歯科用窯
【課題】焼成室全体中における所要の温度プロフィールの正確な実現に対して悪影響を与えることなく歯科用窯を耐久性の観点において改善することができる歯科用窯ならびに該歯科用窯用の支持要素を提供する。
【解決手段】底床と歯科補綴材のための少なくとも１個の受容部を有する焼成室（１２）を備えてなる歯科用窯において、前記受容部が相互に隣接して配置され特に同じ厚みを有する複数の支持要素（２６）を含んでなり、前記の支持要素（２６）が焼成プロセス中に前記歯科補綴材を支承する。
【解決手段】底床と歯科補綴材のための少なくとも１個の受容部を有する焼成室（１２）を備えてなる歯科用窯において、前記受容部が相互に隣接して配置され特に同じ厚みを有する複数の支持要素（２６）を含んでなり、前記の支持要素（２６）が焼成プロセス中に前記歯科補綴材を支承する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、請求項１前段に記載の歯科用窯ならびに請求項１５前段に記載の支持要素に関する。
【背景技術】
【０００２】
独国特許第２６３２８４６号明細書（特許文献１）によって、焼成される材料の基台として形成された底部を備えたフード形状の焼成室を有する歯科用窯が開示されている。前記焼成される材料の基台は周囲の領域の地上高と略等しい高さに配置され、それによって取り扱いが極めて簡便になる。
【０００３】
この種の歯科用窯は数十年にわたって採用されてきた。
【０００４】
類似の歯科用窯の例が独国特許第１９９０５６６６号明細書（特許文献２）によって知られている。この歯科用窯もフード形状の焼成室を備え、それが焼成プラットフォームに対して垂直に移動可能となっている。前記焼成プラットフォームは断熱板上に支承され、窪み部によって歯科補綴材を受容するような設計になっている。
【０００５】
歯科用セラミックを焼成するためには焼成あるいは燃焼プロセス中に正確な温度プロフィールを維持することが極めて重要である。この種の温度プロフィールは１個あるいは複数個のコイルを使用して制御された加熱によって確立され、その際焼成室の内部温度を調節するように１個あるいは複数の温度センサが設定される。経済的な理由から温度センサの数を制限することが好適であり、特に歯科用減圧焼成窯の場合貫通口を必ず特殊な方式で密封する必要があるため温度センサの数を制限することが望ましい。
【０００６】
通常、歯科補綴材は焼成室内の中央に配置される。しかしながら、しばしば中央への挿入が正確に実施されず、また焼成プロセスの効率を充分に高めるために複数の歯科補綴材が同時に焼成されることも有る。
【０００７】
それにもかかわらず焼成窯内において所要かつ均一な温度を確立するために、歯科補綴材の受容部、例えば前記の独国特許第２６３２８４６号明細書（特許文献１）に係る焼成材料基台を、例えば独国特許第１９５４２９８４号明細書（特許文献３）に記載の焼成窯に適用されているように良好な熱伝導性を伴った一体設計として製造することがしばしば採用されている。
【０００８】
焼成サイクルを短縮するために歯科用窯のフードを開放する手段によって冷却を加速することが知られている。この方式によれば、しばしば受容部の破断につながり得るような温度勾配が受容部内に生じる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】独国特許第２６３２８４６号明細書
【特許文献２】独国特許第１９９０５６６６号明細書
【特許文献３】独国特許第１９５４２９８４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従って本発明の目的は、焼成室全体中における所要の温度プロフィールの正確な実現に対して悪影響を与えることなく歯科用窯を耐久性の観点において改善することができる、請求項１前段に記載の歯科用窯ならびに請求項１５記載の支持要素を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記の課題は本発明に従って請求項１および請求項１５によって解決される。従属請求項によって好適な追加構成が定義される。
【００１２】
本発明によれば、例えば行列状に相互に隣接して配置された複数の支持要素を受容部が備える。意外なことに、支持要素は例えば３ないし５ｍｍ程と極めて薄い場合でもそれらの支持要素の直径が焼成室の直径に比べて有意に小さく従って例えば１０個以上の支持要素が焼成室の底床を覆う限りは破断することがない。
【００１３】
複数の支持要素が共同で支持面を形成し、また特に焼成プロセス中に歯科補綴材を支承すれば極めて好適である。各支持要素は相互に隣接して配置されるとともに同じ基底レベルにある場合は同じ厚みを有することが好適である。しかしながら、例えば基底が僅かに緩く凹状に湾曲している場合、僅かに熱い支持要素を中央部に使用し外側に向かってより薄い支持要素を使用することも可能である。従って支持要素の上面は実質的に同じレベルに到達し、その結果歯科補綴材のための支承面が可能になる。
【００１４】
支持要素が良好な熱伝導性を有していれば極めて好適である。意外なことに、このことによっても焼成窯が開放されていない限り焼成窯内の均一な温度が確立される。支持要素は互いに接触することによって良好に熱を伝導することが明らかであり、また焼成室底床が温度プロフィールの均一化を可能にする。
【００１５】
支持要素は同時に焼成室底床を保護し、そこで意外なことに実験の結果歯科用窯のフードが開放された場合でも亀裂による損傷は全く見られず、このことは焼成室底面の低下による良好な保護に起因するものと理解される。
【００１６】
本発明によれば、補綴材に対して複数点支承が提供されることが極めて好適である。この方式によって場合によってあり得る歯科補綴材の上面の不均一性が補償され、また不均一な下面を有する歯科補綴材が小さな傾倒動作に至る傾向が著しく低下し、その結果不要な振動発生の危険性も低減される。
【００１７】
本発明の極めて好適な構成形態によれば、実質的に板形状の支持要素が焼成室底床を可能な限り広く被覆し、すなわち最大限の面積で被覆する。円盤を使用する場合、それらの円盤を互いに密接した集合体として配置しても間隙が残留することが理解される。
【００１８】
円盤によって焼成室底床を全体的に被覆することが求められる場合、第１の層の上方でそれに対して偏位して配置された支持要素の第２の層を使用することも可能であり、それによって第１の層の残留間隙が被覆される。
【００１９】
円盤の代わりにその他の任意の形状の支持要素を使用することも可能であり、例えば三角形、六角形、正方形、長方形、または十字型の支持要素を使用することができる。
【００２０】
特に十字型の支持要素は嵌め合わせ方式で相互に隣接して配置することができ、従ってそれらが焼成される材料の支持基台の範囲において隙間なく焼成室底床を被覆して嵌め合わせ方式で相互に結合される。
【００２１】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素が実質的に平坦な表面を有する。
【００２２】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素は上方から見て隣接する各支持要素の幾何学的外形が互いに等しくなるような幾何学的形状を有する。
【００２３】
極めて好適な構成形態によれば、支持要素（２６）の表面の少なくとも一部が複数点、複数線、あるいは複数領域形式の支承面を形成するための構造を有する。
【００２４】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素が上方から見て等しい幾何学的形状を有し、特にそれらが互いに嵌合する。
【００２５】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素はそれ自体の高さの２倍超の幅および／または長さ、特にそれ自体の高さの約５倍の幅および／または長さを有する。
【００２６】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素は密接した集合体として歯科用窯の焼成室の底床上に配置され、その際必要に応じてスリットおよび／または間隙を残留させ、特に好適には焼成室壁部に対して縁部間隙を残留させるようにして配置される。
【００２７】
極めて好適な構成形態によれば、互いに隣接する支持要素が少なくとも部分的に相互に接触し、その際外側の各支持要素が歯科用窯の焼成室の壁部に対して間隙あるいは縁部余白を有するように配置され、前記間隙あるいは縁部余白が室温から最大１８００℃まで加熱した際の各支持要素の合計膨張距離と室温から最大１８００℃まで加熱した際の焼成室の底床の膨張距離あるいは変位との間の差に少なくとも相当する。
【００２８】
極めて好適な構成形態によれば、支持要素が板形状に形成されるとともに特に少なくとも部分的にＡｌ２Ｏ３および／またはＳｉＮｉおよび／またはムライトおよび／またはキン青石および／またはＡｌＮおよび／またはＡｌＴｉおよび／またはＳｉＣおよび／またはＳｉＯ２および／またはＭｇＯおよび／またはポーセレンから形成される。
【００２９】
極めて好適な構成形態によれば、支持要素は少なくとも２個の支持要素からなる複数配列として歯科用窯の底床上に分散して配置される。
【００３０】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素が円、正方形、六角形、十字型、または星形等の点対称形を有する。
【００３１】
極めて好適な構成形態によれば、少なくとも１個の支持要素が丸型の形状を有するかまたは円形とは相違した外郭を有する。
【００３２】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素が固体状かつ非発泡性の材料から板形状に形成され、特に歯科用窯の最大稼働温度よりも高い溶融温度を有するセラミックによって形成される。
【００３３】
極めて好適な構成形態によれば、少なくとも２個の支持要素が嵌め合わせ方式で相互に結合する。
【００３４】
極めて好適な構成形態によれば、受容部が互いに隣接する支持要素の少なくとも２枚の上下に重ねて配置された層を含む。
【００３５】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素はそれぞれ異なった高さを有するがそれらが上下に重ねて配置された複数の層からなる場合少なくともその最上の層において同平面上で終止する。
【００３６】
極めて好適な構成形態によれば、歯科用窯の基底と受容部の間に高い熱伝導性を有する少なくとも１枚の一体型の板部材が配置される。
【００３７】
極めて好適な構成形態によれば、板部材がＳｉＣによって形成される。
【００３８】
極めて好適な構成形態によれば、支持要素が実質的に平坦な上面を備え、また必要に応じて縁部が僅かに低没した形状を有するように形成され、歯科補綴材に対して複数点式あるいは複数面式の支台を形成する。
【００３９】
極めて好適な構成形態によれば、歯科用窯の断熱材よりも大きな熱伝導性を有してなるとともにＳｉＣから形成された支持要素を嵌め合わせ方式で収容する焼成室底床上に各支持要素が設置される。
【００４０】
極めて好適な構成形態によれば、歯科用窯の支持要素が本願の各請求項の特徴事項のいずれかを有してなる。
【００４１】
本発明のその他の詳細、特徴、ならびに利点は添付図面を参照しながら以下に記述する本発明の複数の実施例の説明によって明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る歯科用窯の一実施例を示した概略図である。
【図２】図１の一細部を示した拡大図である。
【図３】支持要素および焼成室を含めて本発明に係る歯科用窯の細部を示した上面図である。
【図４】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図５】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図６】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図７】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図８】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図９】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図１０】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
図１に示された歯科用窯１０はフード１４を構成する側壁と天板とから形成された焼成室１２を備える。焼成室１２の底床１６は歯科用窯１０の下方部材１８によって形成される。周知の方式と同様に歯科用窯１０が制御パネル２０を備え、下方部材１８とフード形状の上方部材１４はヒンジ２２を介して互いに結合される。
【００４４】
図示された実施例において、歯科用窯１０が減圧接続部２４を備え、フードが閉鎖されている際にそれを通じて焼成室１２に減圧を付与することができる。
【００４５】
本発明により焼成室底床１６は支持要素２６によって被覆され、その構成が図２により詳細に示されている。そのため下方部材１８が焼成室底床１６の領域内に窪み部２８を備え、その窪み部の深さは支持要素２６の高さに正確に相当する。
【００４６】
図２によって、支持要素２６が窪み部２８を実質的に完全に満たすように形成および配置されることが示されている。支持要素２６は任意の適宜な方式で形成することができるが、例えば１６００℃とされる焼成窯の定格温度よりも顕著に高い温度までの耐熱性を有する必要がある。支持要素は全体的あるいは部分的にＡｌ２Ｏ３によって形成される。焼成室底床１６の熱膨張係数と支持要素２６の熱膨張係数が互いに異なっている場合でも、支持要素２６と窪み部２８の縁部３２との間の間隙によって容易に補償することができる。
【００４７】
本発明において支持要素２６の配置、数、ならびに形状は必要に応じて広範囲に調節可能であることが理解される。図３ないし図１０にその例が示されている。例えば図３には円形、すなわち円盤型の支持要素２６が示されており、それが実質的に平型の円筒形状に形成されるか、または図２に示されているように縁部に冠型の丸み付け部３４を備えるようにすることができる。
【００４８】
図４には、三角形構成の支持要素２６の複数配列が示されている。この実施例においては、支持要素配列の中央領域３８が優先して隙間なく被覆されることが好適であり、他方支持要素配列の縁部側には開放面が存在し、すなわち焼成室の底床１８が露出する。
【００４９】
図５には、十字型の支持要素２６が示されているが、それらは図６に示されているようにより分散させて配置することもできるが部分的には相互に嵌め合わされ、従って連動的に摺動させるかあるいは回転させることができる。
【００５０】
図７においては六角形構成の支持要素２６が設けられ、それによれば縁部側において相当に大きな焼成室底床１６の領域３８が露出しているが焼成室底床の中央領域３８は完全に被覆されている。
【００５１】
図８にも十字型の支持要素２６が示されている。それらの支持要素２６においては十字の腕部分がより長くかつ細いものとなり、従って全体として図５および図６の実施例と比べて狭い十字の構成となる。
【００５２】
図７および図８によれば、点線によって略円形に示されている歯科補綴材４０を焼成室内の略中央に配置することができる。例えば、歯科補綴材４０を石膏マッフル等の中に収容および支承することもできる。
【００５３】
特に図５ないし図１０の実施例に従った気密な嵌め合わせによって板形状の各支持要素２６の間で良好な熱伝導を達成することができ、前記熱伝導が焼成室内における温度の均一化を促進する。
【００５４】
図９には、例えば正方形の支持要素２６によって焼成室底床を部分的に被覆することも可能であることが示されている。
【００５５】
本発明に係る支持要素のさらに別の実施例が図１０に示されている。この実施例によれば、十字型の各支持要素２６が間隙４２を残して相互に嵌め合わせ式に結合される。
【符号の説明】
【００５６】
１０ 歯科用窯
１２ 焼成室
１４ フード（上方部材）
１６ 底床
１８ 下方部材
２０ 制御パネル
２２ ヒンジ
２４ 減圧接続部
２６ 支持要素
２８ 窪み部
３０ 間隙
３２ 縁部
３４ 丸み付け部
３８ 中央領域
４０ 歯科補綴材
４２ 間隙
【技術分野】
【０００１】
この発明は、請求項１前段に記載の歯科用窯ならびに請求項１５前段に記載の支持要素に関する。
【背景技術】
【０００２】
独国特許第２６３２８４６号明細書（特許文献１）によって、焼成される材料の基台として形成された底部を備えたフード形状の焼成室を有する歯科用窯が開示されている。前記焼成される材料の基台は周囲の領域の地上高と略等しい高さに配置され、それによって取り扱いが極めて簡便になる。
【０００３】
この種の歯科用窯は数十年にわたって採用されてきた。
【０００４】
類似の歯科用窯の例が独国特許第１９９０５６６６号明細書（特許文献２）によって知られている。この歯科用窯もフード形状の焼成室を備え、それが焼成プラットフォームに対して垂直に移動可能となっている。前記焼成プラットフォームは断熱板上に支承され、窪み部によって歯科補綴材を受容するような設計になっている。
【０００５】
歯科用セラミックを焼成するためには焼成あるいは燃焼プロセス中に正確な温度プロフィールを維持することが極めて重要である。この種の温度プロフィールは１個あるいは複数個のコイルを使用して制御された加熱によって確立され、その際焼成室の内部温度を調節するように１個あるいは複数の温度センサが設定される。経済的な理由から温度センサの数を制限することが好適であり、特に歯科用減圧焼成窯の場合貫通口を必ず特殊な方式で密封する必要があるため温度センサの数を制限することが望ましい。
【０００６】
通常、歯科補綴材は焼成室内の中央に配置される。しかしながら、しばしば中央への挿入が正確に実施されず、また焼成プロセスの効率を充分に高めるために複数の歯科補綴材が同時に焼成されることも有る。
【０００７】
それにもかかわらず焼成窯内において所要かつ均一な温度を確立するために、歯科補綴材の受容部、例えば前記の独国特許第２６３２８４６号明細書（特許文献１）に係る焼成材料基台を、例えば独国特許第１９５４２９８４号明細書（特許文献３）に記載の焼成窯に適用されているように良好な熱伝導性を伴った一体設計として製造することがしばしば採用されている。
【０００８】
焼成サイクルを短縮するために歯科用窯のフードを開放する手段によって冷却を加速することが知られている。この方式によれば、しばしば受容部の破断につながり得るような温度勾配が受容部内に生じる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】独国特許第２６３２８４６号明細書
【特許文献２】独国特許第１９９０５６６６号明細書
【特許文献３】独国特許第１９５４２９８４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従って本発明の目的は、焼成室全体中における所要の温度プロフィールの正確な実現に対して悪影響を与えることなく歯科用窯を耐久性の観点において改善することができる、請求項１前段に記載の歯科用窯ならびに請求項１５記載の支持要素を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記の課題は本発明に従って請求項１および請求項１５によって解決される。従属請求項によって好適な追加構成が定義される。
【００１２】
本発明によれば、例えば行列状に相互に隣接して配置された複数の支持要素を受容部が備える。意外なことに、支持要素は例えば３ないし５ｍｍ程と極めて薄い場合でもそれらの支持要素の直径が焼成室の直径に比べて有意に小さく従って例えば１０個以上の支持要素が焼成室の底床を覆う限りは破断することがない。
【００１３】
複数の支持要素が共同で支持面を形成し、また特に焼成プロセス中に歯科補綴材を支承すれば極めて好適である。各支持要素は相互に隣接して配置されるとともに同じ基底レベルにある場合は同じ厚みを有することが好適である。しかしながら、例えば基底が僅かに緩く凹状に湾曲している場合、僅かに熱い支持要素を中央部に使用し外側に向かってより薄い支持要素を使用することも可能である。従って支持要素の上面は実質的に同じレベルに到達し、その結果歯科補綴材のための支承面が可能になる。
【００１４】
支持要素が良好な熱伝導性を有していれば極めて好適である。意外なことに、このことによっても焼成窯が開放されていない限り焼成窯内の均一な温度が確立される。支持要素は互いに接触することによって良好に熱を伝導することが明らかであり、また焼成室底床が温度プロフィールの均一化を可能にする。
【００１５】
支持要素は同時に焼成室底床を保護し、そこで意外なことに実験の結果歯科用窯のフードが開放された場合でも亀裂による損傷は全く見られず、このことは焼成室底面の低下による良好な保護に起因するものと理解される。
【００１６】
本発明によれば、補綴材に対して複数点支承が提供されることが極めて好適である。この方式によって場合によってあり得る歯科補綴材の上面の不均一性が補償され、また不均一な下面を有する歯科補綴材が小さな傾倒動作に至る傾向が著しく低下し、その結果不要な振動発生の危険性も低減される。
【００１７】
本発明の極めて好適な構成形態によれば、実質的に板形状の支持要素が焼成室底床を可能な限り広く被覆し、すなわち最大限の面積で被覆する。円盤を使用する場合、それらの円盤を互いに密接した集合体として配置しても間隙が残留することが理解される。
【００１８】
円盤によって焼成室底床を全体的に被覆することが求められる場合、第１の層の上方でそれに対して偏位して配置された支持要素の第２の層を使用することも可能であり、それによって第１の層の残留間隙が被覆される。
【００１９】
円盤の代わりにその他の任意の形状の支持要素を使用することも可能であり、例えば三角形、六角形、正方形、長方形、または十字型の支持要素を使用することができる。
【００２０】
特に十字型の支持要素は嵌め合わせ方式で相互に隣接して配置することができ、従ってそれらが焼成される材料の支持基台の範囲において隙間なく焼成室底床を被覆して嵌め合わせ方式で相互に結合される。
【００２１】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素が実質的に平坦な表面を有する。
【００２２】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素は上方から見て隣接する各支持要素の幾何学的外形が互いに等しくなるような幾何学的形状を有する。
【００２３】
極めて好適な構成形態によれば、支持要素（２６）の表面の少なくとも一部が複数点、複数線、あるいは複数領域形式の支承面を形成するための構造を有する。
【００２４】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素が上方から見て等しい幾何学的形状を有し、特にそれらが互いに嵌合する。
【００２５】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素はそれ自体の高さの２倍超の幅および／または長さ、特にそれ自体の高さの約５倍の幅および／または長さを有する。
【００２６】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素は密接した集合体として歯科用窯の焼成室の底床上に配置され、その際必要に応じてスリットおよび／または間隙を残留させ、特に好適には焼成室壁部に対して縁部間隙を残留させるようにして配置される。
【００２７】
極めて好適な構成形態によれば、互いに隣接する支持要素が少なくとも部分的に相互に接触し、その際外側の各支持要素が歯科用窯の焼成室の壁部に対して間隙あるいは縁部余白を有するように配置され、前記間隙あるいは縁部余白が室温から最大１８００℃まで加熱した際の各支持要素の合計膨張距離と室温から最大１８００℃まで加熱した際の焼成室の底床の膨張距離あるいは変位との間の差に少なくとも相当する。
【００２８】
極めて好適な構成形態によれば、支持要素が板形状に形成されるとともに特に少なくとも部分的にＡｌ２Ｏ３および／またはＳｉＮｉおよび／またはムライトおよび／またはキン青石および／またはＡｌＮおよび／またはＡｌＴｉおよび／またはＳｉＣおよび／またはＳｉＯ２および／またはＭｇＯおよび／またはポーセレンから形成される。
【００２９】
極めて好適な構成形態によれば、支持要素は少なくとも２個の支持要素からなる複数配列として歯科用窯の底床上に分散して配置される。
【００３０】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素が円、正方形、六角形、十字型、または星形等の点対称形を有する。
【００３１】
極めて好適な構成形態によれば、少なくとも１個の支持要素が丸型の形状を有するかまたは円形とは相違した外郭を有する。
【００３２】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素が固体状かつ非発泡性の材料から板形状に形成され、特に歯科用窯の最大稼働温度よりも高い溶融温度を有するセラミックによって形成される。
【００３３】
極めて好適な構成形態によれば、少なくとも２個の支持要素が嵌め合わせ方式で相互に結合する。
【００３４】
極めて好適な構成形態によれば、受容部が互いに隣接する支持要素の少なくとも２枚の上下に重ねて配置された層を含む。
【００３５】
極めて好適な構成形態によれば、各支持要素はそれぞれ異なった高さを有するがそれらが上下に重ねて配置された複数の層からなる場合少なくともその最上の層において同平面上で終止する。
【００３６】
極めて好適な構成形態によれば、歯科用窯の基底と受容部の間に高い熱伝導性を有する少なくとも１枚の一体型の板部材が配置される。
【００３７】
極めて好適な構成形態によれば、板部材がＳｉＣによって形成される。
【００３８】
極めて好適な構成形態によれば、支持要素が実質的に平坦な上面を備え、また必要に応じて縁部が僅かに低没した形状を有するように形成され、歯科補綴材に対して複数点式あるいは複数面式の支台を形成する。
【００３９】
極めて好適な構成形態によれば、歯科用窯の断熱材よりも大きな熱伝導性を有してなるとともにＳｉＣから形成された支持要素を嵌め合わせ方式で収容する焼成室底床上に各支持要素が設置される。
【００４０】
極めて好適な構成形態によれば、歯科用窯の支持要素が本願の各請求項の特徴事項のいずれかを有してなる。
【００４１】
本発明のその他の詳細、特徴、ならびに利点は添付図面を参照しながら以下に記述する本発明の複数の実施例の説明によって明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る歯科用窯の一実施例を示した概略図である。
【図２】図１の一細部を示した拡大図である。
【図３】支持要素および焼成室を含めて本発明に係る歯科用窯の細部を示した上面図である。
【図４】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図５】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図６】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図７】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図８】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図９】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【図１０】本発明に係る歯科用窯の一変更例を図３と同様の視点から示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
図１に示された歯科用窯１０はフード１４を構成する側壁と天板とから形成された焼成室１２を備える。焼成室１２の底床１６は歯科用窯１０の下方部材１８によって形成される。周知の方式と同様に歯科用窯１０が制御パネル２０を備え、下方部材１８とフード形状の上方部材１４はヒンジ２２を介して互いに結合される。
【００４４】
図示された実施例において、歯科用窯１０が減圧接続部２４を備え、フードが閉鎖されている際にそれを通じて焼成室１２に減圧を付与することができる。
【００４５】
本発明により焼成室底床１６は支持要素２６によって被覆され、その構成が図２により詳細に示されている。そのため下方部材１８が焼成室底床１６の領域内に窪み部２８を備え、その窪み部の深さは支持要素２６の高さに正確に相当する。
【００４６】
図２によって、支持要素２６が窪み部２８を実質的に完全に満たすように形成および配置されることが示されている。支持要素２６は任意の適宜な方式で形成することができるが、例えば１６００℃とされる焼成窯の定格温度よりも顕著に高い温度までの耐熱性を有する必要がある。支持要素は全体的あるいは部分的にＡｌ２Ｏ３によって形成される。焼成室底床１６の熱膨張係数と支持要素２６の熱膨張係数が互いに異なっている場合でも、支持要素２６と窪み部２８の縁部３２との間の間隙によって容易に補償することができる。
【００４７】
本発明において支持要素２６の配置、数、ならびに形状は必要に応じて広範囲に調節可能であることが理解される。図３ないし図１０にその例が示されている。例えば図３には円形、すなわち円盤型の支持要素２６が示されており、それが実質的に平型の円筒形状に形成されるか、または図２に示されているように縁部に冠型の丸み付け部３４を備えるようにすることができる。
【００４８】
図４には、三角形構成の支持要素２６の複数配列が示されている。この実施例においては、支持要素配列の中央領域３８が優先して隙間なく被覆されることが好適であり、他方支持要素配列の縁部側には開放面が存在し、すなわち焼成室の底床１８が露出する。
【００４９】
図５には、十字型の支持要素２６が示されているが、それらは図６に示されているようにより分散させて配置することもできるが部分的には相互に嵌め合わされ、従って連動的に摺動させるかあるいは回転させることができる。
【００５０】
図７においては六角形構成の支持要素２６が設けられ、それによれば縁部側において相当に大きな焼成室底床１６の領域３８が露出しているが焼成室底床の中央領域３８は完全に被覆されている。
【００５１】
図８にも十字型の支持要素２６が示されている。それらの支持要素２６においては十字の腕部分がより長くかつ細いものとなり、従って全体として図５および図６の実施例と比べて狭い十字の構成となる。
【００５２】
図７および図８によれば、点線によって略円形に示されている歯科補綴材４０を焼成室内の略中央に配置することができる。例えば、歯科補綴材４０を石膏マッフル等の中に収容および支承することもできる。
【００５３】
特に図５ないし図１０の実施例に従った気密な嵌め合わせによって板形状の各支持要素２６の間で良好な熱伝導を達成することができ、前記熱伝導が焼成室内における温度の均一化を促進する。
【００５４】
図９には、例えば正方形の支持要素２６によって焼成室底床を部分的に被覆することも可能であることが示されている。
【００５５】
本発明に係る支持要素のさらに別の実施例が図１０に示されている。この実施例によれば、十字型の各支持要素２６が間隙４２を残して相互に嵌め合わせ式に結合される。
【符号の説明】
【００５６】
１０ 歯科用窯
１２ 焼成室
１４ フード（上方部材）
１６ 底床
１８ 下方部材
２０ 制御パネル
２２ ヒンジ
２４ 減圧接続部
２６ 支持要素
２８ 窪み部
３０ 間隙
３２ 縁部
３４ 丸み付け部
３８ 中央領域
４０ 歯科補綴材
４２ 間隙
【特許請求の範囲】
【請求項１】
底床と歯科補綴材のための少なくとも１個の受容部を有する焼成室を備えてなる歯科用窯であり、前記受容部が特に同じ厚みを有する複数の支持要素（２６）を含んでなり、前記支持要素（２６）のうちの少なくとも幾つかが歯科補綴材（４０）に対して共通の支承面を形成してなる歯科用窯。
【請求項２】
各支持要素（２６）が実質的に平坦な表面を有することを特徴とする請求項１記載の歯科用窯。
【請求項３】
支持要素（２６）の表面の少なくとも一部が複数点、複数線、あるいは複数領域形式の支承面を形成するための構造を有する請求項１または２記載の歯科用窯。
【請求項４】
各支持要素（２６）が上方から見て等しい幾何学的形状を有し、特にそれらが互いに嵌合する請求項１ないし３のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項５】
各支持要素（２６）がそれ自体の高さの２倍超の幅および／または長さ、特にそれ自体の高さの約５倍の幅および／または長さを有する請求項１ないし４のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項６】
各支持要素（２６）が密接した集合体として歯科用窯（１０）の焼成室（１２）の底床（１６）上に配置され、その際必要に応じてスリットおよび／または間隙を残留させ、特に焼成室（１２）の壁部に対して縁部間隙を残留させるようにして配置される請求項１ないし５のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項７】
互いに隣接する支持要素（２６）が少なくとも部分的に相互に接触し、その際外側の各支持要素（２６）が歯科用窯（１０）の焼成室（１２）の壁部に対して間隙（３０）あるいは縁部余白を有するように配置され、前記間隙あるいは縁部余白が室温から最大１８００℃まで加熱した際の各支持要素（２６）の合計膨張距離と室温から最大１８００℃まで加熱した際の焼成室（１２）の底床（１６）の膨張距離あるいは変位との間の差に少なくとも相当する請求項１ないし６のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項８】
支持要素（２６）が板形状に形成されるとともに、特に少なくとも部分的にＡｌ２Ｏ３および／またはＳｉＮｉおよび／またはムライトおよび／またはキン青石および／またはＡｌＮおよび／またはＡｌＴｉおよび／またはＳｉＣおよび／またはＳｉＯ２および／またはＭｇＯおよび／またはポーセレンから形成される請求項１ないし７のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項９】
支持要素（２６）が少なくとも２個の支持要素（２６）からなる複数配列として歯科用窯（１０）の底床（１６）上に分散して配置される請求項１ないし８のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１０】
少なくとも１個の支持要素（２６）が丸型の形状を有するかまたは円形とは相違した外形を有する請求項１ないし９のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１１】
少なくとも２個の支持要素（２６）が嵌め合わせ方式で相互に結合する請求項１ないし１０のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１２】
受容部が互いに隣接する支持要素の少なくとも２枚の上下に重ねて配置された層を含む請求項１ないし１１のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１３】
各支持要素（２６）はそれぞれ異なった高さを有するがそれらが上下に重ねて配置された複数の層からなる場合少なくともその最上の層において同平面上で終止する請求項１ないし１２のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１４】
歯科用窯の基底と受容部の間に高い熱伝導性を有する少なくとも１枚の一体型の板部材が配置され、前記板部材がＳｉＣによって形成される請求項１ないし１３のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれかに記載の特徴を有してなる歯科用窯（１０）用の支持要素。
【請求項１】
底床と歯科補綴材のための少なくとも１個の受容部を有する焼成室を備えてなる歯科用窯であり、前記受容部が特に同じ厚みを有する複数の支持要素（２６）を含んでなり、前記支持要素（２６）のうちの少なくとも幾つかが歯科補綴材（４０）に対して共通の支承面を形成してなる歯科用窯。
【請求項２】
各支持要素（２６）が実質的に平坦な表面を有することを特徴とする請求項１記載の歯科用窯。
【請求項３】
支持要素（２６）の表面の少なくとも一部が複数点、複数線、あるいは複数領域形式の支承面を形成するための構造を有する請求項１または２記載の歯科用窯。
【請求項４】
各支持要素（２６）が上方から見て等しい幾何学的形状を有し、特にそれらが互いに嵌合する請求項１ないし３のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項５】
各支持要素（２６）がそれ自体の高さの２倍超の幅および／または長さ、特にそれ自体の高さの約５倍の幅および／または長さを有する請求項１ないし４のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項６】
各支持要素（２６）が密接した集合体として歯科用窯（１０）の焼成室（１２）の底床（１６）上に配置され、その際必要に応じてスリットおよび／または間隙を残留させ、特に焼成室（１２）の壁部に対して縁部間隙を残留させるようにして配置される請求項１ないし５のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項７】
互いに隣接する支持要素（２６）が少なくとも部分的に相互に接触し、その際外側の各支持要素（２６）が歯科用窯（１０）の焼成室（１２）の壁部に対して間隙（３０）あるいは縁部余白を有するように配置され、前記間隙あるいは縁部余白が室温から最大１８００℃まで加熱した際の各支持要素（２６）の合計膨張距離と室温から最大１８００℃まで加熱した際の焼成室（１２）の底床（１６）の膨張距離あるいは変位との間の差に少なくとも相当する請求項１ないし６のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項８】
支持要素（２６）が板形状に形成されるとともに、特に少なくとも部分的にＡｌ２Ｏ３および／またはＳｉＮｉおよび／またはムライトおよび／またはキン青石および／またはＡｌＮおよび／またはＡｌＴｉおよび／またはＳｉＣおよび／またはＳｉＯ２および／またはＭｇＯおよび／またはポーセレンから形成される請求項１ないし７のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項９】
支持要素（２６）が少なくとも２個の支持要素（２６）からなる複数配列として歯科用窯（１０）の底床（１６）上に分散して配置される請求項１ないし８のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１０】
少なくとも１個の支持要素（２６）が丸型の形状を有するかまたは円形とは相違した外形を有する請求項１ないし９のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１１】
少なくとも２個の支持要素（２６）が嵌め合わせ方式で相互に結合する請求項１ないし１０のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１２】
受容部が互いに隣接する支持要素の少なくとも２枚の上下に重ねて配置された層を含む請求項１ないし１１のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１３】
各支持要素（２６）はそれぞれ異なった高さを有するがそれらが上下に重ねて配置された複数の層からなる場合少なくともその最上の層において同平面上で終止する請求項１ないし１２のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１４】
歯科用窯の基底と受容部の間に高い熱伝導性を有する少なくとも１枚の一体型の板部材が配置され、前記板部材がＳｉＣによって形成される請求項１ないし１３のいずれかに記載の歯科用窯。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれかに記載の特徴を有してなる歯科用窯（１０）用の支持要素。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１１−２３５０９８（Ｐ２０１１−２３５０９８Ａ）
【公開日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１０２５８８（Ｐ２０１１−１０２５８８）
【出願日】平成２３年４月２９日（２０１１．４．２９）
【出願人】（５９６０３２８７８）イボクラール ビバデント アクチェンゲゼルシャフト (63)
【公開日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月２９日（２０１１．４．２９）
【出願人】（５９６０３２８７８）イボクラール ビバデント アクチェンゲゼルシャフト (63)
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