのまま次の工程で使用した。
【０２２２】
（３）実施例８（３）において、実施例８（２）にて得られた白色固体の代わりに、本実施例（２）にて得られた白色固体を使用した。これを除いては、実施例８（２）と同様の方法により、下記に示される化合物、即ち、４，４’−ビス（（３−（４−メタクリロイルオキシブトキシ）メチル）−４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンを６．７ｇ（収率５３％）得た。
【０２２３】
【化３３】
【０２２４】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２２５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．８９（ｓ、６Ｈ）、２．２４（ｄｔ、４Ｈ）、３．７３（ｔ、４Ｈ）、３．８５（ｓ、６Ｈ）、４．３２（ｔ、４Ｈ）、４．６５（ｓ、４Ｈ）、５．４９（ｂｒ、２Ｈ）、６．０９（ｂｒ、２Ｈ）、６．９１−６．９９（ｍ、２Ｈ）、７．４５−７．５２（ｍ、２Ｈ）、７．５９−７．７２（ｍ、８Ｈ）、７．９３−８．０２（ｍ、４Ｈ）
【０２２６】
［比較例１］
下記に示す化合物を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。
【０２２７】
【化３４】
【０２２８】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
中間化合物Ｄ３：５ｇ
４−ヒドロキシフェニルボロン酸：２．５ｇ
炭酸水素ナトリウム：４ｇ
ジオキサン：２００ｍｌ
水：１００ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．３ｇ
【０２２９】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで４−（４−ヒドロキシフェニル）−４’−ヒドロキシジフェニルスルホンを４．２ｇ（収率９８％）得た。
【０２３０】
（２）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム：１．２ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：１５０ｍｌ
【０２３１】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、（１）にて合成した４−（４−ヒドロキシフェニル）−４’−ヒドロキシジフェニルスルホン４．２ｇを同温度（０℃）でゆっくり添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら２時間攪拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン４．８ｍｌを添加した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で１２時間攪拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られる粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。これにより得られた生成物を次の工程でそのまま使用した。
【０２３２】
（３）（２）にて得られた生成物及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
テトラヒドロフラン：１０ｍｌ
メタノール：４０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：少量
【０２３３】
次に、反応溶液を室温で１２時間攪拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収した後、クロロホルム／ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことで４−（４−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル）−４’−（２−ヒドロキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを５．０ｇ（収率９２％）得た。
【０２３４】
（４）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
４−（４−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル）−４’−（２−ヒドロキシエチルオキシ）ジフェニルスルホン：４．０ｇ
メタクリル酸：２５ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：０．２ｇ
４−メトキシフェノール：０．２ｇ
トルエン：３０ｍｌ
【０２３５】
次に、反応溶液を２０時間加熱撹拌した。尚、このとき生成する水分を適宜除去し、反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応溶液を中性にした後、有機相をクロロホルムで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、４−（４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）フェニル）−４’−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを４．３ｇ（収率８１％）得た。
【０２３６】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２３７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９２（ｓ、３Ｈ）、１．９５（ｓ、３Ｈ）、４．２０−４．２９（ｍ、４Ｈ）、４．４６−４．５２（ｍ、４Ｈ）、５．５８（ｄ、１Ｈ）、５．５８（ｄ、１Ｈ）、６．１２（ｄ、１Ｈ）、６．１２（ｄ、１Ｈ）、６．９４−７．０３（ｍ、４Ｈ）、７．４７−７．５４（ｍ、２Ｈ）、７．６１−７．６７（ｍ、２Ｈ）、７．８８−７．９７（ｍ、４Ｈ）
【０２３８】
［比較例２］４，４’−ビス（２−メチルチオフェニル）ジフェニルスルホンの合成
下記に示す化合物（４，４’−ビス（２−メチルチオフェニル）ジフェニルスルホン）を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。
【０２３９】
【化３５】
【０２４０】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：０．４ｇ
２−メチルチオフェニルボロン酸：０．６ｇ
炭酸水素ナトリウム：０．８ｇ
１，４−ジオキサン：２０ｍｌ
水：１０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．０７ｇ
【０２４１】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度で２０時間撹拌した。尚。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機層を回収した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物を得た。次に、この粗生成物を、ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（２−メチルチオフェニル）ジフェニルスルホンを淡黄色結晶として０．５ｇ（収率７２％）得た。
【０２４２】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２４３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ ２．３７（ｓ、６Ｈ）、７．１４−７．４０（ｍ、８Ｈ）、７．５６−７．６２（ｍ、４Ｈ）、８．００−８．０６（ｍ、４Ｈ）
【０２４４】
［比較例３］４−（４−メチルチオフェニル）ジフェニルエーテルの合成
下記に示す化合物（４−（４−メチルチオフェニル）ジフェニルエーテル）を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。
【０２４５】
【化３６】
【０２４６】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
４−ブロモジフェニルエーテル：０．８ｇ
４−メチルチオフェニルボロン酸：０．６ｇ
炭酸水素ナトリウム：０．８ｇ
ジオキサン：２０ｍｌ
水：１０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．１ｇ
【０２４７】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度で２０時間撹拌した。尚。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機層を回収した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物を得た。次に、この粗生成物を、ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４−（４−メチルチオフェニル）ジフェニルエーテルを０．８ｇ（収率８９％）得た。
【０２４８】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２４９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ ２．５１（ｓ、３Ｈ）、７．０３−７．１５（ｍ、４Ｈ）、７．２８−７．３９（ｍ、５Ｈ）、７．４６−７．５５（ｍ、４Ｈ）
【０２５０】
［光学特性の評価］
実施例及び比較例でそれぞれ合成した化合物について光学特性の評価を以下に示す方法で行った。
【０２５１】
（１）評価用サンプルの作製
まず評価用のサンプルを以下に示す方法で作製した。
【０２５２】
（１ａ）屈折率測定用サンプル
直径２０ｍｍの円板型のガラス基板を２枚用意して、測定対象となる化合物を、厚さが１２．５μｍで均一になるように、１枚目のガラス基板上に載置した。次に、２枚目のガラス基板を測定対象となる化合物上に載置した後、ガラス基板の外周部分を封止した。ここで測定対象となる化合物が（メタ）アクリレート化合物である場合は、サンプルに紫外光を照射することで２枚のガラス基板に挟まっている化合物を硬化させた。一方、測定対象となる化合物が（メタ）アクリレート化合物以外の化合物である場合は、サンプルを加熱して２枚のガラス基板に挟まっている化合物を融解させた。
【０２５３】
（１ｂ）透過率測定用サンプル
上記（１ａ）において、用意する基板を直径５０μｍの円板型のガラス基板とし、１枚目のガラス基板上に載置する測定対象となる化合物の厚さを５００μｍとすることを除いては、上記（１ａ）と同様の方法によりサンプルを作製した。
【０２５４】
（２）測定及び評価
屈折率は、アッベ屈折計（カルニュー光学工業）を用いて測定した。また透過率は、光路長の異なる２種類の膜を成形し、日立ハイテクノロジー社製分光光度計Ｕ−４０００（製品名）でそれぞれ測定し、４１０ｎｍでの内部透過率（５００μｍ）に換算した結果を表に示す。ここで光学特性が図１中のＢ範囲内でありかつ４１０ｎｍでの透過率が９０％以上のものを総合評価○とし、それ以外を総合評価×とした。結果を表１に示す。
【０２５５】
［安定性の評価］
安定性は、大気中２５℃で２週間保管した際に変質がないものを○、変質したものを×とした。但し、重合性置換基を有するものは、少量（１０００ｐｐｍ以下）の重合禁止剤を含有させた状態で判定している。結果を表１に示す。
【０２５６】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【０２５７】
本発明の光学材料用有機化合物及び光学材料は、屈折率の分散特性（アッベ数（νd））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く（高θｇ，Ｆ特性）、色収差補正機能の高い特性を有する。このため、カメラレンズ等の複数枚のレンズを有する装置に利用することができる。
【符号の説明】
【０２５８】
１０：光学部材、２０（３０，４０）：レンズ基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子用化合物、並びにこれを用いた光学材料及び光学素子に関し、特に特異な光学特性を有する（メタ）アクリレート化合物、並びにこれを用いた光学材料及び光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、硝材（ガラス材料）や有機樹脂等からなる光学材料は、短波長側になるにつれ徐々にその屈折率が高くなる。ところでこの屈折率の波長分散性を表す指標として、アッベ数（νd）や２次分散特性（θｇ，Ｆ）等が挙げられる。このアッベ数やθｇ，Ｆ値は、それぞれの光学材料特有の値であるが、多くの場合、ある一定の範囲内に収まっている。図１は、従来の光学材料（硝子材及び有機樹脂）の２次分散特性とアッベ数との関係を示す図である。
【０００３】
尚、アッベ数（νd）、２次分散特性（θｇ，Ｆ）は以下の式で表される。
アッベ数［νd］＝（ｎd−１）／（ｎF−ｎC）
２次分散特性［θｇ，Ｆ］＝（ｎg−ｎF）／（ｎF−ｎC）
（ｎdは、波長５８７．６ｎｍでの屈折率であり、ｎFは、波長４８６．１ｎｍでの屈折率であり、ｎCは、波長６５６．３ｎｍでの屈折率である、ｎgは、波長４３５．８ｎｍでの屈折率である。）
【０００４】
ところで、光学材料（硝材、有機樹脂等）の構成（材料種や分子構造）を詳細に設計することにより、前記一定の範囲内から外れている優れた光学特性（高θｇ，Ｆ特性）を有する光学材料も提案されている。例えば、図１のＡで示されている有機樹脂であるポリビニルカルバゾールは、汎用の有機樹脂材料よりも高い２次分散特性（高θｇ，Ｆ特性）を有している。
【０００５】
また一般に、屈折光学系においては、分散特性の異なる硝材を適宜組み合わせることによって色収差を減らすことは可能である。例えば、望遠鏡等の対物レンズでは分散の小さい硝材を正レンズ、分散の大きい硝材を負レンズとして、これらを組み合わせて用いることで軸上に現れる色収差を補正している。ただし、レンズの構成、枚数が制限される場合や使用される硝材が限られている場合等では、色収差を十分に補正することが非常に困難となる場合がある。このような課題を解決する方法の一つとして、異常分散特性を有するガラス材料を活用する方法があり、この方法を利用した光学素子類の設計が行われている。
【０００６】
また、色収差補正機能に優れ、その形状が非球面形状等である光学素子を製造する場合、硝材を材料として用いるより、球面ガラス等の上に有機樹脂を成形する等の方が量産性や成形性、形状の自由度、軽量性に優れるという利点がある。しかし、従来の有機樹脂の光学特性は、図１に示すように限られた一定の範囲内（２次分散特性［θｇ，Ｆ］が０．７００以下）に収まっており、特異な分散特性を示す有機樹脂類は非常に少ない。
【０００７】
以上のような背景の中、特許文献１では、Ｎ−アクリロイルカルバゾール及び多官能ポリエステルアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート及び重合開始剤を所定の比率で混合してなる光学用樹脂組成物が提案されている。また特許文献１では、上述した光学用樹脂組成物が、加工が容易であって、硬化物において十分な異常分散性と耐久性を有する材料になることを報告している。
【０００８】
また特許文献２では、芳香族化合物に、π電子を有するヘテロ環化合物が、ｓｐ2炭素原子を介して少なくとも１つ以上結合していることを特徴とする含ヘテロ芳香族化合物が提案されている。また特許文献２によれば、提案された含ヘテロ芳香族化合物は、屈折率の分散特性（アッベ数（νd））が高く、かつ２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高い（異常分散特性）、色収差補正機能の高い特性を有する材料であることを報告している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００８−１５８３６１号公報
【特許文献２】特開２０１０−２０２５３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、図１中のＢで示されているエリア内の特性（高θｇ、Ｆ特性）を有する材料で実用性（低着色、高透明）のあるものが現在存在しない。また特許文献１にて提案された材料は、いずれもθｇ，Ｆ値が０．７０以下である。さらに特許文献２にて提案された材料は、θｇ，Ｆ値が０．７０以上であるものの、透過率が低い。具体的には、膜厚１２．５μｍのサンプルにおいて波長４３０ｎｍの光の透過率９１％以下である。
【００１１】
本発明は、以上に述べた背景技術に鑑みてなされたものであり、その目的は、屈折率の分散特性（アッベ数（νd））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く、可視光領域内の透過率が高く、かつ色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用化合物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の光学材料用有機化合物は、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物であることを特徴とする。
【００１３】
【化１】
（式（１）において、Ｘ及びＹは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００１４】
【化２】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。Ｚ1及びＺ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。ａ及びｂは、それぞれ０乃至２の整数である。ａが２のとき２つのＺ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。ｂが２のとき２つのＺ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。）
（式（２）において、Ｘは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００１５】
【化３】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００１６】
【化４】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
Ｒ11及びＲ12は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。Ｚ1及びＺ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。ｃは、０乃至２の整数である。ｃが２のとき２つのＺ11は、同じであってもよいし異なっていてもよい。）
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、屈折率の分散特性（アッベ数（νｄ））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く、色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用有機化合物を提供することができる。
【００１８】
このため、本発明の光学材料用有機化合物を有する光学材料を成形することで得られる光学素子は、効率良く色収差を取り除くことができる。従って、本発明によれば、光学系をより軽量短小化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】市販されている光学材料の２次分散特性とアッベ数との関係を示したグラフである。
【図２】本発明の光学素子の例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】
まず本発明の光学素子用有機化合物について説明する。本発明の光学素子用有機化合物は、具体的には、下記一般式（１）又は（２）で表される化合物である。
【００２２】
【化５】
【００２３】
本発明の光学素子用有機化合物は、下記（１Ａ）又は（２Ａ）で示される部分構造を基本骨格として有する化合物であるが、好ましくは、下記（１Ａ）又は（２Ａ）で示される部分構造と、（メタ）アクリロイル基と、を有する（メタ）アクリレート化合物である。
【００２４】
【化６】
（式（１Ａ）及び式（２Ａ）において、Ｘ0及びＹ0は、それぞれ酸素原子又は硫黄原子である。）
【００２５】
尚、本発明の光学素子用有機化合物の好ましい態様については後述する。
【００２６】
まず式（１）の化合物について説明する。式（１）において、Ｘ及びＹは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００２７】
【化７】
【００２８】
式（１）中のＸ及びＹで表わされる置換基において、＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。
【００２９】
式（１）において、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。
【００３０】
Ｒ1及びＲ2で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。
【００３１】
式（１）において、Ｚ1及びＺ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。
【００３２】
Ｚ1及びＺ2で表されるハロゲン原子として、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。
【００３３】
Ｚ1及びＺ2で表されるアルコキシ基として、メトキシ基及びエトキシ基が挙げられる。
【００３４】
Ｚ1及びＺ2で表されるアルキルチオ基として、メチルチオ基及びエチルチオ基が挙げられる。
【００３５】
Ｚ1及びＺ2で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。尚、このアルキル基は、さらに、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基）、２−ヒドロキシエトキシ基、２−メルカプトエトキシ基、２−メルカプトエチルチオ基、（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基）、３−ヒドロキシプロポキシ基、３−メルカプトプロポキシ基、３−メルカプトプロピルチオ基、（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基）、４−ヒドロキシブトキシ基、４−メルカプトブトキシ基、４−メルカプトブチルチオ基、アリルオキシ基、アリルチオ基、４−ビニルベンジルオキシ基、オキシラニルメトキシ基、オキシラニルエトキシ基、チイラニルメトキシ基、チイラニルエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メトキシ基及びエトキシ基から選択される置換基を有していてもよい。
【００３６】
式（１）において、ａ及びｂは、それぞれ０乃至２の整数である。ここでａが２のとき２つのＺ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。またｂが２のとき２つのＺ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。合成のし易さを考慮すると、ａ及びｂは、それぞれ０又は１であることが好ましい。
【００３７】
次に、式（１）に示される化合物の好ましい態様について説明する。ここで式（１）に示される化合物の好ましい態様は、下記（１−１）と（１−２）とに大別される。
【００３８】
（１−１）Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示す置換基より選択される置換基である場合
【００３９】
【化８】
（１−２）Ｘ及びＹが、それぞれ硫黄原子（−Ｓ−）又は酸素原子（−Ｏ−）である場合
【００４０】
（１−１）の場合、下記（１−１−１）乃至（１−１−３）を充足する態様がより好ましい。
【００４１】
（１−１−１）Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００４２】
【化９】
（１−１−２）Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基であること
（１−１−３）Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００４３】
また（１−１）の場合、上記（１−１−１）、並びに下記（１−１−４）及び（１−１−５）を充足する態様が特に好ましい。
（１−１−４）Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素又は（メタ）アクリロイル基であること
（１−１−５）Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００４４】
（１−２）の場合、下記（１−２−１）乃至（１−２−３）を充足する態様が好ましい。
（１−２−１）Ｘ及びＹが、それぞれ−Ｓ−又は−Ｏ−であること
（１−２−２）Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素又は炭素数１乃至２のアルキル基であること
（１−２−３）Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００４５】
また（１−２）の場合、上記（１−２−１）及び（１−２−２）、並びに下記（１−２−４）を充足する態様がより好ましい。
（１−２−４）Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基であること
【００４６】
さらに（１−２）の場合、上記（１−２−１）及び（１−２−４）、並びに下記（１−２−５）を充足する態様が特に好ましい。
（１−２−５）Ｒ1及びＲ2が、それぞれ炭素数１乃至２のアルキル基であること
【００４７】
ところで、Ｚ1及びＺ2が置換基を有する炭素数１乃至２のアルキル基である場合、当該アルキル基の具体的な構造として下記一般式（３）に示される構造が好ましい。
【００４８】
【化１０】
【００４９】
式（３）において、＊＊は、結合手を表す。またｍは、０又は１であり、ｎは、２乃至４の整数を表す。尚、合成のし易さという観点から、ｍは０であることが好ましい。ここで、Ｚ1及びＺ2のいずれかの構造が式（３）に示される構造である場合、化合物自体がよりフレキシブルな構造になるので、化合物自体の融点を下げることができる。化合物自体の融点が下がることは、成形のしやすさという観点で有利であるといえる。
【００５０】
次に、下記一般式（２）の化合物について説明する。
【００５１】
【化１１】
【００５２】
式（２）において、Ｘは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００５３】
【化１２】
【００５４】
式（２）中のＸで表わされる置換基において、＊は、Ｒ11との結合手を表す。
【００５５】
式（２）において、Ｙは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【００５６】
【化１３】
【００５７】
式（２）中のＹで表わされる置換基において、＊は、Ｒ12との結合手を表す。
【００５８】
式（２）において、Ｒ11及びＲ12は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。
【００５９】
Ｒ11及びＲ12で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。
【００６０】
式（２）において、Ｚ3は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。
【００６１】
Ｚ3で表されるアルコキシ基として、メトキシ基及びエトキシ基が挙げられる。
【００６２】
Ｚ3で表されるアルキルチオ基として、メチルチオ基及びエチルチオ基が挙げられる。
【００６３】
Ｚ3で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。尚、このアルキル基は、さらに、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基）、２−ヒドロキシエトキシ基、２−メルカプトエトキシ基、２−メルカプトエチルチオ基、（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基）、３−ヒドロキシプロポキシ基、３−メルカプトプロポキシ基、３−メルカプトプロピルチオ基、（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基（１−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、２−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基）、４−ヒドロキシブトキシ基、４−メルカプトブトキシ基、４−メルカプトブチルチオ基、アリルオキシ基、アリルチオ基、４−ビニルベンジルオキシ基、オキシラニルメトキシ基、オキシラニルエトキシ基、チイラニルメトキシ基、チイラニルエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メトキシ基及びエトキシ基から選択される置換基を有していてもよい。
【００６４】
式（２）において、ｃは、０乃至２の整数である。ｃが２のとき２つのＺ3は、同じであってもよいし異なっていてもよい。合成のし易さを考慮すると、ｃは、０又は１であることが好ましい。
【００６５】
次に、式（２）に示される化合物の好ましい態様について説明する。式（２）に示される化合物のうち、好ましい態様は、下記（２−１）乃至（２−４）を充足する態様である。
【００６６】
（２−１）Ｘが、下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００６７】
【化１４】
（２−２）Ｙが、下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００６８】
【化１５】
（２−３）Ｒ11及びＲ12が、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基であること
（２−４）Ｚ3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００６９】
また式（２）に示される化合物のうち、より好ましい態様は、上記（２−３）及び（２−４）、並びに下記（２−５）及び（２−６）を充足する態様である。
（２−５）Ｘが、下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００７０】
【化１６】
（２−６）Ｙが、下記に示される置換基から選択される置換基であること
【００７１】
【化１７】
【００７２】
また式（２）に示される化合物のうち、特に好ましい態様は、上記（２−５）及び（２−６）、並びに下記（２−７）及び（２−８）を充足する態様である。
（２−７）Ｒ11及びＲ12が、それぞれ水素原子及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基であること
（２−８）Ｚ3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であること
【００７３】
ところで、Ｚ3が置換基を有する炭素数１乃至２のアルキル基である場合、当該アルキル基の具体的な構造として下記一般式（３）に示される構造が好ましい。
【００７４】
【化１８】
【００７５】
式（３）において、＊＊は、結合手を表す。またｍは、０又は１であり、ｎは、２乃至４の整数を表す。尚、合成のし易さという観点から、ｍは０であることが好ましい。ここで、Ｚ3の構造が式（３）に示される構造である場合、化合物自体がよりフレキシブルな構造になるので、化合物自体の融点を下げることができる。化合物自体の融点が下がることは、成形のしやすさという観点で有利であるといえる。
【００７６】
次に、本発明に係る光学材料用有機化合物の製造方法について一例を挙げて説明する。本発明に係る光学材料用有機化合物は、その製造ルートについては特に限定されず、どの様な製造方法でも採用することが可能である。ただし少なくとも下記（ａ）及び（ｂ）の合成工程が含まれ、化合物によってはさらに（ｃ）の合成工程が含まれる。
（ａ）芳香環（ベンゼン環）同士の結合の形成
（ｂ）エーテル（チオエーテル）化反応
（ｃ）（メタ）アクリレート化反応
【００７７】
合成のしやすさ等を考慮すると、上記合成工程は、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の順番で行われる。
【００７８】
合成工程（ａ）においては、芳香族化合物が有する官能基の種類によって臨機応変に変更可能である。例えば、遷移金属触媒によるカップリング反応やハロゲン化物同士の酸化的カップリング反応、芳香環上での置換反応等である。尚、反応の収率を考慮すると遷移金属触媒によるカップリング反応が望ましい。
【００７９】
遷移金属触媒によるカップリング反応は、任意に選択する事が可能である。代表的な方法としては、ホウ酸等を利用する鈴木カップリング、有機スズを利用するスティルカップリング、有機亜鉛を利用する根岸カップリング等が好適に用いられる。
【００８０】
合成工程（ｂ）において、エーテル化反応の代表的な方法としては、水酸基を水素化ナトリウムや水酸化カリウム等で塩にした後、対応するハロゲン化物を添加するウィリアムソンエーテル合成法等である。
【００８１】
一方、チオエーテル化反応は、チオール基生成反応と、チオール基とハロゲン化物との反応と、により行われる。ここでチオール基生成反応は、例えば、水酸基を求核置換反応に対して活性がある置換基（ＴｓＯ−、Ｃｌ−、ＣＦ3Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ−等）に変換した後、硫化イオン（Ｓ2-）を用いた求核置換反応を行うことにより達成される。またチオール基とハロゲン化物との反応においては、上述したウィリアムソンエーテル合成法等を応用することができる。
【００８２】
合成工程（ｃ）において、代表的な方法としては、（メタ）アクリル酸ハライドや（メタ）アクリル酸無水物を使用して水酸基をエステル化する方法、（メタ）アクリル酸の低級アルコールのエステルを使用するエステル交換反応、Ｎ，Ｎ‘−ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤を使用して（メタ）アクリル酸と該ジオールとを脱水縮合させる直接エステル化反応、（メタ）アクリル酸と該ジオールを硫酸等の脱水剤存在下で加熱する方法等が好適に用いられる。
【００８３】
また、本発明に係る光学材料用有機化合物が（メタ）アクリレート化合物である場合、反応時や保存時に重合が進行しないように重合禁止剤を必要に応じて使用してもよい。重合禁止剤の例としては、ｐ−ベンゾキノン、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、２，５−ジフェニルパラベンゾキノン等のヒドロキノン類、テトラメチルピペリジニル−Ｎ−オキシラジカル（ＴＥＭＰＯ）等のＮ−オキシラジカル類、ｔ−ブチルカテコール等の置換カテコール類、フェノチアジン、ジフェニルアミン、フェニル−β−ナフチルアミン等のアミン類、ニトロソベンゼン、ピクリン酸、分子状酸素、硫黄、塩化銅（ＩＩ）等を挙げることができる。この中でもヒドロキノン類、フェノチアジン及びＮ−オキシラジカル類が汎用性かつ重合抑制の点で好ましい。
【００８４】
重合禁止剤の使用量は、前記（メタ）アクリレート化合物に対して、下限が、通常１０ｐｐｍ以上、好ましくは５０ｐｐｍ以上であり、上限が、通常１００００ｐｐｍ以下、好ましくは１０００ｐｐｍ以下である。少なすぎる場合は、重合禁止剤としての効果が発現しないか効果が小さく、反応時や後処理工程での濃縮時に重合が進行する危険性があり、多すぎる場合には、例えば、後述する光学材料を製造する際の不純物となり、また、重合反応性を阻害する等の悪影響を及ぼす危険性があり好ましくない。
【００８５】
次に、本発明の光学素子用有機化合物の特徴について説明する。
【００８６】
本発明者らは、従来よりも高い色収差補正機能を光学素子に付与するためには、光学素子の材料特性として、下記（ｉ）及び（ｉｉ）を充足することが光学設計上、極めて有効であることに着目した。
（ｉ）可視光領域内の透過率が高いこと
（ｉｉ）２次分散特性（θｇ，Ｆ）が汎用の材料から外れて、より大きい特性（高θｇ，Ｆ特性）であること
【００８７】
具体的には、図１にて示される、アッベ数（νd）と２次分散特性（θｇ，Ｆ）との関係が硝材若しくは有機樹脂の汎用材料のプロットからずれているＢのエリアである。具体的には、５００μｍ内部透過率が４１０ｎｍで９０％以上の特性である。ここでＢエリアの特性は、νd＜２５、θｇ，Ｆ＞０．７０である。
【００８８】
本発明者等は、図１に示されるＢエリアの特性を満たす材料について鋭意検討を重ねた結果、共役可能な電子吸引性置換基と電子供与性置換基を少なくとも一つずつ有する長い共役構造の芳香族化合物が、屈折率の分散特性（アッベ数（νd））が高く、かつ２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高い（高θｇ，Ｆ特性）、色収差補正機能の高い特性と実用性を兼ね備えた材料になることを見出した。即ち、本発明者らは、下記（１Ａ）あるいは（２Ａ）で示される部分構造を基本骨格とする化合物を見出した。
【００８９】
【化１９】
【００９０】
一般に、芳香族化合物に代表される長い共役構造を有する化合物は、汎用材料よりもバンドギャップが小さいため、紫外領域の吸収端が可視光領域側にシフトしている。その影響により、長い共役構造を有する化合物は、高屈折率特性を有するようになる。この高屈折率特性は、短波長側により影響を与えるため、必然的に２次分散特性（θｇ、Ｆ）が高くなって化合物の特性が図１に示されるＢエリア内に収まるようになる。しかし、単純に芳香族化合物を連結させて長い共役構造を構築するだけでは実用性のある材料は得られない。例えば、大きな芳香族化合物は、合成性や他の化合物との相溶性、着色の点において課題が残る。そのため、前記共役可能な電子吸引性置換基と電子供与性置換基を少なくとも一つずつ有する長い共役構造の芳香族化合物が望ましい。
【００９１】
このように、屈折率特性や２次分散特性を高くするという観点からすれば、化合物の共役長は長ければ長い方がよい。しかし、共役構造が長くなり過ぎると可視光領域の短波長側での透過率が低下するため、光学材料という用途を考慮する場合には、共役構造の長さを調整する必要がある。ここで、一般式（１Ａ）及び（２Ａ）で示される部分構造においては、透過率及び屈折率特性について塩梅がよい程の共役長を有している。
【００９２】
ところで共役可能な電子吸引性置換基としては、スルホン、ケトン、イミン、オキシム、ニトリル、ニトロ、エステル等が挙げられる。ここで生成物の長期安定性を考慮すると、好ましくは、スルホン、ケトン、ニトリル、エステルであり、より好ましくはスルホンである。このため、本発明の光学素子用有機化合物には、（１Ａ）及び（２Ａ）に示されるように部分構造としてスルホンを有する化合物である。
【００９３】
また共役可能な電子供与性置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボニルオキシ基等である。好ましくは、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、カルボニルオキシ基である。ただし、置換基の分子量が大きくなり過ぎると高い２次分散特性（θｇ、Ｆ）が得られなくなる。このため、置換基としては、炭素数が０乃至１０の置換基が望ましい。合成のし易さという観点からすれば、好ましくは、炭素数１乃至４の置換基である。本発明においては、特に好ましい置換基であるヒドロキシル基、メルカプト基、炭素数１乃至４のアルコキシ基及び炭素数１乃至４のアルキルチオ基が選択されている。
【００９４】
また式（１）乃至（２）中に示されているＨ（水素原子）は、共役構造を調整するために必要であり、その他の置換基では当該置換基の立体障害に起因する芳香環同士のねじれによる共役の切断が起こり、特性が発現しない場合がある。
【００９５】
次に、本発明に係る光学材料について説明する。
【００９６】
本発明の光学材料は、下記（Ａ）乃至（Ｃ）に大別される。
（Ａ）本発明の光学材料用有機化合物をマトリックスポリマーに含有させてなる材料
（Ｂ）本発明の光学材料用有機化合物を重合させてなる材料
（Ｃ）本発明の光学材料用有機化合物と他の化合物とを共重合させてなる材料
【００９７】
ここで、本発明の光学材料用有機化合物のうち、（メタ）アクリロイル基を有していない化合物は（Ａ）の形態で用いられる。一方、本発明の光学材料用有機化合物のうち、（メタ）アクリロイル基を有している化合物は（Ａ）乃至（Ｃ）のいずれの形態においても利用可能であるが、専ら（Ｂ）又は（Ｃ）の形態で用いられる。
【００９８】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ａ）の形態で用いる場合、マトリックスポリマーとして、（メタ）アクリル系ポリマー；アリル系ポリマー；エチレン単独重合体、エチレンとプロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン等の１種又は２種以上のα−オレフィンとのランダム又はブロック共重合体、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとの１種又は２種以上のランダム又はブロック共重合体、プロピレン単独重合体、プロピレンとプロピレン以外の１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン等の１種又は２種以上のα−オレフィンとのランダム又はブロック共重合体、１−ブテン単独重合体、アイオノマー樹脂、さらにこれら重合体の混合物等のポリオレフィン系樹脂；石油樹脂、テルペン樹脂等の炭化水素原子系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６１０、ナイロン６／６６、ナイロン６６／６１０、ナイロンＭＸＤ等ポリアミド系樹脂；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリル等のスチレン，アクリロニトリル系樹脂；ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリケトン樹脂；ポリメチレンオキシド樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリイミド樹脂；ポリアミドイミド樹脂等が挙げられる。尚、（メタ）アクリル系ポリマーとは、後述する（メタ）アクリレート化合物を重合してなるポリマーである。またアリル系ポリマーとは、後述するアリル化合物を重合してなるポリマーである。これらの樹脂は１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。またこれらマトリックスポリマーは、本発明の光学材料用有機化合物との相溶性を考慮した上で適宜選択される。
【００９９】
また本発明の光学材料用有機化合物を（Ａ）の形態で用いる場合、材料全体に対する本発明の光学材料用有機化合物の含有量は、本発明の光学材料用有機化合物とマトリックスポリマーとの相溶性を考慮した上で適宜選択される。
【０１００】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ａ）の形態で用いる場合、マトリックスポリマーとなる樹脂の含有量は、材料全体を基準として５０重量％以上９９重量％以下である。得られる光学材料のθｇ，Ｆ特性や成形体の脆性を考慮すると、好ましくは、５０重量％以上８０重量％以下が望ましい。
【０１０１】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ｂ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料は、本発明の光学材料用有機化合物（（メタ）アクリレート化合物）と、重合開始剤と、からなる組成物から作製される。尚、この組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、樹脂等をさらに含有させてもよい。
【０１０２】
重合開始剤には、光照射によりラジカル種を発生するものやカチオン種を発生するもの、熱によりラジカル種を発生するもの等が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１０３】
光照射によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、４−フェニルベンゾフェノン、４−フェノキシベンゾフェノン、４，４’−ジフェニルベンゾフェノン、４，４’−ジフェノキシベンゾフェノン等であるがこれらに限定されない。
【０１０４】
また、光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤としては、ヨードニウム（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］−ヘキサフルオロフォスフェートが好適な重合開始剤として挙げられるがこれに限定されない。
【０１０５】
さらに、熱によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、アゾビソイソブチルニトリル（ＡＩＢＮ）等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ―ブチルパーオキシネオヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート、ｔ―ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、クミルパーオキシネオヘキサノエート、クミルパーオキシネオデカノエート等の過酸化物が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１０６】
本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物を（Ｂ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物の含有量は、望ましくは１．０重量％以上９９重量％以下であり、５０重量％以上９９重量％以下が好ましい。
【０１０７】
本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物を（Ｂ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料の硬化・成形に用いる光重合開始剤の添加量は、重合可能な成分に対して０．０１重量％以上１０．００重量％以下の範囲が好ましい。尚、光重合開始剤は樹脂の反応性、光照射の波長によって１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。
【０１０８】
本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物を（Ｂ）の形態で用いる場合、使用される重合禁止剤としては、本発明の光学材料用有機化合物の保存剤として上述した重合禁止剤が挙げられる。
【０１０９】
光として紫外線等を照射して重合を開始させる場合には、公知の増感剤等を使用することもできる。増感剤の代表的なものとしては、ベンゾフェノン、４，４−ジエチルアミノベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０１１０】
尚、重合可能な樹脂成分に対する光重合開始剤の添加比率は、光照射量、さらには、付加的な加熱温度に応じて適宜選択することができる。また、得られる重合体の目標とする平均分子量に応じて、調整することもできる。
【０１１１】
本発明の光学材料の硬化・成形に用いる光重合開始剤の添加量は、重合可能な成分に対して０．０１重量％以上１０．００重量％以下の範囲が好ましい。光重合開始剤は樹脂の反応性、光照射の波長によって１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。
【０１１２】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ｃ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物と共重合させる化合物としては、特に制限は無い。例えば、１，３−アダマンタンジオールジメタクリレート、１，３−アダマンタンジメタノールジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、２（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−メタクリロイルオキシ）フェニル］フルオレン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ブチキシエチルアクリレート、ブトキシメチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジルアクリレート、エチレングリコールビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート、２，２−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＦジアクリレート、ビスフェノールＦジメタクリレート、１，１−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）スルホン、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、メチルチオアクリレート、メチルチオメタクリレート、フェニルチオアクリレート、ベンジルチオメタクリレート、キシリレンジチオールジアクリレート、キシリレンジチオールジメタクリレート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレート、メルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等の（メタ）アクリレート化合物、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合物、スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、３，９−ジビニルスピロビ（ｍ−ジオキサン）等のビニル化合物、ジイソプロペニルベンゼン等が挙げられる。ただし本発明はこれらに限定されない。
【０１１３】
本発明の光学材料用有機化合物を（Ｃ）の形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物と共重合させる化合物の含有量は、材料全体を基準として１．０重量％以上８０重量％以下である。得られる光学材料のθｇ，Ｆ特性や成形体の脆性を考慮すると、好ましくは、１．０重量％以上３０重量％以下である。
【０１１４】
次に、本発明の光学素子について図を参照しながら説明する。図２は、本発明の光学素子の例を示す概略図である。（ａ）の光学素子は、本発明の光学材料を成形加工してなる薄膜（光学部材１０）がレンズ基板２０の片方の面上に設けられている。図１（ａ）の光学素子を作製する方法としては、例えば、光透過性材料からなる基板上に膜厚の薄い層構造を形成する方法が採用される。具体的には、金属材料からなる型をガラス基板から一定の距離を置いて設け、この型とガラス基板との間にある空隙に流動性の光学材料又は光学用樹脂組成物を充填してから、軽く抑えることで、型成形を行う。そして必要に応じてその状態に保ったまま該光学材料又は該光学用樹脂組成物の重合を行う。かかる重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を用いたラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常、紫外光もしくは可視光を用いて行う。例えば、前記基板として利用する光透過性材料、具体的にはガラス基板を介して、成形されている光学材料調製用のモノマー等の原料に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。
【０１１５】
一方、かかる光重合反応による光学材料の成形体の作製においては、照射される光が型成形されているモノマー等の原料の全体に均一に照射されることがより好ましい。従って、利用される光照射は、基板に利用する光透過性材料、例えばガラス基板を介して、均一に行うことが可能な波長の光を選択することが一層好ましい。この際、光透過性材料の基板上に形成する光学材料の成形体の厚さを薄くすることは、本発明にはより好適である。
【０１１６】
一方、図１（ｂ）の光学素子は、本発明の光学材料を成形加工してなる薄膜（光学部材１０）がレンズ基板３０とレンズ基板４０との間に設けられている。図１（ｂ）の光学素子を作製する方法としては、例えば、前述した成形体の樹脂組成物側の面と、対応する別のレンズの両者の間に、同様の未硬化の樹脂組成物等を流し込み、軽く抑えることで成形を行う。そしてこの状態に保ったまま未硬化の樹脂組成物の光重合を行う。それにより前記光学材料がレンズに挟まれた成形体を得ることができる。
【０１１７】
同様に、熱重合法により成形体の作製を行うこともできる。この場合、全体の温度をより均一とすることが望ましく、光透過性材料の基板上に形成する重合性組成物の成形体の総厚を薄くすることは、本発明にはより好適なものとなる。また形成する光学材料の成形体の総厚を厚くする場合には、より膜厚、樹脂成分の吸収、微粒子成分の吸収を考慮した照射量、照射強度、光源等の選択が必要である。
【０１１８】
一方、本発明の光学材料用有機化合物を含んだ光学材料の成形体を形成する場合、成形方法については、特に限定されるものはないが、低複屈折性、機械強度及び寸法精度等の特性に優れた成形物を得るためには、溶融成形が特に好ましい。溶融成形法としては、プレス成形、押し出し成形、射出成形等が挙げられるが、成形性及び生産性の観点から射出成形が好ましい。また、成形工程における成形条件は、使用目的又は成形方法により適宜選択されるが、射出成形における樹脂組成物の温度は、１５０℃から４００℃の範囲であることが好ましく、２００℃から３５０℃の範囲であることがより好ましく、２００℃から３３０℃の範囲であることが特に好ましい。前記温度範囲で成形することにより、成形時に適度な流動性を樹脂に付与して成形品のヒケやひずみの発生とともに、樹脂の熱分解によるシルバーストリークの発生を防止し、さらには、成形物の黄変を効果的に防止することができる。
【０１１９】
本発明の光学材料を上記の成形方法で成形された成形体は光学素子として用いることができる。光学素子の利用例としては、例えばカメラレンズ等が挙げられる。
【実施例】
【０１２０】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下に説明する実施例に限定されるものではない。また、反応式中の略号はそれぞれ下記の通りである。尚、合成した化合物の分子構造の分析は、日本電子製ＪＮＭ−ＥＣＡ４００ ＮＭＲを用いて行った。
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＴｓＯＨ：パラトルエンスルホン酸水和物
【０１２１】
（合成例１）４，４’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホンの合成
【０１２２】
【化２０】
【０１２３】
下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：１５ｇ
４−ヒドロキシフェニルボロン酸：２１ｇ
炭酸水素ナトリウム：３３ｇ
１，４−ジオキサン：５００ｍｌ
水：２５０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：２．５ｇ
【０１２４】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合を薄相クロマトグラフィー（以下、ＴＬＣ）で随時確認した。反応終了後、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機相を回収した。次に、この有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次に、有機相を減圧濃縮することで得られた残渣についてヘキサン及び酢酸エチルの混合溶液による再結晶精製を行うことにより、淡黄色結晶の４，４’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホン（以下、中間体化合物Ｄ１という。）を２０ｇ（収率９５％）得た。
【０１２５】
（合成例２）４−（２−テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ）−フェニルボロン酸ピナコールエステルの合成
【０１２６】
【化２１】
【０１２７】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：６．２ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：２００ｍｌ
【０１２８】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、４−ブロモチオフェノール２５ｇをゆっくり添加した。次に、室温まで昇温しながら反応溶液を撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン２４ｍｌを添加した後、反応溶液を４０℃に昇温した後この温度（４０℃）で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水で反応を停止させた後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、４−（２−テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ）−ブロモベンゼンを４４ｇ得た。尚、得られた化合物は、そのまま次の工程で使用した。
【０１２９】
（２）（１）にて得られた化合物及びテトラヒドロフラン４００ｍｌを反応容器内に投入した。次に、反応溶液を−７８℃に冷却した後、ブチルリチウム（２．６Ｍ）６４ｍｌをゆっくり滴下した。次に、反応溶液を同温度（−７８℃）でさらに２時間撹拌した。次に、２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン３５ｍｌを滴下した後、反応溶液を室温までゆっくりと昇温しながら１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮することで得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、４−（２−テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ）−フェニルボロン酸ピナコールエステル（以下、中間体化合物Ｄ２という。）を３１ｇ（収率６４％）得た。
【０１３０】
（合成例３）トリフルオロメタンスルホン酸４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニルの合成
【０１３１】
【化２２】
【０１３２】
下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン：２５ｇ
トリフルオロメタンスルホニルクロリド：１２ｍｌ
クロロホルム：２００ｍｌ
【０１３３】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、ゆっくりとトリエチルアミン１５ｍｌを滴下した。次に、同温度（０℃）で反応溶液を１時間撹拌した。次に、反応溶液を室温まで昇温してからさらに５時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することでトリフルオロメタンスルホン酸４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニル（以下、中間化合物Ｄ３という。）を１７ｇ（収率４５％）得た。
【０１３４】
（合成例４）４，４’−ビス（３−ヒドロキシメチル−４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンの合成
【０１３５】
【化２３】
【０１３６】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン：２５ｇ
トリフルオロメタンスルホニルクロリド：２５ｍｌ
クロロホルム：３００ｍｌ
【０１３７】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、ゆっくりとトリエチルアミン４２ｍｌを滴下した。次に、同温度（０℃）で反応溶液を１時間撹拌した。次に、反応溶液を室温まで昇温してからさらに５時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して得られた粗生成物についてヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、ジフェニルスルホン−４，４’−ジイルビス（トリフルオロメタンスルホナート）を４９ｇ（収率９４％）得た。ここで得られた化合物については、そのまま次の工程で使用した。
【０１３８】
（２）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
ジフェニルスルホン−４，４’−ジイルビス（トリフルオロメタンスルホナート）（（１）で合成したものをそのまま使用）：２８ｇ
３−ホルミル−４−メトキシフェニルボロン酸：２５ｇ
炭酸水素ナトリウム：３０ｇ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：１．３ｇ
１，４−ジオキサン：５００ｍｌ
水：２５０ｍｌ
【０１３９】
次に、反応溶液を８０℃に加熱してこの温度（８０℃）で３時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水２５０ｍｌを添加した後、反応溶液を８０℃で１時間撹拌した。次に、生成した結晶（粗結晶）をろ過・回収した後、この粗結晶をエタノールで洗浄してから、ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで薄灰色の結晶を得た。
【０１４０】
次に、得られた薄灰色結晶と、下記に示す溶媒を反応容器内に投入した。
メタノール：２００ｍｌ
テトラヒドロフラン：２００ｍｌ
【０１４１】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、水素化ホウ素ナトリウム１２ｇをゆっくり添加した。次に、反応進行度合をＴＬＣで確認しながら反応溶液を同温度（０℃）で撹拌した。反応の進行を確認した後、２Ｎ塩酸水溶液を添加した。次に、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次に、生成した結晶を炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した。次に、エタノール／酢酸エチル／ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（３−ヒドロキシメチル−４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホン（以下、中間化合物Ｄ４という。）を４８ｇ（収率９０％）得た。
【０１４２】
［実施例１］
実施例１で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１４３】
【化２４】
【０１４４】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：６２０ｍｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：３０ｍｌ
【０１４５】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、中間化合物Ｄ１（２．３ｇ）をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン２．７ｍｌを添加した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で１２時間撹拌した。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。このようにして得られた粗生成物をそのまま次の工程で使用した。
【０１４６】
（２）（１）にて得られた粗生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
テトラヒドロフラン：１０ｍｌ
メタノール：４０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸水和物：少量
【０１４７】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過した後、この沈殿物をクロロホルム／ヘキサン混合溶液で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホン２．３ｇ（収率８２％）が得られた。
【０１４８】
（３）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホン：３．０ｇ
メタクリル酸：３０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：０．２ｇ
４−メトキシフェノール：０．２ｇ
トルエン：３０ｍｌ
【０１４９】
次に、反応溶液を２０時間加熱撹拌した。尚、このとき生成する水分を適宜除去し、反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応溶液を中性にした後、有機相をクロロホルムで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、４，４’−ビス（４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンを２．１ｇ（収率５５％）得た。
【０１５０】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１５１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９５（ｓ、６Ｈ）、４．２７（ｔ、４Ｈ）、４．５２（ｔ、４Ｈ）、５．５９（ｓ、２Ｈ）、６．１４（ｓ、２Ｈ）、６．９９−７．０１（ｍ、４Ｈ）、７．２５−７．２６（ｍ、４Ｈ）、７．５０−７．５３（ｍ、４Ｈ）、７．６５−７．６７（ｍ、４Ｈ）、７．９８−８．０２（ｍ、４Ｈ）
【０１５２】
［実施例２］
実施例２で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１５３】
【化２５】
【０１５４】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
中間体化合物Ｄ３：５ｇ
中間体化合物Ｄ２：６ｇ
炭酸水素ナトリウム：４ｇ
ジオキサン：１５０ｍｌ
水：７０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．３ｇ
【０１５５】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。この精製によって得られた化合物をそのまま次の工程で使用した。
【０１５６】
（２）次に、下記に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム：０．６ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：１００ｍｌ
【０１５７】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、（１）にて得られた化合物をゆっくり添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら２時間撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン２．４ｍｌを添加した後、反応溶液を６０℃に加熱しこの温度（６０℃）で１０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮することで粗生成物を得た。得られた粗生成物は、このまま次の工程で使用した。
【０１５８】
（３）（２）で得られた粗生成物、及び下記に示した試薬、溶媒を反応容器に投入した。
テトラヒドロフラン：１０ｍｌ
メタノール：４０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：少量
【０１５９】
次に、反応溶液を室温で１０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収し、クロロホルム／ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４−（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）−４’−（２−ヒドロキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを４．１ｇ（収率７３％）得た。
【０１６０】
（４）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンに代えて４−（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）−４’−（２−ヒドロキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により合成を行い、４−（４−（２−メタクリロイルオキシエチルチオ）フェニル）−４’−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを２．５ｇ（収率６３％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸の使用量は２０ｍｌである。
【０１６１】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１６２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９２（ｓ、３Ｈ）、１．９５（ｓ、３Ｈ）、３．２２（ｔ、２Ｈ）、４．２５（ｔ、２Ｈ）、４．２７（ｔ、２Ｈ）、４．５０（ｔ、２Ｈ）、５．５７（ｄ、１Ｈ）、５．５８（ｄ、１Ｈ）、６．１２（ｄ、１Ｈ）、６．１２（ｄ、１Ｈ）、６．９４−７．０３（ｍ、４Ｈ）、７．４７−７．６７（ｍ、４Ｈ）、７．８９−７．９９（ｍ、４Ｈ）
【０１６３】
［実施例３］
実施例３で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１６４】
【化２６】
【０１６５】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：１０ｇ
４−ヒドロキシフェニルボロン酸：５．８ｇ
炭酸水素ナトリウム：１０ｇ
ジオキサン：４００ｍｌ
水：２００ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．８ｇ
【０１６６】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で１０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。
【０１６７】
（２）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム：１．４ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：２００ｍｌ
【０１６８】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、（１）にて得られた生成物をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら２時間撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン６．４ｍｌを添加した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で５時間撹拌した。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。
【０１６９】
（３）（２）にて得られた生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
中間化合物Ｄ２：６．６ｇ
炭酸水素ナトリウム：４．５ｇ
ジオキサン：３００ｍｌ
水：１５０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．３ｇ
【０１７０】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。
【０１７１】
（４）（３）にて得られた生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
テトラヒドロフラン：１０ｍｌ
メタノール：４０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：少量
【０１７２】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収した後、この沈殿物をクロロホルム／ヘキサンの混合溶媒で再結晶精製を行うことで４−（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）−４’−（４−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル）ジフェニルスルホンを５ｇ（２８％）得た。
【０１７３】
（５）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンの代わりに４−（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）−４’−（４−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル）ジフェニルスルホン（２．０ｇ）を使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により合成を行い、４−（４−（２−メタクリロイルオキシエチルチオ）フェニル）−４’−（４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）フェニル）ジフェニルスルホンを０．８ｇ（収率３１％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸の使用量は２０ｍｌである。
【０１７４】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１７５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９１（ｓ、３Ｈ）、１．９５（ｓ、３Ｈ）、３．２４（ｔ、２Ｈ）、４．２７（ｔ、２Ｈ）、４．３５（ｔ、２Ｈ）、４．５２（ｔ、２Ｈ）、５．５６−５．６０（ｍ、２Ｈ）、６．０９−６．１３（ｍ、２Ｈ）、６．９８−７．０２（ｍ、２Ｈ）、７．４５−７．６９（ｍ、１２Ｈ）、７．９８−８．０２（ｍ、２Ｈ）
【０１７６】
［実施例４］
実施例４で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１７７】
【化２７】
【０１７８】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：１３ｇ
中間化合物Ｄ２：５０ｇ
炭酸水素ナトリウム：２９ｇ
ジオキサン：４００ｍｌ
水：２００ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：２．１ｇ
【０１７９】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。
【０１８０】
（２）（１）にて得られた生成物及び下記に示される試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
テトラヒドロフラン：３０ｍｌ
メタノール：１００ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：少量
【０１８１】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収した後、クロロホルム／ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）ジフェニルスルホンを１９ｇ（収率７４％）得た。
【０１８２】
（３）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンの代わりに、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）ジフェニルスルホンを使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により合成を行い、４，４’−ビス（４−（２−メタクリロイルオキシエチルチオ）フェニル）ジフェニルスルホンを３．０ｇ（収率８０％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸及びトルエンの使用量は、それぞれ２９ｍｌ、４０ｍｌである。
【０１８３】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１８４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９１（ｓ、６Ｈ）、３．２２（ｔ、４Ｈ）、４．３５（ｔ、４Ｈ）、５．５６（ｓ、２Ｈ）、６．０７（ｓ、２Ｈ）、７．４２−７．５２（ｍ、８Ｈ）、７．６５−７．７１（ｍ、４Ｈ）、８．００−８．０５（ｍ、４Ｈ）
【０１８５】
［実施例５］
実施例５で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１８６】
【化２８】
【０１８７】
（１）下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：２．５ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：２００ｍｌ
【０１８８】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、中間化合物Ｄ１（１０ｇ）をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら撹拌した。次に、３−ブロモプロパノール５．４ｍｌを添加した後、反応溶液を５０℃に加熱してこの温度（５０℃）で１２時間撹拌した。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して得られた粗生成物をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶することにより白色結晶を得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。
【０１８９】
（２）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンの代わりに本実施例の（１）で得られた白色結晶を使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により、４，４’−ビス（４−（３−メタクリロイルオキシプロポキシ）フェニル）ジフェニルスルホンを１１．５ｇ（収率７１％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸、パラトルエンスルホン酸、メトキシフェノール及びトルエンの使用量は、それぞれ９０ｍｌ、０．６ｇ、０．６ｇ、９０ｍｌである。
【０１９０】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０１９１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９４（ｓ、６Ｈ）、２．１９（ｄｔ、４Ｈ）、４．１１（ｔ、４Ｈ）、４．３６（ｔ、４Ｈ）、５．５６（ｂｒ、２Ｈ）、６．１１（ｂｒ、２Ｈ）、６．９４−６．９９（ｍ、４Ｈ）、７．４５−７．５４（ｍ、４Ｈ）、７．６３−７．６９（ｍ、４Ｈ）、７．９６−８．０３（ｍ、４Ｈ）
【０１９２】
［実施例６］
実施例６で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０１９３】
【化２９】
【０１９４】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：１０ｇ
３−メトキシ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノール：２５ｇ
炭酸水素ナトリウム：２５ｇ
１，４−ジオキサン：５００ｍｌ
水：２５０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：２．５ｇ
【０１９５】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈して溶媒抽出により有機相を回収した後、この有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、この有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮することで粗生成物を得た。次に、この粗生成物をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで４，４’−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンが淡黄色結晶として得られた。このようにして得られた淡黄色結晶を、次の工程でそのまま使用した。
【０１９６】
（２）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：５．１ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：３００ｍｌ
【０１９７】
次に、反応溶液中に、（１）にて得られた淡黄色結晶をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次に、３−ブロモプロパノール１０ｍｌをゆっくりと滴下した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶することで白色結晶を得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。
【０１９８】
（３）実施例１（３）において、４，４’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）ジフェニルスルホンの代わりに本実施例の（２）で得られた白色結晶を使用した。これを除いては、実施例１（３）と同様の方法により、４，４’−ビス（４−（３−メタクリロイルオキシプロポキシ）−３−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンを２１ｇ（収率８４％）得た。尚、本実施例において、メタクリル酸、パラトルエンスルホン酸、メトキシフェノール及びトルエンの使用量は、それぞれ１２０ｍｌ、１．３ｇ、１１．３ｇ、３００ｍｌである。
【０１９９】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２００】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９４（ｓ、６Ｈ）、２．２４（ｄｔ、４Ｈ）、３．９１（ｓ、６Ｈ）、４．１７（ｔ、４Ｈ）、４．３７（ｔ、４Ｈ）、５．５６（ｂｒ、２Ｈ）、６．１１（ｂｒ、２Ｈ）、６．９２−７．１５（ｍ、６Ｈ）、７．６４−７．７０（ｍ、４Ｈ）、７．９７−８．０３（ｍ、４Ｈ）
【０２０１】
［実施例７］
実施例７で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０２０２】
【化３０】
【０２０３】
（１）実施例６（１）において、２−メトキシ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノールの代わりに２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノールを使用した以外は、実施例６（１）と同様の方法で合成を行った。尚、本実施例において４，４’−ジクロロジフェニルスルホン及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの使用量は、それぞれ９．６ｇ、２．３ｇである。これにより４，４’−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルスルホンを白色結晶として得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。
【０２０４】
（２）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：３．１ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：３００ｍｌ
【０２０５】
次に、反応溶液中に、（１）にて得られた白色結晶をゆっくりと添加した後、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次に、メタクリル酸−２−ブロモエチル１５ｇをゆっくりと滴下した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水を添加して反応を停止した後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより４，４’−ビス（４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルスルホンを１５ｇ（収率６６％）得た。
【０２０６】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２０７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．８９（ｓ、６Ｈ）、２．３０（ｓ、１２Ｈ）、４．３０（ｔ、４Ｈ）、４．６２（ｓ、４Ｈ）、５．４７（ｂｒ、２Ｈ）、６．０５（ｂｒ、２Ｈ）、７．２１−７．２７（ｍ、４Ｈ）、７．６０−７．６７（ｍ、４Ｈ）、７．９３−８．０１（ｍ、４Ｈ）
【０２０８】
［実施例８］
実施例８で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
【０２０９】
【化３１】
【０２１０】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム（５５％）：１１ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：３００ｍｌ溶液
【０２１１】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、中間化合物Ｄ４（３０ｇ）をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を同温度（０℃）で１時間撹拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン３６ｍｌを添加した後、反応溶液を７０℃に加熱してこの温度（７０℃）で６時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られる粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで薄黄色液体を得た。このようにして得られた薄黄色固体をそのまま次の工程で使用した。
【０２１２】
（２）（１）にて得られた薄黄色液体及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
メタノール：１５０ｍｌ
テトラヒドロフラン：５０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：触媒量
【０２１３】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、トリエチルアミンを添加して反応を停止させた後、生成した結晶をろ過・回収した。次に、得られた結晶をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで白色結晶を得た。このようにして得られた白色固体をそのまま次の工程で使用した。
【０２１４】
（３）（２）にて得られた白色液体及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
クロロホルム：１００ｍｌ
ピリジン：１５０ｍｌ
４−メトキシフェノール：０．２ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン：１．２ｇ
無水メタクリル酸：３０ｍｌ
【０２１５】
次に、反応溶液を室温で１２時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、２Ｎ塩酸を添加して反応を停止させた後、有機層をトルエンで抽出した。次に、得られた有機層を２Ｎ塩酸、１０％水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで油状の生成物を得た。次に、得られた油状生成物をヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（（３−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）メチル）−４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンを２６ｇ（収率５５％）得た。
【０２１６】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２１７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．８９（ｓ、６Ｈ）、３．７８（ｔ、４Ｈ）、３．８７（ｓ、６Ｈ）、４．３５（ｔ、４Ｈ）、４．６５（ｓ、４Ｈ）、５．４９（ｂｒ、２Ｈ）、６．０９（ｂｒ、２Ｈ）、６．９０−６．９８（ｍ、２Ｈ）、７．４５−７．５１（ｍ、２Ｈ）、７．６０−７．７２（ｍ、８Ｈ）、７．９４−８．０２（ｍ、４Ｈ）
【０２１８】
［実施例９］
実施例９で合成した化合物の具体的な合成方法について以下に説明する。
【０２１９】
（１）実施例８（１）において、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピランの代わりに、下記に示す２−（４−クロロブトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（９．０ｍｌ）を使用した。これを除いては、実施例８（１）と同様の方法により合成を行い、薄黄色液体の生成物を得た。尚、本実施例において、水素化ナトリウム（５５％）及び中間化合物Ｄ４の使用量は、それぞれ２．８ｇ、８．０ｇである。このようにして得られた薄黄色液体をそのまま次の工程で使用した。
【０２２０】
【化３２】
【０２２１】
（２）実施例８（２）において、実施例８（１）にて得られた薄黄色液体の代わりに、本実施例（１）にて得られた薄黄色液体を使用したことを除いては、実施例８（２）と同様の方法により白色結晶を得た。このようにして得られた白色固体をそのまま次の工程で使用した。
【０２２２】
（３）実施例８（３）において、実施例８（２）にて得られた白色固体の代わりに、本実施例（２）にて得られた白色固体を使用した。これを除いては、実施例８（２）と同様の方法により、下記に示される化合物、即ち、４，４’−ビス（（３−（４−メタクリロイルオキシブトキシ）メチル）−４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホンを６．７ｇ（収率５３％）得た。
【０２２３】
【化３３】
【０２２４】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２２５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．８９（ｓ、６Ｈ）、２．２４（ｄｔ、４Ｈ）、３．７３（ｔ、４Ｈ）、３．８５（ｓ、６Ｈ）、４．３２（ｔ、４Ｈ）、４．６５（ｓ、４Ｈ）、５．４９（ｂｒ、２Ｈ）、６．０９（ｂｒ、２Ｈ）、６．９１−６．９９（ｍ、２Ｈ）、７．４５−７．５２（ｍ、２Ｈ）、７．５９−７．７２（ｍ、８Ｈ）、７．９３−８．０２（ｍ、４Ｈ）
【０２２６】
［比較例１］
下記に示す化合物を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。
【０２２７】
【化３４】
【０２２８】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
中間化合物Ｄ３：５ｇ
４−ヒドロキシフェニルボロン酸：２．５ｇ
炭酸水素ナトリウム：４ｇ
ジオキサン：２００ｍｌ
水：１００ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．３ｇ
【０２２９】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度（９０℃）で２０時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで４−（４−ヒドロキシフェニル）−４’−ヒドロキシジフェニルスルホンを４．２ｇ（収率９８％）得た。
【０２３０】
（２）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム：１．２ｇ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：１５０ｍｌ
【０２３１】
次に、反応溶液を０℃に冷却した後、（１）にて合成した４−（４−ヒドロキシフェニル）−４’−ヒドロキシジフェニルスルホン４．２ｇを同温度（０℃）でゆっくり添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら２時間攪拌した。次に、２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン４．８ｍｌを添加した後、反応溶液を６０℃に加熱してこの温度（６０℃）で１２時間攪拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られる粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。これにより得られた生成物を次の工程でそのまま使用した。
【０２３２】
（３）（２）にて得られた生成物及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
テトラヒドロフラン：１０ｍｌ
メタノール：４０ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：少量
【０２３３】
次に、反応溶液を室温で１２時間攪拌した。尚、このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収した後、クロロホルム／ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことで４−（４−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル）−４’−（２−ヒドロキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを５．０ｇ（収率９２％）得た。
【０２３４】
（４）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
４−（４−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル）−４’−（２−ヒドロキシエチルオキシ）ジフェニルスルホン：４．０ｇ
メタクリル酸：２５ｍｌ
パラトルエンスルホン酸：０．２ｇ
４−メトキシフェノール：０．２ｇ
トルエン：３０ｍｌ
【０２３５】
次に、反応溶液を２０時間加熱撹拌した。尚、このとき生成する水分を適宜除去し、反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応溶液を中性にした後、有機相をクロロホルムで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、４−（４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）フェニル）−４’−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）ジフェニルスルホンを４．３ｇ（収率８１％）得た。
【０２３６】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２３７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ １．９２（ｓ、３Ｈ）、１．９５（ｓ、３Ｈ）、４．２０−４．２９（ｍ、４Ｈ）、４．４６−４．５２（ｍ、４Ｈ）、５．５８（ｄ、１Ｈ）、５．５８（ｄ、１Ｈ）、６．１２（ｄ、１Ｈ）、６．１２（ｄ、１Ｈ）、６．９４−７．０３（ｍ、４Ｈ）、７．４７−７．５４（ｍ、２Ｈ）、７．６１−７．６７（ｍ、２Ｈ）、７．８８−７．９７（ｍ、４Ｈ）
【０２３８】
［比較例２］４，４’−ビス（２−メチルチオフェニル）ジフェニルスルホンの合成
下記に示す化合物（４，４’−ビス（２−メチルチオフェニル）ジフェニルスルホン）を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。
【０２３９】
【化３５】
【０２４０】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
４，４’−ジクロロジフェニルスルホン：０．４ｇ
２−メチルチオフェニルボロン酸：０．６ｇ
炭酸水素ナトリウム：０．８ｇ
１，４−ジオキサン：２０ｍｌ
水：１０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．０７ｇ
【０２４１】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度で２０時間撹拌した。尚。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機層を回収した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物を得た。次に、この粗生成物を、ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４，４’−ビス（２−メチルチオフェニル）ジフェニルスルホンを淡黄色結晶として０．５ｇ（収率７２％）得た。
【０２４２】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２４３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ ２．３７（ｓ、６Ｈ）、７．１４−７．４０（ｍ、８Ｈ）、７．５６−７．６２（ｍ、４Ｈ）、８．００−８．０６（ｍ、４Ｈ）
【０２４４】
［比較例３］４−（４−メチルチオフェニル）ジフェニルエーテルの合成
下記に示す化合物（４−（４−メチルチオフェニル）ジフェニルエーテル）を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。
【０２４５】
【化３６】
【０２４６】
（１）以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
４−ブロモジフェニルエーテル：０．８ｇ
４−メチルチオフェニルボロン酸：０．６ｇ
炭酸水素ナトリウム：０．８ｇ
ジオキサン：２０ｍｌ
水：１０ｍｌ
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム：０．１ｇ
【０２４７】
次に、反応溶液を９０℃に加熱してこの温度で２０時間撹拌した。尚。このとき反応進行度合をＴＬＣで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機層を回収した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物を得た。次に、この粗生成物を、ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、４−（４−メチルチオフェニル）ジフェニルエーテルを０．８ｇ（収率８９％）得た。
【０２４８】
得られた化合物について、1Ｈ−ＮＭＲによりその構造を確認した。
【０２４９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；ＴＭＳ）：δ ２．５１（ｓ、３Ｈ）、７．０３−７．１５（ｍ、４Ｈ）、７．２８−７．３９（ｍ、５Ｈ）、７．４６−７．５５（ｍ、４Ｈ）
【０２５０】
［光学特性の評価］
実施例及び比較例でそれぞれ合成した化合物について光学特性の評価を以下に示す方法で行った。
【０２５１】
（１）評価用サンプルの作製
まず評価用のサンプルを以下に示す方法で作製した。
【０２５２】
（１ａ）屈折率測定用サンプル
直径２０ｍｍの円板型のガラス基板を２枚用意して、測定対象となる化合物を、厚さが１２．５μｍで均一になるように、１枚目のガラス基板上に載置した。次に、２枚目のガラス基板を測定対象となる化合物上に載置した後、ガラス基板の外周部分を封止した。ここで測定対象となる化合物が（メタ）アクリレート化合物である場合は、サンプルに紫外光を照射することで２枚のガラス基板に挟まっている化合物を硬化させた。一方、測定対象となる化合物が（メタ）アクリレート化合物以外の化合物である場合は、サンプルを加熱して２枚のガラス基板に挟まっている化合物を融解させた。
【０２５３】
（１ｂ）透過率測定用サンプル
上記（１ａ）において、用意する基板を直径５０μｍの円板型のガラス基板とし、１枚目のガラス基板上に載置する測定対象となる化合物の厚さを５００μｍとすることを除いては、上記（１ａ）と同様の方法によりサンプルを作製した。
【０２５４】
（２）測定及び評価
屈折率は、アッベ屈折計（カルニュー光学工業）を用いて測定した。また透過率は、光路長の異なる２種類の膜を成形し、日立ハイテクノロジー社製分光光度計Ｕ−４０００（製品名）でそれぞれ測定し、４１０ｎｍでの内部透過率（５００μｍ）に換算した結果を表に示す。ここで光学特性が図１中のＢ範囲内でありかつ４１０ｎｍでの透過率が９０％以上のものを総合評価○とし、それ以外を総合評価×とした。結果を表１に示す。
【０２５５】
［安定性の評価］
安定性は、大気中２５℃で２週間保管した際に変質がないものを○、変質したものを×とした。但し、重合性置換基を有するものは、少量（１０００ｐｐｍ以下）の重合禁止剤を含有させた状態で判定している。結果を表１に示す。
【０２５６】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【０２５７】
本発明の光学材料用有機化合物及び光学材料は、屈折率の分散特性（アッベ数（νd））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く（高θｇ，Ｆ特性）、色収差補正機能の高い特性を有する。このため、カメラレンズ等の複数枚のレンズを有する装置に利用することができる。
【符号の説明】
【０２５８】
１０：光学部材、２０（３０，４０）：レンズ基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示される化合物であることを特徴とする、光学材料用有機化合物。
【化１】
（式（１）において、Ｘ及びＹは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。
【化２】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。Ｚ1及びＺ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。ａ及びｂは、それぞれ０乃至２の整数である。ａが２のとき２つのＺ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。ｂが２のとき２つのＺ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。）
【請求項２】
Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項１に記載の光学材料用有機化合物。
【化３】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
【請求項３】
Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光学材料用有機化合物。
【化４】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
【請求項４】
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素原子又は（メタ）アクリロイル基であり、
Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であり、
Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【化５】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
【請求項５】
Ｘ及びＹが、それぞれ−Ｓ−又は−Ｏ−であり、
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素原子又は炭素数１乃至２のアルキル基であり、
Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項１に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項６】
Ｘ及びＹが、それぞれ−Ｓ−又は−Ｏ−であり、
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素原子又は炭素数１乃至２のアルキル基であり、
Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基であることを特徴とする、請求項１又は５に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項７】
Ｘ及びＹが、それぞれ−Ｓ−又は−Ｏ−であり、
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ炭素数１乃至２のアルキル基であり、
Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基であることを特徴とする、請求項１、５及び６のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項８】
Ｚ1及び／又はＺ2が、置換基を有しても良い炭素数１乃至２のアルキル基であり、
前記置換基が、下記一般式（３）で示される置換基であることを特徴とする、請求項１乃至３及び請求項５乃至７のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【化６】
（式（３）において、＊＊は、結合手を表し、ｍは、０又は１であり、ｎは、２乃至４の整数であり、Ｒは、水素又はメチル基である。）
【請求項９】
下記一般式（２）で示されることを特徴とする、光学材料用有機化合物。
【化７】
（式（２）において、Ｘは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【化８】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【化９】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
Ｒ11及びＲ12は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。Ｚ3は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。ｃは、０乃至２の整数である。ｃが２のとき２つのＺ3は、同じであってもよいし異なっていてもよい。）
【請求項１０】
Ｘが、下記に示される置換基から選択される置換基であり、
【化１０】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙが、下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項９に記載の光学材料用有機化合物。
【化１１】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
【請求項１１】
Ｘが、下記に示される置換基であり、
【化１２】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙが、下記に示される置換基であることを特徴とする、請求項９又は１０に記載の光学材料用有機化合物。
【化１３】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
【請求項１２】
Ｘが、下記に示される置換基であり、
【化１４】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙが、下記に示される置換基であり、
【化１５】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
Ｒ11及びＲ12が水素原子又は（メタ）アクリロイル基であり、
Ｚ3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項９乃至１１のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項１３】
Ｚ3が、置換基を有しても良い炭素数１乃至２のアルキル基であり、
前記置換基が、下記一般式（３）で示される置換基であることを特徴とする、請求項９乃至１１のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【化１６】
（式（３）において、＊＊は、結合手を表し、ｍは、０又は１であり、ｎは、２乃至４の整数であり、Ｒは、水素又はメチル基である。）
【請求項１４】
ｍが０であることを特徴とする、請求項８又は請求項１３に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物を含有することを特徴とする、光学材料。
【請求項１６】
請求項１５に記載の光学材料を成形加工してなることを特徴とする、光学素子。
【請求項１】
下記一般式（１）で示される化合物であることを特徴とする、光学材料用有機化合物。
【化１】
（式（１）において、Ｘ及びＹは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。
【化２】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。Ｚ1及びＺ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。ａ及びｂは、それぞれ０乃至２の整数である。ａが２のとき２つのＺ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。ｂが２のとき２つのＺ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。）
【請求項２】
Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項１に記載の光学材料用有機化合物。
【化３】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
【請求項３】
Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光学材料用有機化合物。
【化４】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
【請求項４】
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素原子又は（メタ）アクリロイル基であり、
Ｘ及びＹが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であり、
Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【化５】
（＊は、Ｒ1又はＲ2との結合手を表す。）
【請求項５】
Ｘ及びＹが、それぞれ−Ｓ−又は−Ｏ−であり、
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素原子又は炭素数１乃至２のアルキル基であり、
Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項１に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項６】
Ｘ及びＹが、それぞれ−Ｓ−又は−Ｏ−であり、
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ水素原子又は炭素数１乃至２のアルキル基であり、
Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基であることを特徴とする、請求項１又は５に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項７】
Ｘ及びＹが、それぞれ−Ｓ−又は−Ｏ−であり、
Ｒ1及びＲ2が、それぞれ炭素数１乃至２のアルキル基であり、
Ｚ1及びＺ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基であることを特徴とする、請求項１、５及び６のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項８】
Ｚ1及び／又はＺ2が、置換基を有しても良い炭素数１乃至２のアルキル基であり、
前記置換基が、下記一般式（３）で示される置換基であることを特徴とする、請求項１乃至３及び請求項５乃至７のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【化６】
（式（３）において、＊＊は、結合手を表し、ｍは、０又は１であり、ｎは、２乃至４の整数であり、Ｒは、水素又はメチル基である。）
【請求項９】
下記一般式（２）で示されることを特徴とする、光学材料用有機化合物。
【化７】
（式（２）において、Ｘは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【化８】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
【化９】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
Ｒ11及びＲ12は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至２のアルキル基及び（メタ）アクリロイル基から選択される置換基である。Ｚ3は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基である。ｃは、０乃至２の整数である。ｃが２のとき２つのＺ3は、同じであってもよいし異なっていてもよい。）
【請求項１０】
Ｘが、下記に示される置換基から選択される置換基であり、
【化１０】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙが、下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項９に記載の光学材料用有機化合物。
【化１１】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
【請求項１１】
Ｘが、下記に示される置換基であり、
【化１２】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙが、下記に示される置換基であることを特徴とする、請求項９又は１０に記載の光学材料用有機化合物。
【化１３】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
【請求項１２】
Ｘが、下記に示される置換基であり、
【化１４】
（＊は、Ｒ11との結合手を表す。）
Ｙが、下記に示される置換基であり、
【化１５】
（＊は、Ｒ12との結合手を表す。）
Ｒ11及びＲ12が水素原子又は（メタ）アクリロイル基であり、
Ｚ3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１乃至２のアルコキシ基、炭素数１乃至２のアルキルチオ基及び炭素数１乃至２のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項９乃至１１のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項１３】
Ｚ3が、置換基を有しても良い炭素数１乃至２のアルキル基であり、
前記置換基が、下記一般式（３）で示される置換基であることを特徴とする、請求項９乃至１１のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
【化１６】
（式（３）において、＊＊は、結合手を表し、ｍは、０又は１であり、ｎは、２乃至４の整数であり、Ｒは、水素又はメチル基である。）
【請求項１４】
ｍが０であることを特徴とする、請求項８又は請求項１３に記載の光学材料用有機化合物。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物を含有することを特徴とする、光学材料。
【請求項１６】
請求項１５に記載の光学材料を成形加工してなることを特徴とする、光学素子。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１２−１６７０１９（Ｐ２０１２−１６７０１９Ａ）
【公開日】平成２４年９月６日（２０１２．９．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２６３８１（Ｐ２０１１−２６３８１）
【出願日】平成２３年２月９日（２０１１．２．９）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年９月６日（２０１２．９．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月９日（２０１１．２．９）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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