放射線治療装置
【課題】 高エネルギー電子線の繰り返し周波数を変化させることなく、電子線または放射線の線量率を制御することができる放射線治療装置を提供する。
【解決手段】 電子銃２からの低エネルギー電子線を加速管３で加速し、加速された高エネルギー電子線が照射部５に搬送されると、照射部５から電子線または放射線の照射を行う放射線治療装置１であって、加速管３で加速された高エネルギー電子線を照射部５へ搬送するか否かを切り換える偏向電磁石４を備え、照射部５から照射される電子線または放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御するようにした。
【解決手段】 電子銃２からの低エネルギー電子線を加速管３で加速し、加速された高エネルギー電子線が照射部５に搬送されると、照射部５から電子線または放射線の照射を行う放射線治療装置１であって、加速管３で加速された高エネルギー電子線を照射部５へ搬送するか否かを切り換える偏向電磁石４を備え、照射部５から照射される電子線または放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御するようにした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、病変部に電子線または放射線を照射して放射線治療を行うための放射線治療装置に係り、特に線量率を所望のものに制御しつつ電子線または放射線を照射する放射線治療装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線治療は、患者の病変部へ電子線または放射線を照射する治療方法である。病変部の周辺正常組織の被曝を低く抑えながら病変部へ電子線または放射線を集中させるほど、少ない副作用で抗腫瘍効果の高い治療を行うことができる。病変部へ電子線または放射線を集中させる照射方法の一つに回転照射がある。この照射方法は、電子線または放射線の照射源を患者の周りを周回させ、かかる照射源から病変部へ向けて放射線を照射させて病変部の周囲から電子線または放射線を照射する方法である。
【０００３】
かかる照射方法により電子線または放射線を照射して治療を行うための放射線治療装置としては、電子銃と、電子銃から供給された低エネルギー電子線を数ＭｅＶから十数ＭｅＶの高エネルギー電子線として出力する電子線加速器と、高エネルギー電子線をそのまま電子線として、または放射線に変換して病変部へ照射する照射部とを備えた構成のものがある（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
かかる放射線治療装置では、電子銃から電子線加速器への低エネルギー電子線の供給は、トリガーパルス発振器からトリガーパルスを受け取った高電圧電源で電圧パルスを発生させ、この電圧パルスが電子銃に印可されたときに行われる。また、電子線加速器には、前記トリガーパルス発振器からトリガーパルスを受け取ったマイクロ波発生源から、マイクロ波が供給され、かかるマイクロ波が供給されている期間、電子銃から供給された低エネルギー電子線がマイクロ波の電界により加速され、電子線加速器から高エネルギー電子線として出力される。電子線加速器から出力された高エネルギー電子線は、照射部へと搬送され、照射部から、そのまま電子線として、または放射線に変換して照射される。
【０００５】
病変部へ電子線または放射線を照射する照射部は、ガントリーに収められ、かかるガントリーを患者の周りを周回させながら前記照射部から電子線または放射線を照射し、病変部の周囲から電子線または放射線が照射される。
【０００６】
このような放射線治療装置により、回転照射を行う場合、電子線または放射線をむらなく照射するため、角度あたりの電子線または放射線の線量を均一にする必要がある。ここで、前記照射部は、高エネルギー放射線を遮蔽したり、電子線または放射線の照射野を整形したり、照射野内の線量分布等を整えるため、重量物であり、かかる照射部を収めたガントリーも重量物となる。したがって、角度あたりの線量が均一になるように、ガントリーの回転速度を制御するのは、応答速度において限界がある。例えば、回転照射を開始した直後から、角度あたりの線量を均一にするために、ガントリーを一定速度で回転させることは、非常に困難である。
【０００７】
このようなことから、角度あたりの電子線または放射線の線量を均一にするために、ガントリーの回転速度に応じ、照射部から照射される電子線または放射線の線量率を変化させる必要がある。そこで、ガントリーの回転速度に応じて電子線または放射線の線量率を変化させるため、トリガーパルスの繰り返し周波数を変化させることにより、電子線加速器から発生するパルス状の高エネルギー電子線の繰り返し周波数を変化させ、これによって前記線量率を制御する放射線治療装置がある（例えば、特許文献２参照。）。
【特許文献１】特開２００１−９０５０号公報
【特許文献２】特開平６−１５４３４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ここで、電子線加速器に供給されるマイクロ波の仕事率をＷ、電子線加速器での熱損をＨ、高エネルギー電子線の電流をＩ、電子線加速器に入射した電子線が受ける加速をＶとすると、エネルギー保存の法則から、Ｗ（マイクロ波の仕事率）＝Ｈ（熱損）＋Ｉ・Ｖ（電子線加速）となる。ところで、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を上げると、電子線加速器内の温度が上昇し、電子線加速器を構成する加速管内表面の抵抗値も上昇し、熱損Ｈもさらに増える。エネルギー保存の法則により、熱損Ｈが増えた分、加速に使用される仕事率Ｉ・Ｖが減る。加速に使用される仕事率Ｉ・Ｖが減った分、電子線が受ける加速Ｖすなわち出力される高エネルギー電子線のエネルギーと、電流値Ｉが低下する。逆に、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を下げると、熱損Ｈが減少し、その分、高エネルギー電子線のエネルギー（電子線が受ける加速Ｖ）または電流値Ｉが増加する。すなわち、照射部から照射される電子線または放射線の線量率を制御するために、従来のようにトリガーパルスの繰り返し周波数を変化させると、高エネルギー電子線のエネルギーおよびその電流値Ｉが変化することになってしまう。
【０００９】
このように高エネルギー電子線のエネルギーが変化した場合、照射される電子線または放射線の線量分布が所望のものとならず、効果的な治療を行うことが非常に困難となる。また、高エネルギー電子線の電流値Ｉが変化すると、線量率が変化するという問題がある。
【００１０】
本発明の目的は、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を変化させることなく、電子線または放射線の線量率を制御することができる放射線治療装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、電子線生成手段によって生成した電子線を加速手段で加速して照射手段に搬送し、該照射手段から電子線または放射線の形で照射を行う放射線治療装置であって、前記加速手段によって加速した電子線を前記照射手段へ搬送するか否かを切り換える偏向手段を設け、該偏向手段を、前記照射手段から照射される電子線または放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御するようにしたことを特徴とする。
【００１２】
このような請求項１に記載の発明では、電子線生成手段で生成した電子線が加速手段で加速され、加速された電子線が照射手段に搬送されると、該照射手段から電子線または放射線の形で照射が行われる。加速手段で加速された電子線は、偏向手段によって、照射手段へ搬送されるか否かが切り換えられる。偏向手段は、照射手段から照射される電子線または放射線の線量率が所望のものとなるように、切換制御を行う。これにより、照射手段からは、所望の線量率の電子線または放射線が照射される。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の前記偏向手段は、電磁石またはコイルを備え、前記電磁石または前記コイルに、前記所望の線量率に対応した繰り返し周波数を有するパルス電流が供給されて前記切換制御を行うことを特徴とする。
【００１４】
このような請求項２に記載の発明では、前記電磁石または前記コイルに、前記所望の線量率に対応した繰り返し周波数を有するパルス電流が供給されて切換制御が行われ、前記照射手段から、所望の線量率の電子線または放射線が照射される。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１に記載の発明によれば、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を変化させることなく、電子線または放射線の線量率を制御することができる。
【００１６】
請求項２に記載の発明によれば、電磁石またはコイルにより加速手段で加速された電子線の向きが切り換えられ、これにより、電子線または放射線の線量率を制御することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の一例について詳細に説明する。
図１は本発明の放射線治療装置の第一実施形態を示す図、図２は同期型Ｖ−Ｆ変換器に設定される放射線線量率設定値を示す図、図３は図１に示す放射線治療装置におけるパルスシーケンス図である。
【００１８】
本例の放射線治療装置１は、電子線生成手段を構成する電子銃２と、電子銃２から供給された低エネルギー電子線を加速する加速手段としての加速管３と、偏向電磁石４と、放射線を照射する照射部５とを備えている。これら電子銃２、加速管３、偏向電磁石４、照射部５は、ガントリー（図示省略）内に収められている。
【００１９】
前記電子銃２は、低エネルギー電子線を前記加速管３に入射するようになっている。電子銃２は、高電圧電源６から電圧パルスが印可されると低エネルギー電子線を出力するようになっている。高電圧電源６は、トリガーパルス発振器７から、トリガーパルス（図３参照）を受けると電圧パルスを発生し、この電圧パルスが電子銃２に印可されると、電子銃２から、図３に示すようにパルス状に低エネルギー電子線が出力されるようになっている。すなわち、電子銃２からは、トリガーパルス発振器７からのトリガーパルスに同期して、低エネルギー電子線がパルス状に出力されるようになっている。
【００２０】
電子銃２から加速管３に入射された低エネルギー電子線は、加速管３内において加速されるようになっている。具体的には、加速管３には、マイクロ波発振器８から、パルス状のマイクロ波（図３参照）が供給され、かかるマイクロ波により、加速管３において低エネルギー電子線が加速されて、加速管３から高エネルギー電子線が出力されるようになっている。前記マイクロ波発振器８は、トリガーパルス発振器７からトリガーパルスを受けて前記パルス状のマイクロ波を発振するようになっている。
【００２１】
前記偏向電磁石４は、加速管３で加速された高エネルギー電子線を照射部５へ搬送するか否かを切り換える偏向手段を構成している。かかる偏向電磁石４により、照射部５から照射される放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御が行われるようになっている。
【００２２】
前記切換制御について以下詳しく説明する。偏向電磁石４は、電流源９からパルス状の偏向電流（パルス電流）を受けて通電状態にあるときに、加速管３から出力された高エネルギー電子線の向きを照射部５の方向へ偏向させるようになっている。一方で、偏向電磁石４は、非通電状態にあるときには、加速管３から出力された高エネルギー電子線の向きを、ガントリー内における照射部５とは異なる位置に設けられた遮蔽材１０の方向へ偏向させるようになっている。すなわち、加速管３から出力された高エネルギー電子線は、偏向電磁石４により、照射部５の方向と遮蔽材１０の方向とに切り換えられるようになっている。
【００２３】
前記遮蔽材１０は、入射した高エネルギー電子線を減速し、阻止し、発生する制動Ｘ線も遮蔽するようになっている。そして、かかる遮蔽材１０へ高エネルギー電子線が偏向されているとき（偏向電磁石４の非通電時）には、照射部５からは放射線が照射されず、照射部５へ偏向されているとき（偏向電磁石４の通電時）に放射線が照射されるようになっている。
【００２４】
偏向電磁石４への通電について詳しく説明すると、この偏向電磁石４は、電流源９からパルス状の偏向電流を受けて通電されるようになっている。この電流源９は、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１から、偏向パルス（図３参照）が出力されたときに、この偏向パルスを受けてパルス状の偏向電流を出力するようになっている。
【００２５】
前記同期型Ｖ−Ｆ変換器１１は、トリガーパルス発振器７からのトリガーパルスを受け、これを所定の繰り返し周波数を有する偏向パルスとして電流源１２へ出力するようになっている。この所定の繰り返し周波数は、予め同期型Ｖ−Ｆ変換器１１に設定された所定の放射線線量率設定値に対応したものである。
【００２６】
ここで、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１に設定される放射線線量率設定値について説明する。この放射線線量率設定値は、照射部５から照射させたい所望の放射線の線量率である。同期型Ｖ−Ｆ変換器１１には、例えば、図２に示すように時間の経過とともに変化する放射線線量率設定値が設定される。この放射線線量率設定値は、ガントリーの回転速度に対応して、放射線の照射対象における角度あたりの線量が均一となるような設定値である。この設定値についてさらに詳しく説明すると、ガントリーの回転速度は、回転を始めると徐々に速くなってやがて一定となり、回転を止める場合には徐々に回転速度が遅くなって止まるようになっている。したがって、放射線線量率設定値は、このようなガントリーの回転速度に応じ、ガントリーの回転開始後に徐々に上昇した後一定となり、ガントリーの回転が止まるときに、徐々に下降するような設定値となっている。
【００２７】
同期型Ｖ−Ｆ変換器１１は、トリガーパルス発振器７からのトリガーパルスを受け、上述のような放射線線量率設定値に応じた繰り返し周波数の偏向パルスを出力する。かかる偏向パルスの繰り返し周波数は、放射線線量率設定値に応じ、ガントリーの回転開始直後から次第に高くなった後一定となり、ガントリーの回転が止まるときに徐々に低くなるよう変化する。
【００２８】
そして、偏向電磁石４には、このような偏向パルスの繰り返し周波数と同じ繰り返し周波数を有するパルス状の偏向電流が入力するようになっている。これにより、加速管３から出力された高エネルギー電子線は、前記のように照射部５の方向へ偏向され、照射部５からは、放射線が、図３に示すようにパルス状に照射されるようになっている。照射部５から照射される放射線の線量率は、前記偏向パルスの繰り返し周波数に比例し、前記放射線線量率設定値と等しい。言い換えれば、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１からは、照射部５から照射される放射線の線量率が所望のものとなるような繰り返し周波数の偏向パルスが出力されるようになっている。
【００２９】
前記照射部５は、図示しないが、ターゲット、平坦化フィルター、照射野限定器（コリメータ）等を備えて構成されている。かかる照射部５は、加速管３から出力され偏向電磁石４によって偏向させた高エネルギー電子線が入射されると、この高エネルギー電子線を、例えば高原子番号材料のターゲットでＸ線に変換し、平坦化フィルターにより線量分布を平坦化し、照射野限定器により照射野を限定して放射線を出力するようになっている。ただし、照射部５は、入射された高エネルギー電子線をそのまま電子線として出力するものであってもよい。
【００３０】
次に、このように構成された放射線治療装置１の作用について説明する。
本例の放射線治療装置１においては、トリガーパルス発振器７から発振されるトリガーパルスに同期して電子銃２から低エネルギー電子線がパルス状に出力されて加速管３に入射されるとともに加速管３にパルス状のマイクロ波が入力される。電子銃２からの低エネルギー電子線の出力は、トリガーパルス発振器７からトリガーパルスを受け取った高電圧電源６が電圧パルスを発生し、この電圧パルスが電子銃２に印可されると行われる。また、加速管３に入力されるマイクロ波は、トリガーパルス発振器７からトリガーパルスを受け取ったマイクロ波発振器８から発振される。
【００３１】
低エネルギー電子線が入射した加速管３では低エネルギー電子線がマイクロ波によって加速され、加速管３から高エネルギー電子線が出力される。加速管３から出力された高エネルギー電子線は、照射部５または遮蔽材１０のいずれかの方向へと向かう。
【００３２】
高エネルギー電子線の方向の切り換えは、偏向電磁石４によって行う。具体的には、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１から偏向パルスが出力され、電流源から偏向電流が出力されて偏向電磁石４が通電状態にある場合には、高エネルギー電子線は照射部５へと偏向される。そして、高エネルギー電子線が入射された照射部５からは、放射線が照射される。一方、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１から偏向パルスが出力されず、偏向電磁石４が非通電の状態にある場合には、高エネルギー電子線は遮蔽材１０へと偏向される。このとき、照射部５からは放射線が照射されない。偏向パルスは、前記放射線線量率設定値に応じた繰り返し周波数で出力され、これにより、照射部５からは、放射線線量率設定値と等しい線量率の放射線が照射される。すなわち、照射部５から照射される放射線の線量率は、図２に示すように、ガントリーの回転開始から徐々に上昇した後一定となり、ガントリーの回転が止まるときに徐々に下降し、これにより、放射線の照射対象における角度あたりの線量が均一となる。
【００３３】
トリガーパルス、低エネルギー電子線、マイクロ波、偏向パルス、放射線のパルスシーケンスについて図３を参照して説明する。図３は、ガントリーが回転を開始してから一定の回転速度となるまでのトリガーパルス、低エネルギー電子線、マイクロ波、偏向パルス、放射線のパルスシーケンスを示している。図において、トリガーパルス発振器７から発振されるトリガーパルスに同期して、パルス状に高エネルギー電子線が出力されるとともに、パルス状のマイクロ波が発振されている。また、トリガーパルスに同期して、偏向パルスも出力されるが、偏向パルスの繰り返し周波数は、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１に設定された放射線線量率設定値に対応して変化する。図３においては、偏向パルスは、低周波数から高周波数に変化した後、一定の周波数となっている。照射部５からは、トリガーパルス、低エネルギー電子線、マイクロ波、偏向パルスの全てが出力されたときに、放射線が照射部５からパルス状に照射されるようになっている。照射される放射線の線量率は、徐々に大きくなった後、一定となる。
【００３４】
このような本例の放射線治療装置１によれば、偏向パルス、偏向電流の繰り返し周波数を変化させることで、照射部５から照射される放射線の線量率を制御することができる。そして、ガントリーの回転速度に応じて照射部５から照射される放射線の線量率を制御することで、照射対象における角度あたりの線量を均一にすることができる。
【００３５】
そして、本例の放射線治療装置１によれば、従来のように、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を変化させることなく、放射線の線量率を制御することができるので、高エネルギー電子線のエネルギーが変化することはなく、所望の線量分布を得ることができ、これにより効果的な治療を行うことができる。また、高エネルギー電子線の電流値が変化することもないので線量率が変化することもない。
【００３６】
以上説明した本実施形態では、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１に設定される放射線線量率設定値は、図２に示すように、ガントリーの回転速度に合わせ、徐々に上昇した後一定となり、その後下降するようになっているが、これに限られるものではなく、例えば、患者の脊髄など、放射線の照射をできるだけ控えたいような部分には放射線を照射しないようにするなど、治療計画に合わせて、照射される放射線の線量率が上下するように設定してもよい。
【００３７】
次に、本発明に係る放射線治療装置の第二実施形態について説明する。図４は第二実施形態の放射線治療装置の要部を示す図である。
本例の放射線治療装置２０は、マイクロトロン電子加速器２１を備え、かかるマイクロトロン電子加速器２１で加速された高エネルギー電子線が、照射部（図示省略）に搬送されると、放射線に変換されて照射されるようになっている。照射部は、第一実施形態と同様、ターゲット、平坦化フィルター、照射野限定器等を備えて構成され、ガントリー（図示省略）内に収められている。ただし、照射部は、電子線を照射するものであってもよい。
【００３８】
前記マイクロトロン電子加速器２１は、前記ガントリーとは別体となっていてもよいし、前記ガントリー内に収められていてもよい。マイクロトロン電子加速器２１の構成について詳しく説明すると、このマイクロトロン電子加速器２１は、一様磁場を作る一様磁場コイル２２を備え、この一様磁場コイル２２内に、加速空洞２３が設けられている。加速空洞２３には、対向する壁面に、それぞれ電子線透過孔２４，２５が設けられているとともに、電子銃２６が設けられている。
【００３９】
電子銃２６は、上記第一実施形態と同様、トリガーパルス発振器（図示省略）からのトリガーパルスを受けた高電圧電源（図示省略）で発生した電圧パルスが印可されると低エネルギー電子線をパルス状に出力するようになっている。電子銃２６から出力された低エネルギー電子線は、加速空洞２３から出力されると、一様磁場コイル２２による一様磁場により周回して加速空洞２３へ戻ってくるようになっている。加速空洞２３には、上記第一実施形態と同様、トリガーパルス発振器（図示省略）からのトリガーパルスを受けたマイクロ波発振器２７からパルス状のマイクロ波が供給され、このマイクロ波により、加速空洞２３において低エネルギー電子線が加速されるようになっている。
【００４０】
符号２８は一様磁場コイル２２内で加速された高エネルギー電子線を取り出すための取り出しパイプである。取り出しパイプ２８は、一様磁場を遮蔽するようになっている。この取り出しパイプ２８から取り出された高エネルギー電子線は、前記照射部へと搬送され、かかる高エネルギー電子線が搬送された照射部から、放射線に変換されて照射されるようになっている。
【００４１】
加速空洞２３の周囲には、補正コイル２９が設けられている。この補正コイル２９は、前記高エネルギー電子線を前記照射部へ搬送するか否かを切り換える偏向手段を構成している。かかる補正コイル２９により、照射部から照射される放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御が行われるようになっている。
【００４２】
かかる切換制御は、上記第一実施形態と同様、パルス状の偏向電流により行われるようになっている。具体的には、補正コイル２９には、電流源３０からパルス状の偏向電流が通電されるようになっている。そして、補正コイル２９にパルス状の偏向電流が通電されているときには、一様磁場内の高エネルギー電子線は、図中実線で示すように、取り出しパイプ２８から取り出され、前記照射部から放射線が照射されるようになっている。一方、補正コイル２９が非通電の場合には、一様磁場内の高エネルギー電子線は、図中一点鎖線で示すように取り出しパイプ２８に衝突し、取り出しパイプ２８から取り出されないようになっている。 電流源３０は、上記第一実施形態と同様、同期型Ｖ−Ｆ変換器（図示省略）からの偏向パルスを受けて前記偏向電流を出力するようになっている。この同期型Ｖ−Ｆ変換器は、上記第一実施形態と同様、前記トリガーパルス発振器からトリガーパルスを受け、予め設定された所定の放射線線量率設定値に対応した所定の繰り返し周波数の偏向パルスを出力するようになっている。この放射線線量率設定値は、例えば、図２に示すものであり、本例においても、上記第一実施形態と同様放射線線量率設定値に応じて前記偏向パルスの繰り返し周波数を変化させることにより、かかる繰り返し周波数と同じ繰り返し周波数を有する前記偏向電流が出力されて補正コイル２９への通電、非通電が切り換えられ、照射部から照射される放射線の線量率を制御することができるようになっている。
【００４３】
このように構成されるマイクロトロン電子加速器２１を有する本例の放射線治療装置２０の作用について説明する。
本例の放射線治療装置２０におけるマイクロトロン電子加速器２１では、トリガーパルスに同期して前記電子銃から低エネルギー電子線がパルス状に出力されると、加速空洞２３内に導かれて加速され、一様磁場コイル２２による一様磁場中で円軌道を描いて再び電子線透過孔２４から加速空洞２３内に入射する。ここで電子はさらに加速され、電子線透過孔２５から一様磁場内へ出てより大きな円軌道を描き、再び加速空洞２３内に入射する。この動作が繰り返され、低エネルギー電子線が所定のエネルギーになるまで加速される。
【００４４】
一様磁場コイル２２内における一様磁場中の電子線の軌道は、補正コイル２９にパルス状の偏向電流が入力している場合には図中実線で示すものとなり、所定のエネルギーまで加速された後、高エネルギー電子線として取り出しパイプ２８から取り出され、かかる高エネルギー電子線が前記照射部まで搬送されて、該照射部から放射線が照射される。一方、加速空洞２３に、前記偏向電流が入力されない場合には、一様磁場コイル２２内における一様磁場中の電子線の軌道は、図中一点鎖線で示す軌道となり、高エネルギー電子線は取り出しパイプ２８に衝突して該取り出しパイプ２８からは取り出されず、照射部からは放射線は照射されない。補正コイル２９には、上記第一実施形態と同様、前記放射線線量率設定値に応じた繰り返し周波数の偏向電流が入力され、これにより、照射部５からは、放射線線量率設定値と等しい線量率の放射線が照射される。
【００４５】
トリガーパルス、低エネルギー電子線、マイクロ波、偏向パルス、放射線のパルスシーケンスは、第一実施形態と同様であり、説明を省略する。
【００４６】
本例の放射線治療装置２０においても、偏向パルス、偏向電流の繰り返し周波数を変化させることにより、照射部から照射される放射線の線量率を変化させることができ、これにより、上記第一実施形態と同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の放射線治療装置の第一実施形態を示す図。
【図２】同期型Ｖ−Ｆ変換器に設定される放射線線量率設定値を示す図。
【図３】図１に示す放射線治療装置におけるパルスシーケンス図。
【図４】本発明の放射線治療装置の第二実施形態の要部を示す図。
【符号の説明】
【００４８】
１ 放射線治療装置
２ 電子銃
３ 加速管
４ 偏向電磁石
５ 照射部
６ 高電圧電源
７ トリガーパルス発振器
８ マイクロ波発振器
９ 電流源
１０ 遮蔽材
１１ 同期型Ｖ−Ｆ変換器
２０ 放射線治療装置
２１ マイクロトロン電子加速器
２２ 一様磁場コイル
２３ 加速空洞
２４，２５ 電子線透過孔
２６ 電子銃
２７ マイクロ波発振器
２８ 取り出しパイプ
２９ 補正コイル
３０ 電流源
【技術分野】
【０００１】
本発明は、病変部に電子線または放射線を照射して放射線治療を行うための放射線治療装置に係り、特に線量率を所望のものに制御しつつ電子線または放射線を照射する放射線治療装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線治療は、患者の病変部へ電子線または放射線を照射する治療方法である。病変部の周辺正常組織の被曝を低く抑えながら病変部へ電子線または放射線を集中させるほど、少ない副作用で抗腫瘍効果の高い治療を行うことができる。病変部へ電子線または放射線を集中させる照射方法の一つに回転照射がある。この照射方法は、電子線または放射線の照射源を患者の周りを周回させ、かかる照射源から病変部へ向けて放射線を照射させて病変部の周囲から電子線または放射線を照射する方法である。
【０００３】
かかる照射方法により電子線または放射線を照射して治療を行うための放射線治療装置としては、電子銃と、電子銃から供給された低エネルギー電子線を数ＭｅＶから十数ＭｅＶの高エネルギー電子線として出力する電子線加速器と、高エネルギー電子線をそのまま電子線として、または放射線に変換して病変部へ照射する照射部とを備えた構成のものがある（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
かかる放射線治療装置では、電子銃から電子線加速器への低エネルギー電子線の供給は、トリガーパルス発振器からトリガーパルスを受け取った高電圧電源で電圧パルスを発生させ、この電圧パルスが電子銃に印可されたときに行われる。また、電子線加速器には、前記トリガーパルス発振器からトリガーパルスを受け取ったマイクロ波発生源から、マイクロ波が供給され、かかるマイクロ波が供給されている期間、電子銃から供給された低エネルギー電子線がマイクロ波の電界により加速され、電子線加速器から高エネルギー電子線として出力される。電子線加速器から出力された高エネルギー電子線は、照射部へと搬送され、照射部から、そのまま電子線として、または放射線に変換して照射される。
【０００５】
病変部へ電子線または放射線を照射する照射部は、ガントリーに収められ、かかるガントリーを患者の周りを周回させながら前記照射部から電子線または放射線を照射し、病変部の周囲から電子線または放射線が照射される。
【０００６】
このような放射線治療装置により、回転照射を行う場合、電子線または放射線をむらなく照射するため、角度あたりの電子線または放射線の線量を均一にする必要がある。ここで、前記照射部は、高エネルギー放射線を遮蔽したり、電子線または放射線の照射野を整形したり、照射野内の線量分布等を整えるため、重量物であり、かかる照射部を収めたガントリーも重量物となる。したがって、角度あたりの線量が均一になるように、ガントリーの回転速度を制御するのは、応答速度において限界がある。例えば、回転照射を開始した直後から、角度あたりの線量を均一にするために、ガントリーを一定速度で回転させることは、非常に困難である。
【０００７】
このようなことから、角度あたりの電子線または放射線の線量を均一にするために、ガントリーの回転速度に応じ、照射部から照射される電子線または放射線の線量率を変化させる必要がある。そこで、ガントリーの回転速度に応じて電子線または放射線の線量率を変化させるため、トリガーパルスの繰り返し周波数を変化させることにより、電子線加速器から発生するパルス状の高エネルギー電子線の繰り返し周波数を変化させ、これによって前記線量率を制御する放射線治療装置がある（例えば、特許文献２参照。）。
【特許文献１】特開２００１−９０５０号公報
【特許文献２】特開平６−１５４３４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ここで、電子線加速器に供給されるマイクロ波の仕事率をＷ、電子線加速器での熱損をＨ、高エネルギー電子線の電流をＩ、電子線加速器に入射した電子線が受ける加速をＶとすると、エネルギー保存の法則から、Ｗ（マイクロ波の仕事率）＝Ｈ（熱損）＋Ｉ・Ｖ（電子線加速）となる。ところで、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を上げると、電子線加速器内の温度が上昇し、電子線加速器を構成する加速管内表面の抵抗値も上昇し、熱損Ｈもさらに増える。エネルギー保存の法則により、熱損Ｈが増えた分、加速に使用される仕事率Ｉ・Ｖが減る。加速に使用される仕事率Ｉ・Ｖが減った分、電子線が受ける加速Ｖすなわち出力される高エネルギー電子線のエネルギーと、電流値Ｉが低下する。逆に、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を下げると、熱損Ｈが減少し、その分、高エネルギー電子線のエネルギー（電子線が受ける加速Ｖ）または電流値Ｉが増加する。すなわち、照射部から照射される電子線または放射線の線量率を制御するために、従来のようにトリガーパルスの繰り返し周波数を変化させると、高エネルギー電子線のエネルギーおよびその電流値Ｉが変化することになってしまう。
【０００９】
このように高エネルギー電子線のエネルギーが変化した場合、照射される電子線または放射線の線量分布が所望のものとならず、効果的な治療を行うことが非常に困難となる。また、高エネルギー電子線の電流値Ｉが変化すると、線量率が変化するという問題がある。
【００１０】
本発明の目的は、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を変化させることなく、電子線または放射線の線量率を制御することができる放射線治療装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、電子線生成手段によって生成した電子線を加速手段で加速して照射手段に搬送し、該照射手段から電子線または放射線の形で照射を行う放射線治療装置であって、前記加速手段によって加速した電子線を前記照射手段へ搬送するか否かを切り換える偏向手段を設け、該偏向手段を、前記照射手段から照射される電子線または放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御するようにしたことを特徴とする。
【００１２】
このような請求項１に記載の発明では、電子線生成手段で生成した電子線が加速手段で加速され、加速された電子線が照射手段に搬送されると、該照射手段から電子線または放射線の形で照射が行われる。加速手段で加速された電子線は、偏向手段によって、照射手段へ搬送されるか否かが切り換えられる。偏向手段は、照射手段から照射される電子線または放射線の線量率が所望のものとなるように、切換制御を行う。これにより、照射手段からは、所望の線量率の電子線または放射線が照射される。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の前記偏向手段は、電磁石またはコイルを備え、前記電磁石または前記コイルに、前記所望の線量率に対応した繰り返し周波数を有するパルス電流が供給されて前記切換制御を行うことを特徴とする。
【００１４】
このような請求項２に記載の発明では、前記電磁石または前記コイルに、前記所望の線量率に対応した繰り返し周波数を有するパルス電流が供給されて切換制御が行われ、前記照射手段から、所望の線量率の電子線または放射線が照射される。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１に記載の発明によれば、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を変化させることなく、電子線または放射線の線量率を制御することができる。
【００１６】
請求項２に記載の発明によれば、電磁石またはコイルにより加速手段で加速された電子線の向きが切り換えられ、これにより、電子線または放射線の線量率を制御することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の一例について詳細に説明する。
図１は本発明の放射線治療装置の第一実施形態を示す図、図２は同期型Ｖ−Ｆ変換器に設定される放射線線量率設定値を示す図、図３は図１に示す放射線治療装置におけるパルスシーケンス図である。
【００１８】
本例の放射線治療装置１は、電子線生成手段を構成する電子銃２と、電子銃２から供給された低エネルギー電子線を加速する加速手段としての加速管３と、偏向電磁石４と、放射線を照射する照射部５とを備えている。これら電子銃２、加速管３、偏向電磁石４、照射部５は、ガントリー（図示省略）内に収められている。
【００１９】
前記電子銃２は、低エネルギー電子線を前記加速管３に入射するようになっている。電子銃２は、高電圧電源６から電圧パルスが印可されると低エネルギー電子線を出力するようになっている。高電圧電源６は、トリガーパルス発振器７から、トリガーパルス（図３参照）を受けると電圧パルスを発生し、この電圧パルスが電子銃２に印可されると、電子銃２から、図３に示すようにパルス状に低エネルギー電子線が出力されるようになっている。すなわち、電子銃２からは、トリガーパルス発振器７からのトリガーパルスに同期して、低エネルギー電子線がパルス状に出力されるようになっている。
【００２０】
電子銃２から加速管３に入射された低エネルギー電子線は、加速管３内において加速されるようになっている。具体的には、加速管３には、マイクロ波発振器８から、パルス状のマイクロ波（図３参照）が供給され、かかるマイクロ波により、加速管３において低エネルギー電子線が加速されて、加速管３から高エネルギー電子線が出力されるようになっている。前記マイクロ波発振器８は、トリガーパルス発振器７からトリガーパルスを受けて前記パルス状のマイクロ波を発振するようになっている。
【００２１】
前記偏向電磁石４は、加速管３で加速された高エネルギー電子線を照射部５へ搬送するか否かを切り換える偏向手段を構成している。かかる偏向電磁石４により、照射部５から照射される放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御が行われるようになっている。
【００２２】
前記切換制御について以下詳しく説明する。偏向電磁石４は、電流源９からパルス状の偏向電流（パルス電流）を受けて通電状態にあるときに、加速管３から出力された高エネルギー電子線の向きを照射部５の方向へ偏向させるようになっている。一方で、偏向電磁石４は、非通電状態にあるときには、加速管３から出力された高エネルギー電子線の向きを、ガントリー内における照射部５とは異なる位置に設けられた遮蔽材１０の方向へ偏向させるようになっている。すなわち、加速管３から出力された高エネルギー電子線は、偏向電磁石４により、照射部５の方向と遮蔽材１０の方向とに切り換えられるようになっている。
【００２３】
前記遮蔽材１０は、入射した高エネルギー電子線を減速し、阻止し、発生する制動Ｘ線も遮蔽するようになっている。そして、かかる遮蔽材１０へ高エネルギー電子線が偏向されているとき（偏向電磁石４の非通電時）には、照射部５からは放射線が照射されず、照射部５へ偏向されているとき（偏向電磁石４の通電時）に放射線が照射されるようになっている。
【００２４】
偏向電磁石４への通電について詳しく説明すると、この偏向電磁石４は、電流源９からパルス状の偏向電流を受けて通電されるようになっている。この電流源９は、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１から、偏向パルス（図３参照）が出力されたときに、この偏向パルスを受けてパルス状の偏向電流を出力するようになっている。
【００２５】
前記同期型Ｖ−Ｆ変換器１１は、トリガーパルス発振器７からのトリガーパルスを受け、これを所定の繰り返し周波数を有する偏向パルスとして電流源１２へ出力するようになっている。この所定の繰り返し周波数は、予め同期型Ｖ−Ｆ変換器１１に設定された所定の放射線線量率設定値に対応したものである。
【００２６】
ここで、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１に設定される放射線線量率設定値について説明する。この放射線線量率設定値は、照射部５から照射させたい所望の放射線の線量率である。同期型Ｖ−Ｆ変換器１１には、例えば、図２に示すように時間の経過とともに変化する放射線線量率設定値が設定される。この放射線線量率設定値は、ガントリーの回転速度に対応して、放射線の照射対象における角度あたりの線量が均一となるような設定値である。この設定値についてさらに詳しく説明すると、ガントリーの回転速度は、回転を始めると徐々に速くなってやがて一定となり、回転を止める場合には徐々に回転速度が遅くなって止まるようになっている。したがって、放射線線量率設定値は、このようなガントリーの回転速度に応じ、ガントリーの回転開始後に徐々に上昇した後一定となり、ガントリーの回転が止まるときに、徐々に下降するような設定値となっている。
【００２７】
同期型Ｖ−Ｆ変換器１１は、トリガーパルス発振器７からのトリガーパルスを受け、上述のような放射線線量率設定値に応じた繰り返し周波数の偏向パルスを出力する。かかる偏向パルスの繰り返し周波数は、放射線線量率設定値に応じ、ガントリーの回転開始直後から次第に高くなった後一定となり、ガントリーの回転が止まるときに徐々に低くなるよう変化する。
【００２８】
そして、偏向電磁石４には、このような偏向パルスの繰り返し周波数と同じ繰り返し周波数を有するパルス状の偏向電流が入力するようになっている。これにより、加速管３から出力された高エネルギー電子線は、前記のように照射部５の方向へ偏向され、照射部５からは、放射線が、図３に示すようにパルス状に照射されるようになっている。照射部５から照射される放射線の線量率は、前記偏向パルスの繰り返し周波数に比例し、前記放射線線量率設定値と等しい。言い換えれば、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１からは、照射部５から照射される放射線の線量率が所望のものとなるような繰り返し周波数の偏向パルスが出力されるようになっている。
【００２９】
前記照射部５は、図示しないが、ターゲット、平坦化フィルター、照射野限定器（コリメータ）等を備えて構成されている。かかる照射部５は、加速管３から出力され偏向電磁石４によって偏向させた高エネルギー電子線が入射されると、この高エネルギー電子線を、例えば高原子番号材料のターゲットでＸ線に変換し、平坦化フィルターにより線量分布を平坦化し、照射野限定器により照射野を限定して放射線を出力するようになっている。ただし、照射部５は、入射された高エネルギー電子線をそのまま電子線として出力するものであってもよい。
【００３０】
次に、このように構成された放射線治療装置１の作用について説明する。
本例の放射線治療装置１においては、トリガーパルス発振器７から発振されるトリガーパルスに同期して電子銃２から低エネルギー電子線がパルス状に出力されて加速管３に入射されるとともに加速管３にパルス状のマイクロ波が入力される。電子銃２からの低エネルギー電子線の出力は、トリガーパルス発振器７からトリガーパルスを受け取った高電圧電源６が電圧パルスを発生し、この電圧パルスが電子銃２に印可されると行われる。また、加速管３に入力されるマイクロ波は、トリガーパルス発振器７からトリガーパルスを受け取ったマイクロ波発振器８から発振される。
【００３１】
低エネルギー電子線が入射した加速管３では低エネルギー電子線がマイクロ波によって加速され、加速管３から高エネルギー電子線が出力される。加速管３から出力された高エネルギー電子線は、照射部５または遮蔽材１０のいずれかの方向へと向かう。
【００３２】
高エネルギー電子線の方向の切り換えは、偏向電磁石４によって行う。具体的には、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１から偏向パルスが出力され、電流源から偏向電流が出力されて偏向電磁石４が通電状態にある場合には、高エネルギー電子線は照射部５へと偏向される。そして、高エネルギー電子線が入射された照射部５からは、放射線が照射される。一方、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１から偏向パルスが出力されず、偏向電磁石４が非通電の状態にある場合には、高エネルギー電子線は遮蔽材１０へと偏向される。このとき、照射部５からは放射線が照射されない。偏向パルスは、前記放射線線量率設定値に応じた繰り返し周波数で出力され、これにより、照射部５からは、放射線線量率設定値と等しい線量率の放射線が照射される。すなわち、照射部５から照射される放射線の線量率は、図２に示すように、ガントリーの回転開始から徐々に上昇した後一定となり、ガントリーの回転が止まるときに徐々に下降し、これにより、放射線の照射対象における角度あたりの線量が均一となる。
【００３３】
トリガーパルス、低エネルギー電子線、マイクロ波、偏向パルス、放射線のパルスシーケンスについて図３を参照して説明する。図３は、ガントリーが回転を開始してから一定の回転速度となるまでのトリガーパルス、低エネルギー電子線、マイクロ波、偏向パルス、放射線のパルスシーケンスを示している。図において、トリガーパルス発振器７から発振されるトリガーパルスに同期して、パルス状に高エネルギー電子線が出力されるとともに、パルス状のマイクロ波が発振されている。また、トリガーパルスに同期して、偏向パルスも出力されるが、偏向パルスの繰り返し周波数は、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１に設定された放射線線量率設定値に対応して変化する。図３においては、偏向パルスは、低周波数から高周波数に変化した後、一定の周波数となっている。照射部５からは、トリガーパルス、低エネルギー電子線、マイクロ波、偏向パルスの全てが出力されたときに、放射線が照射部５からパルス状に照射されるようになっている。照射される放射線の線量率は、徐々に大きくなった後、一定となる。
【００３４】
このような本例の放射線治療装置１によれば、偏向パルス、偏向電流の繰り返し周波数を変化させることで、照射部５から照射される放射線の線量率を制御することができる。そして、ガントリーの回転速度に応じて照射部５から照射される放射線の線量率を制御することで、照射対象における角度あたりの線量を均一にすることができる。
【００３５】
そして、本例の放射線治療装置１によれば、従来のように、高エネルギー電子線の繰り返し周波数を変化させることなく、放射線の線量率を制御することができるので、高エネルギー電子線のエネルギーが変化することはなく、所望の線量分布を得ることができ、これにより効果的な治療を行うことができる。また、高エネルギー電子線の電流値が変化することもないので線量率が変化することもない。
【００３６】
以上説明した本実施形態では、同期型Ｖ−Ｆ変換器１１に設定される放射線線量率設定値は、図２に示すように、ガントリーの回転速度に合わせ、徐々に上昇した後一定となり、その後下降するようになっているが、これに限られるものではなく、例えば、患者の脊髄など、放射線の照射をできるだけ控えたいような部分には放射線を照射しないようにするなど、治療計画に合わせて、照射される放射線の線量率が上下するように設定してもよい。
【００３７】
次に、本発明に係る放射線治療装置の第二実施形態について説明する。図４は第二実施形態の放射線治療装置の要部を示す図である。
本例の放射線治療装置２０は、マイクロトロン電子加速器２１を備え、かかるマイクロトロン電子加速器２１で加速された高エネルギー電子線が、照射部（図示省略）に搬送されると、放射線に変換されて照射されるようになっている。照射部は、第一実施形態と同様、ターゲット、平坦化フィルター、照射野限定器等を備えて構成され、ガントリー（図示省略）内に収められている。ただし、照射部は、電子線を照射するものであってもよい。
【００３８】
前記マイクロトロン電子加速器２１は、前記ガントリーとは別体となっていてもよいし、前記ガントリー内に収められていてもよい。マイクロトロン電子加速器２１の構成について詳しく説明すると、このマイクロトロン電子加速器２１は、一様磁場を作る一様磁場コイル２２を備え、この一様磁場コイル２２内に、加速空洞２３が設けられている。加速空洞２３には、対向する壁面に、それぞれ電子線透過孔２４，２５が設けられているとともに、電子銃２６が設けられている。
【００３９】
電子銃２６は、上記第一実施形態と同様、トリガーパルス発振器（図示省略）からのトリガーパルスを受けた高電圧電源（図示省略）で発生した電圧パルスが印可されると低エネルギー電子線をパルス状に出力するようになっている。電子銃２６から出力された低エネルギー電子線は、加速空洞２３から出力されると、一様磁場コイル２２による一様磁場により周回して加速空洞２３へ戻ってくるようになっている。加速空洞２３には、上記第一実施形態と同様、トリガーパルス発振器（図示省略）からのトリガーパルスを受けたマイクロ波発振器２７からパルス状のマイクロ波が供給され、このマイクロ波により、加速空洞２３において低エネルギー電子線が加速されるようになっている。
【００４０】
符号２８は一様磁場コイル２２内で加速された高エネルギー電子線を取り出すための取り出しパイプである。取り出しパイプ２８は、一様磁場を遮蔽するようになっている。この取り出しパイプ２８から取り出された高エネルギー電子線は、前記照射部へと搬送され、かかる高エネルギー電子線が搬送された照射部から、放射線に変換されて照射されるようになっている。
【００４１】
加速空洞２３の周囲には、補正コイル２９が設けられている。この補正コイル２９は、前記高エネルギー電子線を前記照射部へ搬送するか否かを切り換える偏向手段を構成している。かかる補正コイル２９により、照射部から照射される放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御が行われるようになっている。
【００４２】
かかる切換制御は、上記第一実施形態と同様、パルス状の偏向電流により行われるようになっている。具体的には、補正コイル２９には、電流源３０からパルス状の偏向電流が通電されるようになっている。そして、補正コイル２９にパルス状の偏向電流が通電されているときには、一様磁場内の高エネルギー電子線は、図中実線で示すように、取り出しパイプ２８から取り出され、前記照射部から放射線が照射されるようになっている。一方、補正コイル２９が非通電の場合には、一様磁場内の高エネルギー電子線は、図中一点鎖線で示すように取り出しパイプ２８に衝突し、取り出しパイプ２８から取り出されないようになっている。 電流源３０は、上記第一実施形態と同様、同期型Ｖ−Ｆ変換器（図示省略）からの偏向パルスを受けて前記偏向電流を出力するようになっている。この同期型Ｖ−Ｆ変換器は、上記第一実施形態と同様、前記トリガーパルス発振器からトリガーパルスを受け、予め設定された所定の放射線線量率設定値に対応した所定の繰り返し周波数の偏向パルスを出力するようになっている。この放射線線量率設定値は、例えば、図２に示すものであり、本例においても、上記第一実施形態と同様放射線線量率設定値に応じて前記偏向パルスの繰り返し周波数を変化させることにより、かかる繰り返し周波数と同じ繰り返し周波数を有する前記偏向電流が出力されて補正コイル２９への通電、非通電が切り換えられ、照射部から照射される放射線の線量率を制御することができるようになっている。
【００４３】
このように構成されるマイクロトロン電子加速器２１を有する本例の放射線治療装置２０の作用について説明する。
本例の放射線治療装置２０におけるマイクロトロン電子加速器２１では、トリガーパルスに同期して前記電子銃から低エネルギー電子線がパルス状に出力されると、加速空洞２３内に導かれて加速され、一様磁場コイル２２による一様磁場中で円軌道を描いて再び電子線透過孔２４から加速空洞２３内に入射する。ここで電子はさらに加速され、電子線透過孔２５から一様磁場内へ出てより大きな円軌道を描き、再び加速空洞２３内に入射する。この動作が繰り返され、低エネルギー電子線が所定のエネルギーになるまで加速される。
【００４４】
一様磁場コイル２２内における一様磁場中の電子線の軌道は、補正コイル２９にパルス状の偏向電流が入力している場合には図中実線で示すものとなり、所定のエネルギーまで加速された後、高エネルギー電子線として取り出しパイプ２８から取り出され、かかる高エネルギー電子線が前記照射部まで搬送されて、該照射部から放射線が照射される。一方、加速空洞２３に、前記偏向電流が入力されない場合には、一様磁場コイル２２内における一様磁場中の電子線の軌道は、図中一点鎖線で示す軌道となり、高エネルギー電子線は取り出しパイプ２８に衝突して該取り出しパイプ２８からは取り出されず、照射部からは放射線は照射されない。補正コイル２９には、上記第一実施形態と同様、前記放射線線量率設定値に応じた繰り返し周波数の偏向電流が入力され、これにより、照射部５からは、放射線線量率設定値と等しい線量率の放射線が照射される。
【００４５】
トリガーパルス、低エネルギー電子線、マイクロ波、偏向パルス、放射線のパルスシーケンスは、第一実施形態と同様であり、説明を省略する。
【００４６】
本例の放射線治療装置２０においても、偏向パルス、偏向電流の繰り返し周波数を変化させることにより、照射部から照射される放射線の線量率を変化させることができ、これにより、上記第一実施形態と同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の放射線治療装置の第一実施形態を示す図。
【図２】同期型Ｖ−Ｆ変換器に設定される放射線線量率設定値を示す図。
【図３】図１に示す放射線治療装置におけるパルスシーケンス図。
【図４】本発明の放射線治療装置の第二実施形態の要部を示す図。
【符号の説明】
【００４８】
１ 放射線治療装置
２ 電子銃
３ 加速管
４ 偏向電磁石
５ 照射部
６ 高電圧電源
７ トリガーパルス発振器
８ マイクロ波発振器
９ 電流源
１０ 遮蔽材
１１ 同期型Ｖ−Ｆ変換器
２０ 放射線治療装置
２１ マイクロトロン電子加速器
２２ 一様磁場コイル
２３ 加速空洞
２４，２５ 電子線透過孔
２６ 電子銃
２７ マイクロ波発振器
２８ 取り出しパイプ
２９ 補正コイル
３０ 電流源
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子線生成手段によって生成した電子線を加速手段で加速して照射手段に搬送し、該照射手段から電子線または放射線の形で照射を行う放射線治療装置であって、
前記加速手段によって加速した電子線を前記照射手段へ搬送するか否かを切り換える偏向手段を設け、
該偏向手段を、前記照射手段から照射される電子線または放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御するようにした
ことを特徴とする放射線治療装置。
【請求項２】
前記偏向手段は、電磁石またはコイルを備え、前記電磁石または前記コイルに、前記所望の線量率に対応した繰り返し周波数を有するパルス電流が供給されて前記切換制御を行う
ことを特徴とする請求項１に記載の放射線治療装置。
【請求項１】
電子線生成手段によって生成した電子線を加速手段で加速して照射手段に搬送し、該照射手段から電子線または放射線の形で照射を行う放射線治療装置であって、
前記加速手段によって加速した電子線を前記照射手段へ搬送するか否かを切り換える偏向手段を設け、
該偏向手段を、前記照射手段から照射される電子線または放射線の線量率が所望のものとなるように切換制御するようにした
ことを特徴とする放射線治療装置。
【請求項２】
前記偏向手段は、電磁石またはコイルを備え、前記電磁石または前記コイルに、前記所望の線量率に対応した繰り返し周波数を有するパルス電流が供給されて前記切換制御を行う
ことを特徴とする請求項１に記載の放射線治療装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００６−５１０６４（Ｐ２００６−５１０６４Ａ）
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２３２９１８（Ｐ２００４−２３２９１８）
【出願日】平成１６年８月１０日（２００４．８．１０）
【出願人】（０００１５３４９８）株式会社日立メディコ (1,613)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年８月１０日（２００４．８．１０）
【出願人】（０００１５３４９８）株式会社日立メディコ (1,613)
【Ｆターム（参考）】
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