説明

壁材

【課題】凹凸柄を有し、加工部分に不良が発生しにくく、意匠性の優れた壁材を提供する。
【解決手段】基材1が切断又は切削されて形成され、表面に凹凸柄2を有する壁材Aに関する。凹凸柄2の凹凸高さが低い低凹凸領域5が、切断又は切削される加工領域3を含んで形成されている。好ましい形態の一つでは、低凹凸領域5は、切断又は切削される加工領域3を含んで形成される低位領域6と、低位領域6よりも凹凸柄2の凹凸高さが高い中位領域7とを有している。基材加工時に発生する加工バリや、施工時の模様欠落を、意匠性を損なうことなく低減することができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、表面に凹凸柄を有する壁材に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、住宅用の外壁材などの壁材においては、表面に凹凸柄が形成されたものが知られている。例えば、特許文献1には、塗膜層を熱圧エンボスして凹凸柄を形成することが開示されている。また、押出成形後の柔らかい状態の基材に凹凸型を押し当てることにより、凹凸柄を形成するものも知られている。このように壁材の表面に凹凸柄を設けることにより、施工した際に、壁面に図柄を付与したり、あるいは、壁面に自然な印象の意匠を付与したりすることができ、壁の美観を向上することができる。
【0003】
図10は、凹凸柄2を有する壁材Aを作製する従来の方法の一例を示している。この壁材Aは、表面に突出する複数の凸部8により凹凸柄2が形成されている。
【0004】
壁材Aの全体形状は、図9(a)に示すような形状となっており、壁材Aの一方の端部には、裏面側で基材表面と平行に外方に突出する裏側突出部11が形成され、他方の端部には、表面側で基材表面と平行に外方に突出する表側突出部12が形成されている。また、この例では、基材1の裏側突出部11が形成される側の端部には、段状に低くなった低段部10が形成されている。図9(b)に示すように、施工の際には、複数の壁材Aは、一方の壁材Aの裏側突出部11の表面側に、他方の壁材Aの表側突出部12が重ねられて壁下地に取り付けられ、これにより壁が形成される。図10では、壁材Aの裏側突出部11側の端部を図示している。なお、図9では凹凸柄2を省略している。
【0005】
壁材Aの作製にあたっては、まず、窯業系材料を押出成形するなどの方法によって、板状の基材1を作製する。次に、図10(a)に示すように、この基材の表面に凹凸を有する型材を押し当てて凹凸を転写することにより、基材1の表面に凹凸柄2を形成する。基材1がまだ完全に硬化されておらず柔らかい場合には、窯業系材料で構成された基材1を変形させて凹凸柄2を形成することができる。あるいは、特許文献1のように、表面に塗膜層を形成した後、この塗膜層に凹凸型を押し当てて塗膜層を変形させて凹凸柄2を形成することもできる。
【0006】
そして、図10(b)に示すように、図10(a)に示す加工線9に沿って端部の不要な部分を切断又は切削することにより、基材1の端部を所望の形状に加工する。この例では、端部の先端が段状に切断されて、低段部10よりも低い高さとなった裏側突出部11が形成されている。また、壁材Aの他方の端部も同様に、切断又は切削加工されて、図9(a)に示すように、表側突出部12が形成される。これにより、所望の形状となった壁材Aが形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特開2009−137028号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
基材1を切断又は切削加工する際、図10(a)の加工線9で示す通りに凹凸柄2の高さが低くなった部分で切断又は切削加工することができれば、図10(b)で示すように、凹凸柄2の低い部分が加工部分の表面形状として表れる。その場合、バリなどが発生せず、きれいで壊れにくい凹凸柄2を形成することができる。
【0009】
しかしながら、切断又は切削加工する際、加工線9を精度よく設定することは難しく、加工線9が設定位置からずれる場合がある。これは、加工機自体の設定位置のずれから生じるだけでなく、凹凸柄2がずれて形成されることによって加工機の相対的な位置がずれることによっても起こり得る。また、加工線9に沿って切断又は切削加工を行ったとしても、加工機の切断誤差や切削誤差などにより、加工線9の位置からずれて、切断又は切削される場合もある。このように、加工機により切断又は切削される可能性のある範囲を加工領域3ということができる。
【0010】
図10(c)は、切断又は切削の位置が加工線9からずれて、凹凸柄2の凹凸高さの高い部分で切断又は切削された壁材Aの様子を示している。このように本来の加工線9から切断又は切削位置がずれすると、図10(c)で示すように、凹凸柄2の高い部分が加工部分の表面形状として表れるため、バリなどが発生しやすく、外観を悪化させるおそれがある。また、加工部分の凸部8aは凸部8として不完全な形状となって形成されるため、この加工部分の凸部8aは欠落して壊れやすく、その結果、この凸部8aが欠落した不良品が発生する場合がある。また、加工部分の凸部8aが残っていたとしても、施工の際に加工部分の凸部8aが欠落して、施工作業を妨げたり外観を悪化させたりするおそれがある。また、加工部分の凸部8aを破壊せずに施工したとしても、この凸部8aはわずかな力で欠落しやすいために、意匠性のよい壁面を維持することができなくなるおそれがある。
【0011】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、凹凸柄を有し、加工部分に不良が発生しにくく、意匠性の優れた壁材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0012】
本発明に係る壁材は、基材が切断又は切削されて形成され、表面に凹凸柄を有する壁材であって、前記凹凸柄の凹凸高さが低い低凹凸領域が、切断又は切削される加工領域を含んで形成されていることを特徴とする。
【0013】
壁材の更なる発明は、前記低凹凸領域は、切断又は切削される加工領域を含んで形成される低位領域と、前記低位領域よりも前記凹凸柄の凹凸高さが高い中位領域とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、凹凸柄を有し、加工部分に不良が発生しにくく、意匠性の優れた壁材を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】本発明に係る壁材の実施の形態の一例を示す断面図であり、(a)は加工前、(b)及び(c)は加工後の状態を示す。
【図2】(a)及び(b)は、壁材Aの加工部分の拡大断面図を示す。
【図3】本発明に係る壁材の実施の形態の他の一例を示す断面図であり、(a)は加工前、(b)及び(c)は加工後の状態を示す。
【図4】本発明に係る壁材の実施の形態の他の一例を示す断面図であり、(a)は加工前、(b)及び(c)は加工後の状態を示す。
【図5】(a)及び(b)は、壁材Aの加工部分の拡大断面図を示す。
【図6】(a)(b)及び(c)は、凸部の一例を示す断面図である。
【図7】本発明に係る壁材の実施の形態の他の一例を示す断面図であり、(a)は加工前、(b)及び(c)は加工後の状態を示す。
【図8】壁材の一例を示す平面図である。
【図9】(a)は、壁材の一例を示す断面図であり、(b)は、壁材の施工の一例を示す断面図である。
【図10】従来の壁材の一例を示す断面図であり、(a)は加工前、(b)及び(c)は加工後の状態を示す。
【発明を実施するための形態】
【0016】
図1は、壁材Aを形成する一例を示している。この壁材Aは、窯業系材料(セメント系材料)によって形成される外壁材である。
【0017】
壁材Aの全体形状は、図9(a)に示すような形状となっており、壁材Aの一方の端部には、裏面側で基材表面と平行に外方に突出する裏側突出部11が形成されている。また、壁材Aの他方の端部には、裏面側が切り欠かれ、表面側で基材表面と平行に外方に突出する表側突出部12が形成されている。図9(b)に示すように、施工の際には、複数の壁材Aは、一方の壁材Aの裏側突出部11の表面側に、他方の壁材Aの表側突出部12が重ねられて壁下地に取り付けられ、これにより壁が形成される。図1では、壁材Aの裏側突出部11側の端部を図示している。
【0018】
壁材Aは表面に凹凸模様が施されるものである。壁材Aの凹凸模様としては、目地溝等で区切られた大きな模様と、その大きな模様の表面や目地溝表面に形成される素材感を表現するための小さな模様とがある。このうち、本形態で説明する凹凸柄2は、表面に微細に形成される小さな模様を表現するためのものを意味する。凹凸柄2は、砂目や木目等の模様を構成するものであってよい。例えば、凹凸柄2で木材の年輪のような模様を形成することが可能である。また、凹凸柄2で形成する表面模様は、木調であれば梨地、エンボスなどの一般的なものであってもよい。なお、図9では凹凸柄2の記載を省略しているが、凹凸柄2の凹凸寸法は、実際には、壁材Aの全体寸法に比べて十分に小さいためこのように表している。
【0019】
図8は、壁材Aの一例の平面図であり、木目模様の凹凸柄2が表面に施された様子が示されている。このように壁材Aは、凹凸柄2によって、壁面の意匠性を高めることができる。
【0020】
図9(a)で示すように、壁材Aは、基材中央部に、壁の外表面を構成することになる基部13を有する。また、壁材Aの裏側突出部11側の端部に、基部13よりも段状に低くなった低段部10が形成されている。そして、裏側突出部11は、低段部10よりも低い高さとなってこの低段部10から外方に突出して形成されている。
【0021】
図9(b)で示すように、施工により壁材Aが取り付けられた際には、低段部10は、目地溝として機能することができる。目地溝は壁の外表面よりも段状に低くなって外部に露出する部分であり、直線状に延伸する凹部で構成することができる。この目地溝は、低段部10と二つの溝側部14、15によって構成されている。そして、本形態では、目地溝の表面となる低段部10にも凹凸柄2が形成されていることで、意匠性を高めることができる。
【0022】
壁材Aは、基材1を加工して得られるものである。基材1は、窯業系材料を押出成形するなどの方法によって形成される。押出成形により、基材1の大まかな形状(基本形状)が形成される。そして、図1(a)に示すように、基材1の表面に凹凸を有する型材を押し当てて凹凸を転写するなどの方法により、表面に凹凸柄2が形成された基材1が形成される。さらにその後、凹凸柄2が設けられた基材1は、加工線9に沿って切断又は切削される。これにより、図1(b)又は図1(c)に示すような壁材Aが形成される。なお、凹凸柄2は、基材1の切り落とされる部分には設けてなくてもよい。図1(a)では、基材1の切り落とされる端部の先端には凹凸柄2が形成されていない。
【0023】
図1(a)で示すように、凹凸柄2は複数の凸部8により構成されている。この形態では、複数の凸部8が連続的に並んで凹凸柄2が形成されているが、複数の凸部8が離間して配置していてもよい。
【0024】
凹凸柄2は、施工後に露出する表面のほぼ全面に形成されているものであってよい。あるいは、凹凸柄2は、他の壁材Aと重ね合わせられる端部に設けられるものであってもよい。凹凸柄2は、複数の壁材Aで壁を形成した際に、凹凸模様が連続するように設けられるものであり、本形態では、基材1の中央部を構成する基部13から低段部10にかけて模様が連続するように凹凸柄2が設けられている。なお、基部13と低段部10との間には、目地溝の側面となる溝側部14が傾斜面として形成されている。この溝側部14の表面は、壁を形成した際に壁面に垂直な方向の面となるため、壁面における凹凸柄2の外観をほとんど構成しない部分となる。よって、この部分に凹凸柄2を設けなくても、凹凸模様が連続して形成されるものである。もちろん、溝側部14に凹凸柄2を設けてもよい。また、溝側部14の表面は傾斜面でなくてもよく、基材1の表面と略垂直な面であってもよい。
【0025】
基部13の表面に形成された凹凸柄2の凹凸の高さは、基部13の全体でほぼ一定の高さになっている。また、低段部10の基部13側にも、基部13における凹凸柄2と同じ凹凸高さの凹凸柄2が設けられた領域が形成されている。この凹凸の高さがほぼ一定の凹凸柄2が形成された領域が基本凹凸領域4となる。基本凹凸領域4は、基部13及び低段部10に跨って形成されており、この基本凹凸領域4における凹凸柄2によって、壁材Aの表面の小さな凹凸模様が主に形成されている。
【0026】
基本凹凸領域4の凹凸高さ、すなわち基本凹凸領域4における凸部8の突出高さは、例えば、0.5〜1.0mmにすることができる。基本凹凸領域4の凹凸高さが低すぎると意匠性が低下するおそれがあり、基本凹凸領域4の凹凸高さが高すぎると表面の凸部8が欠落したり壊れたりするおそれがある。
【0027】
そして、本形態では、基材1には、凹凸柄2の凹凸高さが低い低凹凸領域5が、切断又は切削される加工領域3を含んで形成されている。加工領域3とは、加工線9を目印(中心)として切断又は切削加工を行った際に、切断又は切削される可能性のある範囲のことである。低凹凸領域5は、凹凸柄2の模様が連続するように基本凹凸領域4に隣接して形成されおり、その凹凸高さは基本凹凸領域4の凹凸高さよりも低く形成されている。このように、凹凸柄2の凹凸高さが低い低凹凸領域5が基材1に形成された場合、切断又は切削された加工部分の凹凸柄2を崩れにくくすることができる。本形態では、低凹凸領域5の基部13側の端部、すなわち低凹凸領域5と基本凹凸領域4との境界は、加工領域3の基部13側の端部とほぼ同じ位置になっている。この場合、低凹凸領域5が広くなりすぎないため、凹凸高さの低い凹凸柄2の範囲が広くなりすぎて意匠性が低下するのを抑制することができ、また、狭い範囲で効率よく低凹凸領域5を設けることができる。
【0028】
図1(b)には、加工線9通りに切断又は切削された場合の壁材Aの状態が示されている。図2(a)に、図1(b)の場合における加工部分の拡大図を示す。この場合、加工線9は、凹凸柄2の凹凸高さが低い箇所に設定されているため、加工部分における凸部8aは、不完全な形状(欠けた形状)の凸部8になっていない。したがって、バリが発生したり、不完全な凸部8が欠落したりすることはほとんどない。また、加工部分は角張っており施工時や搬送時などに衝突して衝撃を受けやすいが、加工部分近傍の凹凸柄2の凹凸高さが通常の凹凸柄2の凹凸高さよりも低いため、凹凸柄2の高さが低くなっていない場合に比べて、衝撃を受けても凹凸柄2が崩れにくくなっている。
【0029】
図1(c)には、加工線9からずれて切断又は切削された場合の壁材Aの状態が示されている。図2(b)に、図1(c)の場合における加工部分の拡大図を示す。加工線9は、通常、凹凸柄2の凹凸高さの小さい位置が加工中心位置になるように設定される。しかしながら、切断又は切削加工する際、加工線9を精度よく設定することは難しく、加工線9が設定位置からずれる場合がある。例えば、加工機の設定位置がずれた場合などに、加工線9の位置ずれが生じる。また、凹凸を転写する型材と基材1との相対的な位置がずれて、基材1に凹凸柄2がずれて形成されることがあり、その場合、加工機の設定位置が正しくても、結果的に加工線9が設定位置からずれることになる。また、加工線9に沿って切断又は切削加工を行ったとしても、加工機の切断誤差や切削誤差などにより、加工線9の位置からずれて、切断又は切削される場合もある。このように、加工線9からずれて切断又は切削される可能性のある範囲が加工領域3である。この加工領域3は加工の公差範囲といってもよい。通常、加工線9は、加工領域3の中央である加工中心位置になっている。
【0030】
ここで、図10(c)の例で示したように、加工線9からずれて切断又は切削された場合、凹凸高さの高い位置で切断又は切削されて、加工部分に不完全な形状の凸部8aが形成される場合がある。しかし、本形態では、図1(c)及び図2(b)で示すように、加工領域3における凹凸柄2の凹凸高さが低くなっているため、加工部分の凸部8aは凹凸高さが低く、不完全な形状になったとしても基材1に密着しているので、バリが発生することを抑制することができる。また、バリが発生した場合であっても凸部8aの高さが低いためバリが目立ちにくくなり、外観を損なうことを抑制することができる。また、凸部8の高さが低く密着性が高いため、加工部分の凸部8aは施工時や搬送時に衝撃が与えられても壊れにくくなっており、加工部分において凹凸柄2が欠落することを抑制することができる。また、加工部分の凸部8aが欠落したとしても近傍の凹凸高さが低いため、外観上目立ちにくくすることができる。
【0031】
ところで、加工線9からのずれを考慮し、加工領域3に凹凸柄2を全く設けないことも考えられる。しかし、その場合、端部において凹凸柄2がなくなって途切れてしまうため、模様の面白みがなくなり意匠性が低下してしまうおそれがある。それに対し、本形態では、端部にまで凹凸柄2が設けられることによって、連続性のある凹凸模様を付与することが可能となり、意匠性を高めることができる。
【0032】
低凹凸領域5の凹凸高さ、すなわち低凹凸領域5における凸部8の突出高さは、基本凹凸領域4の凹凸高さよりも低ければよいが、好ましくは1mm以下である。それにより、バリが発生したり凸部8が欠落したりしても外観上さらに目立ちにくくすることができる。低凹凸領域5の凹凸高さは0.5mm未満又は0.3mm未満であってもよい。ただし、凹凸柄2の凹凸高さが小さいと凹凸模様を認識できなくなるおそれがあるので、凹凸柄2の意匠性を損ねないためには、低凹凸領域4の凹凸高さは0.1mm以上であることが好ましい。
【0033】
凹凸柄2を構成している凸部8は、壁材Aを表面側から見たときに、ドット状や線状に設けたりすることができる。例えば、凸部8で構成された小さい複数の点状突起をランダムなドット状で壁材Aに設けると砂目の模様を形成することが可能になる。また、凸部8で構成された曲線状の突出を複数の楕円を形成しながら壁材Aに設けると、木材の年輪を表現することができ、木目の模様を形成することが可能になる。
【0034】
図8では、凸部8によって木目模様の凹凸柄2が形成された壁材Aを示しており、このような壁材Aにおいて、上記のように加工領域3を含んで低凹凸領域5を設けることにより、壁面に自然な模様を形成することができるのである。特に、図8の形態などのように、凹凸模様が他の壁材Aに跨るような図柄で、線状の凸部8によって凹凸柄2が形成されるような場合にあっては、加工領域8を凸部8がない範囲にすることは難しく、加工領域3に凸部8が含まれることになる。その場合、加工部分には凸部8が切断又は切削された部分が発生することになり、凹凸柄2が基本の高さのままであると、バリや模様欠けが発生しやすい。本形態では、そのような場合であっても低凹凸領域5が設けられていることにより、バリや模様欠けを抑制し意匠性を高めることができるものである。
【0035】
凹凸柄2における凸部8間の距離は一定であってもよいし、異なっていてもよい。例えば、凹凸柄2の意匠性を高めるために、隣り合う凸部8間の距離を1〜10mmにすることができる。また、凸部8の幅(横幅)は0.5〜5mmにすることができる。
【0036】
図3は、壁材Aを形成する他の一例を示している。図3(a)に示すように、低凹凸領域5は加工領域3を含むものであるが、本形態ではさらに、低凹凸領域5は低段部10の基材13側の端部(溝側部14との境界)にまで形成されている。それにより、図3(b)(c)に示すように、切断又は切削加工した後には、壁材Aの低段部10の全体に低凹凸領域5が設けられるようになる。このように、切断又は切削加工された後の低段部10の全体に低凹凸領域5が設けられるようにすると、簡単に低凹凸領域5を設けることができる。例えば、図1の形態では、低凹凸領域5の面積をできるだけ小さくしようとした場合、加工領域3の基部13側の端部の位置に、低凹凸領域5の基部13側の端部の位置が配置されるように位置決めして低凹凸領域5を形成することになる。このとき、加工領域3の基部13側の端部の位置は肉眼では簡単には確認しにくいものである。一方、図3の形態では、低段部10の全体を低凹凸領域5にするだけでよく、低段部10の端部(溝側部14との境界)は肉眼で簡単に確認できるので、低凹凸領域5を容易に形成することができる。また、誤って加工領域3を超えて基材1が切断又は切削された場合であっても、低凹凸領域5の範囲が広いので、壁材Aに低凹凸領域5を残すことができる。また、壁材Aの低段部10は目地溝を構成する部分であるため、基部13の表面よりも模様が目立ちにくく、この部分の凹凸高さが基本凹凸領域4の凹凸高さよりも多少小さくても、凹凸柄2に違和感が出ることを少なくすることができる。
【0037】
図3の形態にあっても、図1の形態と同様に、加工線9通りに切断又は切削された場合には、図3(b)のように、加工部分近傍は凹凸高さが低くなっている。そのため、角張った部分の凹凸柄2を崩れにくくすることができる。また、図3(c)のように、加工線9からずれて切断又は切削されて、加工部分に不完全な形状の凸部8aが形成された場合であっても、加工部分の凸部8aは凹凸高さが低く基材1に密着している。そのため、バリの発生を抑制することができ、また、加工部分の凹凸柄2を崩れにくくすることができ、さらに、加工部分の凹凸柄2が崩れた場合でも模様崩れを目立ちにくくすることができる。
【0038】
図1及び図3の形態においては、低凹凸領域5における凹凸高さは一定の高さであるような場合を示したが、低凹凸領域5の高さは一定でなくてもよい。例えば、基本凹凸領域4との境界から加工領域3に近づくにしたがって低凹凸領域5の凹凸高さが徐々に低くなるようにしてもよい。このとき連続的に徐々に凹凸高さが小さくなってもよいし、段階的に徐々に凹凸高さが小さくなってもよい。徐々に凹凸高さを低くした場合、模様高さが連続的に変化することになり、凹凸高さが低い領域と凹凸高さが基本の高さの領域とにおける外観上の違和感をより小さくすることができる。そのため、凹凸柄2をより自然な模様にすることができ、意匠性を向上することができる。
【0039】
図4は、壁材Aを形成する他の一例であり、低凹凸領域5の凹凸高さが徐々に低くなる例を示している。本形態では、図4(a)に示すように、加工領域3を含んだ低凹凸領域5は、凹凸高さが低い低位領域6と、この低位領域6よりも凹凸高さが高い中位領域7とを有している。低位領域6は、加工領域3を含んで形成されている。この低位領域6の凹凸高さは、図1の形態の低凹凸領域5の凹凸高さと同じにすることができ、例えば、1mm以下にすることができる。
【0040】
中位領域7は、低位領域5と基本凹凸領域4との間において、これらの領域に隣接して形成されている。すなわち、基材1の中央側から端部に向かって、基本凹凸領域4、中位領域7、低位領域5の順で各領域が配置され、階段状に徐々に凹凸柄2の凹凸高さが小さくなっている。それにより、凹凸高さの違いによる違和感を和らげ、より自然な模様を形成することができ、意匠性が向上する。
【0041】
低位領域6の基部13側の境界、すなわち低位領域6と中位領域7との境界は、加工領域3の基部13側の端部とほぼ同じ位置になっている。それにより、低位領域6が広くなりすぎないため、凹凸高さの低い凹凸柄2の範囲が広くなりすぎて意匠性が低下するのを抑制することができ、また、狭い範囲で効率よく低位領域6を設けることができる。なお、低位領域6は加工領域3を含むのであればよく、加工領域3の基部13側の端部よりも基部13側に、低位領域6の基部13側の端部が位置していてもよい。
【0042】
図4に示すものでは、中位領域7は一つの凸部8で形成されているが、複数の凸部8で中位領域7が形成されていてもよい。また、中位領域7の基材13側の端部の位置を低段部10と溝側部14との境界の位置にしてもよい。また、凹凸高さの異なる複数の中位領域7を形成してもよい。その場合、基本凹凸領域4から低位領域6に向かって、徐々に凹凸の高さが低くなるように、中位領域7を形成することが好ましい。
【0043】
そして、図4(a)の基材1が加工線9で切断又は切削されて、図4(b)又は図4(c)に示すような壁材Aが形成される。図5(a)は、図4(b)の場合における加工部分の拡大図であり、図5(b)は、図4(c)の場合における加工部分の拡大図である。
【0044】
図4の形態にあっても、図1及び図3の形態と同様に、加工線9通りに切断又は切削された場合には、図4(b)のように、加工部分近傍は凹凸高さが低くなっている。そのため、角張った部分の凹凸柄2が崩れにくくすることができる。さらに、本形態では、図5(a)の拡大図で示すように、中位領域7を設けることにより凹凸柄2の凹凸高さが徐々に低くなっているため、凹凸柄2の高さの変更が滑らかになり、意匠性をよくすることができ、また、凹凸柄2をさらに崩れにくくすることができる。また、図4(c)及び図5(b)のように、加工線9からずれて切断又は切削されて、加工部分に不完全な形状の凸部8aが形成された場合であっても、加工部分の凸部8aは凹凸高さが低く基材1に密着している。そのため、バリの発生を抑制することができ、また、加工部分の凹凸柄2を崩れにくくすることができ、さらに、加工部分の凹凸柄2が崩れた場合でも模様崩れを目立ちにくくすることができる。またさらに、本形態では、中位領域7を設けることにより凹凸柄2の凹凸高さが徐々に低くなっているため、加工部分の凸部8aが崩れるようなことがあった場合も、より目立ちにくくすることができる。
【0045】
図6は、凹凸柄2を形成する凸部8の形状の一例を示している。図6(a)は、基本凹凸領域4における凸部8である。図示のように、凸部8は逆U字状に盛り上がって突出する形状であってよい。そして、凸部8の表面は曲面となっている。
【0046】
図6(b)は、低凹凸領域5に設けられる凸部8の一例である。図6(b)の凸部8は、図6(a)の凸部8を上下方向(高さ方向)に圧縮して高さを低くした形状になっている。すなわち、低凹凸領域8の凸部8の表面は、基本凹凸領域4の凸部8の表面よりも高さの低い曲面となっている。このように凸部8が上下方向に圧縮された形状になることで、基本凹凸領域4の凸部8との形状の違いが小さくなり、外観上の違和感を緩和することができる。
【0047】
また、図6(c)は、低凹凸領域5に設けられる凸部8の他の一例である。図6(c)の凸部8は、基本凹凸領域4の凸部8の上端部が水平方向に削られて取り除かれた形状となっている。そのため、図6(c)の凸部8の上端は平坦面となっており、もとの凸部8の曲面が分断されている。このように、低凹凸領域5の凸部8に平坦面ができた場合、基本凹凸領域4の凸部8との形状の違いが大きくなり、外観上の違和感が発生するおそれがある。したがって、低凹凸領域5の凸部8としては、図6(c)に示した平坦面を有する凸部8よりは、図6(b)に示した曲面で構成された凸部8の方が好ましい。なお、図6(c)の凸部8の場合であっても、平坦面の端縁である角部を削るなどして凸部8の表面を滑らかな曲面により近づくようにすれば、違和感を緩和することは可能である。
【0048】
低凹凸領域5の形成方法は、凹凸柄2の凹凸高さが低くなるように形成することができれば、特に限られるものではないが、図6(b)で示すような凸部8を形成するために、上下で圧縮して形成することが好ましい。例えば、押出成形により基材1の基本形状を作製し、基材1の表面を凹凸型で押して凹凸柄2を形成した後、平板などによって低凹凸領域5を形成したい領域を上側から押えることによって、凹凸柄2の凹凸高さを低くして低凹凸領域5を形成することができる。
【0049】
すでに説明したように、押出成形の直後においては、基材1がまだ完全に硬化されておらず柔らかい状態であり、窯業系材料で構成された基材1を凹凸型の押圧で変形させることにより凹凸柄2を形成することができる。そしてさらに、凹凸柄2が形成された直後の基材1は、まだ完全に硬化されておらず、若干の流動性があり、その状態のときに、上側から平板で押えることにより、図6(b)で示すような上下方向に圧縮された凸部8を簡単に形成することができるものである。
【0050】
また、塗膜層により凹凸柄2を形成する場合は、基材1の表面に、凹凸柄2を形成するための塗膜層を形成した後、この塗膜層に凹凸型を押し当てて塗膜層を変形させて凹凸柄2を形成し、その後、平板を押し当てて圧縮させて凸部8を形成するようにしてもよい。
【0051】
凹凸高さの低い凹凸柄2を形成するために、凹凸高さの低くなった凹凸型を用いることも可能である。しかしながら、凹凸高さが異なる凹凸型を作製し、しかも位置精度よく、凹凸型を基材1に押し当てる方法は作業が難しくなるおそれがある。したがって、凹凸型により凹凸高さを低くするよりも、上記のように平板を押し当てて圧縮させる方がより簡単に凹凸高さを低くすることができるので好ましい。
【0052】
なお、図6(c)に示すような凸部8は、いわゆるヘッドカットのような一定の高さ以上の部分を切り取る方法で得られる。このような凸部8の形成は、外観上の違和感を発生しやくなるが、基材1が完全に硬化した後であっても形成できるという利点がある。なお、切断又は切削、あるいは研磨などで、凸部8の上端部を取り除いて、凸部8の高さを低くする場合であっても、曲面が形成されるように凸部8の上端部を取り除けば、図6(b)の形状に近づき、外観上の違和感が少なくすることは可能である。
【0053】
図7は、壁材Aの表面突出部12側の端部の形成の一例を示している。上記の低凹凸領域5による凹凸柄2の外観向上は、基材1の表面突出部12側の端部にも適用することができる。
【0054】
図7(a)に示すように、低凹凸領域5は加工領域3を含んでおり、低凹凸領域5の基部13側の端部は、加工領域3の基部13側の端部とほぼ同じ位置になっている。それにより、低凹凸領域5が広くなりすぎないため凹凸高さの低い凹凸柄2の範囲が広くなりすぎて意匠性が低下するのを抑制することができ、また、狭い範囲で効率よく低凹凸領域5を設けることができる。なお、低凹凸領域5は加工領域3を含むのであればよく、加工領域3の基部13側の端部よりも基部13側に、低凹凸領域5の基部13側の端部が位置していてもよい。
【0055】
そして、図7の形態では、基材1が斜め方向に切断又は切削されて、角部が取り除かれ、目地溝の側面を形成する溝側部15が形成される。このとき、切断又は切削されてできる加工部分の凹凸柄2が基本凹凸領域4と同じ凹凸高さである場合、バリが発生したり、凸部8が欠落したりするおそれがある。
【0056】
しかし、図7の形態においては、基材1の端部に低凹凸領域5が形成されている。そのため、図1の形態と同様に、図7(b)のように、加工線9通りに切断又は切削された場合には、加工部分近傍は凹凸高さが低くなっているので、角張った部分の凹凸柄2を崩れにくくすることができる。また、図7(c)のように、加工線9からずれて切断又は切削されて、加工部分に不完全な形状の凸部8aが形成された場合であっても、加工部分の凸部8aは凹凸高さが低く基材1に密着している。そのため、バリの発生を抑制することができ、また、加工部分の凹凸柄2を崩れにくくすることができ、さらに、加工部分の凹凸柄2が崩れた場合でも模様崩れを目立ちにくくすることができる。
【0057】
上記においては、基材1の端部に低凹凸領域5を形成する形態を説明したが、本発明はこれに限られるものではない。例えば、基材1の中央部に大きな模様として溝部を切断又は切削加工により形成する際などにも適用可能である。この場合、溝部を形成する際の加工領域3を含んで低凹凸領域5を設ければ、溝部の加工部分における凹凸柄2の凹凸高さを低くすることが可能になる。そのため、この部分でのバリの発生を抑制することができ、また、凹凸柄2が欠落することを抑制することができ、また、欠落したとしても目立ちにくくすることができる。
【0058】
また、上記の壁材Aでは、凸部8で形成される凹凸柄2を説明したが、凸部8だけではなく、溝などの凹部によって形成される凹凸柄2にも適用可能である。この場合、凹凸高さが低い、すなわち凹部の深さが浅い低凹凸領域5が、加工領域3を含んで形成されることにより、加工部分における凹凸柄2を崩れにくくすることができ、意匠性を高めることができる。
【0059】
以上のように、上記の実施形態の壁材Aでは、基材加工時に発生する加工バリや、施工時の模様欠落を、意匠性を損なうことなく低減することができるものである。
【符号の説明】
【0060】
A 壁材
1 基材
2 凹凸柄
3 加工領域
4 基本凹凸領域
5 低凹凸領域
6 低位領域
7 中位領域
8 凸部
9 加工線
10 低段部
11 裏側突出部
12 表側突出部
13 基部
14、15 溝側部

【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材が切断又は切削されて形成され、表面に凹凸柄を有する壁材であって、前記凹凸柄の凹凸高さが低い低凹凸領域が、切断又は切削される加工領域を含んで形成されていることを特徴とする壁材。
【請求項2】
前記低凹凸領域は、切断又は切削される加工領域を含んで形成される低位領域と、前記低位領域よりも前記凹凸柄の凹凸高さが高い中位領域とを有することを特徴とする請求項1に記載の壁材。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate

【図4】
image rotate

【図5】
image rotate

【図6】
image rotate

【図7】
image rotate

【図8】
image rotate

【図9】
image rotate

【図10】
image rotate


【公開番号】特開2013−36279(P2013−36279A)
【公開日】平成25年2月21日(2013.2.21)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−175086(P2011−175086)
【出願日】平成23年8月10日(2011.8.10)
【出願人】(503367376)ケイミュー株式会社 (467)
【Fターム(参考)】