【課題】ゲート照射時に照射対象に不規則変動が生じたときも効率のよい照射を行うことで、照射時間を短縮し、治療時間を短縮できる荷電粒子照射システムおよび荷電粒子照射方法を提供する。
【解決手段】規則的な移動信号による規則的な出射許可終了信号受信によりビームの出射が停止される。一方、出射許可終了信号受信により、出射可能状態維持機能４６ｂが作動する。待機中に出射許可開始信号が再受信されず、設定待機時間を経過すると、出射可能状態維持機能４６ｂは作動終了となる。荷電粒子ビーム発生装置１はビームを減速する。
照射中の不規則的な出射許可終了信号受信によりビームの出射が停止される場合もある。一方、出射許可終了信号受信により、出射可能状態維持機能４６ｂが作動し、荷電粒子ビーム発生装置１は出射可能状態を維持する。待機中に出射許可開始信号が再受信されると、ビームの出射が再開される。 （もっと読む）

【課題】二重窓枠型電磁石において、一様磁場領域を広く取ることにより、ビーム走査範囲を確保する。
【解決手段】コイル１０１，１０８，１１１，１１８は、Ｙ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域とＹ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域の間に配置され、Ｘ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域を、コイル１０９，１１０，１１９，１２０は、Ｙ方向磁場励磁電流通過メイン領域２２１，２２２とＹ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域の間に配置され、Ｘ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域を構成し、コイル２０１，２０８，２１１，２１８は、Ｘ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域とＸ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域の間に配置され、Ｙ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域を、コイル２０９，２１０，２１９，２２０は、Ｘ方向磁場励磁電流通過メイン領域１２１，１２２とＸ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域の間に配置され、Ｙ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域を構成する。 （もっと読む）

【課題】照射線量一様度を低下させずにビーム利用効率を高めることのできる粒子線照射システムを提供する。
【解決手段】
イオンビーム１０を加速して出射するシンクロトロン１３と、シンクロトロン１３から出射されたイオンビーム１０を照射する照射装置３０とを有し、照射装置３０から一単位の照射を複数回行う粒子線照射システムにおいて、シンクロトロン１３内の蓄積ビーム電荷量（Ｑｍｅａｓ）を計測する蓄積ビーム電荷量計測手段１５と、蓄積ビーム電荷量計測手段で計測した蓄積ビーム電荷量（Ｑｍｅａｓ）に基づき、シンクロトロン１３から出射する目標ビーム電流値（Ｉｆｂ）を設定する目標電流設定手段と、前記目標電流設定手段より求められた出射ビーム電流の目標値（Ｉｆｂ）に基づきビーム電流を制御する出射ビーム電流補正制御手段を備えることを特徴とする粒子線照射システム。 （もっと読む）

【課題】スポットスキャニング照射で治療精度を容易に向上できる粒子線治療システムを低コストで提供する。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、荷電粒子ビームを断続的に出射するシンクロトロン２００、ビーム輸送系３００と照射装置５００から構成される。制御装置６００は、照射装置５００に荷電粒子ビームを供給する期間では出射装置２６に印加する高周波電力をＯＮし、照射装置５００への荷電粒子ビームの供給を遮断する期間では出射装置２６に印加する高周波電力をＯＦＦするとともに、照射装置５００に荷電粒子ビームを供給する期間の間で出射装置２６に印加する高周波電力の帯域中心周波数を変化させる。 （もっと読む）

【課題】アイソセンター位置における荷電粒子線の線量分布を精度良く算出することができる荷電粒子線照射装置及び荷電粒子線の線量分布算出方法を提供する。
【解決手段】本発明は、アイソセンター位置の被照射体に対して荷電粒子線Ｐを照射する荷電粒子線照射装置１００であって、被照射体に荷電粒子線Ｐを照射する照射部１と、照射部１に設けられ、照射部１に設けられ、荷電粒子線の線量分布を測定する線量分布モニタ６と、線量分布モニタ６の測定結果に基づいて、アイソセンター位置における荷電粒子線Ｐの線量分布を算出する線量分布算出部１１と、を備える。この荷電粒子線照射装置１００によれば、照射部１を通過する荷電粒子線Ｐの線量分布の測定結果に基づいて、アイソセンター位置における荷電粒子線Ｐの線量分布を算出することができる。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス性の高い荷電粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】本発明は、荷電粒子線を被照射体へ照射する陽子線治療装置１０であって、荷電粒子を加速して荷電粒子線を出射するサイクロトロン２と、荷電粒子線を被照射体に向けて照射する照射ノズル１１と、サイクロトロン２と照射ノズル１１とを繋ぐ輸送ライン３と、照射ノズル１１が配置され、輸送ライン３を支持すると共に、所定の中心軸線Ｐを中心として回転又は揺動が可能なガントリー１２と、Ｘ線照射部６１及びＸ線検出部６２を有し、被照射体のＸ線画像を取得するＸ線撮影装置６０と、を備え、Ｘ線照射部６１及びＸ線検出部６２のうち少なくとも一方を制御するＸ線撮影用制御器８９は、ガントリー１２の外周上に設置されている。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば非破壊モニタの小型化により放射線照射装置の低コスト化を可能とする。
【解決手段】高電圧印加電極４０２、４０４に電圧を印加する高電圧電源３０５と、高電圧印加電極４０２と電荷収集電極４０１との間に第一の電離層を形成する電離箱３０１と、高電圧印加電極４０４と電荷収集電極４０３との間に第二の電離層を形成する電離箱３０２と、電荷収集電極４０１、４０３に到達した電離電子の電荷を積算する信号処理装置３０４と、を備える放射線計測装置１０１において、前記第一の電離層と前記第二の電離層とは少なくとも一部の領域で重なり、信号処理装置３０４の接続先を前記電荷収集電極４０１と４０３との間で切り替えるスイッチ７０１と、高電圧電源３０５の接続先を高電圧印加電極４０２と４０４との間で切り替えるスイッチ７０２と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大きさの増大や照射の乱れ、および散乱体同士の衝突を回避して、的確に散乱体の入れ替えができる散乱体切替装置を得ることを目的とする。
【解決手段】複数の散乱体２を格納する真空チェンバ４２と、中心軸Ｘ_４２に垂直な第１の平面内で、真空チェンバ４２の外側の互いに異なる方向から中心軸Ｘ_４２に向かって真空チェンバ４２内に延伸し、先端に散乱体３が接続された駆動ロッド３ｂを備え、散乱体２を、それぞれ使用位置、または使用位置から離れた退避位置のいずれか一方に直線駆動する駆動機構３と、散乱体２のそれぞれに対応する駆動ロッド３ｂに連結され、当該散乱体に連動して当該散乱体の他の散乱体への衝突を防止するストッパ５と、を備え、ストッパ５のそれぞれの駆動領域を、第１の平面と平行で中心軸Ｘ_４２から離れた真空チェンバ４２の外側に設定する。 （もっと読む）

【課題】架台を大型化せず架台の回転角度や揺動角度による照射精度の低下を抑制し、スキャニング方式における照射精度の低下を抑制できる荷電粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線Ｒを被照射体へ照射する荷電粒子線照射装置１であって、荷電粒子線Ｒを走査する走査磁石を有し、走査された荷電粒子線Ｒを被照射体へ照射する照射ノズル６と、サイクロトロン２より送られてきた荷電粒子線Ｒを照射ノズル６へ向けて偏向させる偏向磁石５Ａと、照射ノズル６と偏向磁石５Ａとが配置され、回転軸Ｐを中心に回転可能な回転ガントリ−３と、回転軸Ｐと照射ノズル６から照射される荷電粒子線Ｒの照射位置との位置関係を検出する位置検出部８と、回転ガントリ−３の回転角度に対応する位置検出部８の検出結果を利用して、照射ノズル６から照射される荷電粒子線の照射位置を調整する制御装置Ｔとを備える。 （もっと読む）

【課題】チェンバの亀裂が生じ難く、粒子線を高速に移動できる粒子線照射ノズルを提供する。
【解決手段】入射した粒子線を、この粒子線の進行方向と垂直な方向に走査する走査電磁石と、この走査電磁石に囲まれ、内部に上記粒子線を通過させるビーム輸送チェンバを備えた粒子線照射ノズルにおいて、ビーム輸送チェンバは、非磁性材料のフランジ部を有し、このフランジ部と同一材料で一体的に形成されたチェンバ本体と、当該ビーム輸送チェンバから粒子線を照射対象の方向に取り出すための、金属フランジに取り付けられた隔離窓と、チェンバ本体のフランジ部と隔離窓の金属フランジとを接続する金属製の隔離窓接続部材とを備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線照射装置の小型化を図ると共に、電磁石からの放射線の照射室内への進入を防止すること。
【解決手段】本発明の荷電粒子線照射装置１０は、荷電粒子線を輸送する輸送ライン３１と、荷電粒子線を被照射体へ照射する照射部と、輸送ライン３１及び照射部を支持する共に、回転軸線Ｐ回りに回転可能な筒体１３を有する回転ガントリー１２とを備え、輸送ライン３１の傾斜部３３が、筒体１３内を通過して配置される構成とする。これにより、径方向に張り出す輸送ライン３１の張り出し量を小さくする。また、電磁石４１，３４，３２からの放射線を遮蔽する遮蔽部材６１，６２を備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの小型化に好適な機器の配置とそれを用いたシンクロトロン、及び当該シンクロトロンを用いた粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、加速又は減速した荷電粒子ビームを取り出すための第１出射用偏向器２０８及び第２出射用偏向器２０９を備え、第１出射用偏向器２０８と第２出射用偏向器２０９の間に複数の偏向電磁石２０２と第１の四極電磁石２０４を有し、第１の四極電磁石２０４は複数のいずれかの偏向電磁石２０２の間に設置され、第１出射用偏向器よりもビーム進行方向の上流側に配置される第２の四極電磁石と、第２出射用偏向器よりもビーム進行方向の下流側に配置される第３の四極電磁石を備えることにある。 （もっと読む）

【課題】被照射体に対する照射量の高精度なコントロールを実現できる荷電粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】本発明は、被照射体に荷電粒子線Ｒを照射する荷電粒子線照射装置１００であって、荷電粒子線Ｒを走査して、被照射体の所定の部位へ荷電粒子線Ｒを照射する照射部１と、照射部１内に設けられ、被照射体へ向かう荷電粒子線Ｒの照射位置を検出するビーム位置モニタ５と、ビーム位置モニタ５に対して荷電粒子線Ｒの下流側に配置され、荷電粒子線Ｒを通過させる開放状態と荷電粒子線を遮断する遮断状態とを切り換え可能なシャッター機構６と、を備える。この荷電粒子線照射装置１００によれば、シャッター機構６を遮断状態に切り換えることにより照射位置調整前の荷電粒子線Ｒを患者に照射することなく照射位置の確認及び調整を行うことができるので、被照射体に対する照射量の高精度なコントロールを実現できる。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療装置で要求される照射ビームのエネルギーの変更制御が容易でありかつ、装置コストおよび装置の大型化を抑えられるイオンシンクロトロンを提供する。
【解決手段】電磁石電源制御装置22は、対して励磁電流パターンデータ401に基づき励磁電流設定値221を偏向電磁石電源21に設定する。電流変化検出装置23は、偏向電磁石電源制御装置22から入力した励磁電流設定値221の変化量が更新制御の基準となる参照電流値（Iref）以上になると、高周波制御装置32内の周波数更新制御部36に周波数更新指令信号231を出力する。高周波制御装置32内の周波数更新制御部36は、周波数更新指令信号231を入力すると、周波数データメモリ35に記憶された周波数パターンデータ403から励磁電流設定値221の変化に対応する周波数データ351を読み込み、高周波発振器34に周波数設定値321として設定する。 （もっと読む）

【課題】陽子、重陽子又はヘリウムイオンからなる大電流、高エネルギーイオンビームを生成するためのシングルエンド直流線形加速器を提供する。
【解決手段】加速器は、高電圧ターミナル４内に配置されたイオンビーム７を生成するイオン源６と、イオンビーム７を精製するための分析磁石１９と、加速管３と、重要なイオンを高エネルギーに加速する直流高電圧電源と、イオン源６からの中性ガスの大部分を接地電位の真空ポンプ１８に向けて輸送するポンプ輸送管１７とを備えており、それにより加速管３内における大きい真空圧力の悪影響を防止する。 （もっと読む）

【課題】透過形ターゲットから発生する後方散乱Ｘ線がＸ線発生装置から外部へ漏洩することを大幅に低減できる小形で軽量なＸ線発生装置とＸ線発生装置群を用いたＸ線照射装置を提供する。
【解決手段】透過形ターゲットの表面を囲むように筒状シールド管がターゲットホルダに固定された構成によって後方散乱Ｘ線を吸収する。これによって、シールド管を装着しない場合に比べて、後方散乱Ｘ線を１／２０以下に低減することができ、Ｘ線発生装置全体を覆う鉛板の量を大幅に低減することが可能となる。本発明によるＸ線発生装置複数台と他の装置とを組み合わせて、Ｘ線治療に好適な小形で軽量なＸ線照射装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】重粒子線治療装置に必要な数の重粒子イオンを安定して生成することができる重粒子線治療用重粒子イオン発生装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る重粒子線治療用重粒子イオン発生装置は、レーザ光の照射によってプラズマを発生する物質と、物質を収納する容器と、レーザ光を発生するレーザ光源と、物質上に前記レーザ光の焦点が形成されるようにレーザ光を集光する集光手段と、物質から発生したプラズマから重粒子イオンをクーロン力によって引き出し、容器の外部に送り出す電極手段と、物質から発生するプラズマを観測し、物質に接する領域のプラズマ径からレーザ光の集光径を求める観測手段と、物質の位置または集光手段の位置を調節する位置調節手段と、観測手段で求めた集光径が所定の基準集光径となるように、位置調節手段による物質の位置調節を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所定の敷地に粒子加速器と照射装置とを効率良く設置することが可能である加速粒子照射設備を提供する。
【解決手段】複数階の階層構造からなる建屋６Ｄに設置された粒子線治療設備１Ｄにおいて、陽子ビームを生成するサイクロトロン２と、サイクロトロン２で生成された陽子ビームを照射すると共に、サイクロトロン２が設置された階層よりも上側の階層及び下側の階層の少なくとも一方に設置された複数の回転ガントリ７，８と、を備え、複数の回転ガントリ７，８は、水平方向にずれて設置されていると共に、それぞれサイクロトロン２が設置された階層とは異なる階層に設置されている。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線照射装置において、設置場所の敷地面積を小さくしながら、ビーム輸送用の電磁石数を削減する。
【解決手段】粒子線治療装置１は、複数の治療室を備え、陽子ビームを加速するサイクロトロンと、サイクロトロンから送り出される陽子ビームを輸送する第１輸送ラインと、治療室ごとに設けられ、第１輸送ラインの陽子ビームを更に各々の治療室に輸送する複数の第２輸送ライン１２ａ，１２ｂと、第１輸送ラインからのビームを何れかの第２輸送ライン１２ａ，１２ｂに誘導すると共に、誘導先の第２輸送ラインを選択的に切替可能とする連結ライン１３と、を備え、治療室は、連結ライン１３を中心として放射状に配置されており、連結ライン１３は、ビームを誘導する電磁石と、電磁石を回転させる回転機構と、を有し、電磁石を回転させることにより誘導先の第２輸送ラインを切り替える。 （もっと読む）

【課題】作業効率を高めることができる中性子線照射システムを提供する。
【解決手段】中性子線照射システム１は、荷電粒子線Ｐが照射されて中性子線Ｎを発生させるターゲットＴと、減速体１０８を少なくとも含みターゲットＴを収容する収容部１０２と、被照射体へ照射する中性子線Ｎを収束させる収束部１０４と、被照射体を載置する治療台３２と、を備えている。また、中性子線照射システム１は、ターゲットＴ、収容部１０２及び収束部１０４に対して治療台３２を接近及び離間するように相対移動させる相対移動手段として、レール１１４、摺動部１１６及び駆動部１１７を備えている。よって、例えば中性子線Ｎの照射直後においても、放射化したターゲットＴ、収容部１０２及び収束部１０４に対して治療台３２を離間させることで、放射化の悪影響を受けずに治療台３２に医師等が近寄ることが可能となる。 （もっと読む）