説明

混合ガスハイドレート製造方法

【課題】原料混合ガスの組成と、製造された混合ガスハイドレートにおけるガス組成とをできるだけ速やかに同一にする混合ガスハイドレートの製造方法を提供する。
【解決手段】混合ガスgと水wとを反応させてスラリー状のガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、ガスハイドレートスラリーsから水wを除去する脱水工程と、水を除去した後のガスハイドレートをペレット状に加工するペレット成型工程と、ガスハイドレートペレットpを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程とを有する混合ガスハイドレート製造方法である。前記ガスハイドレート生成工程に供給する混合ガスgを、該混合ガスgの主成分を構成している希釈用のガスmによって稀釈する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、混合ガスのハイドレートを製造する混合ガスハイドレート製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
天然ガスは、混合ガスの一種であり、その主成分は、メタンである。天然ガスの組成は、例えば、メタン86.73%、エタン8.86%、プロパン3.47%、i−ブタン0.41%、n−ブタン0.52%、窒素0.01%である。
【0003】
ガスハイドレートの生成条件は、ガスの種類によって異なり、一般に、大きい分子ほどハイドレート平衡条件が低圧、高温側となるので、ガスハイドレートになり易い傾向がある。従って、小さい分子のメタンよりも大きい分子のエタンやプロパンの方がガスハイドレートになり易い。このため、天然ガスの場合、エタンやプロパンなどの重質成分から先にガスハイドレートになり、メタンは、気相中に多く残る傾向になる。
【0004】
従来は、ガスハイドレート生成部において、ガスハイドレート生成系内の未反応ガスの一部を系外に導出した後、系内に戻して循環させることにより、ガスハイドレートの生成効率を高めるようにしているが、それには限りがある。
【0005】
即ち、ガスハイドレート生成部で生成したガスハイドレートを冷却部に送って氷点下に冷却して凍結し、その凍結したガスハイドレートを減圧部で貯蔵圧力まで減圧して貯蔵部に送る際に、ガスハイドレート生成部から冷却部にガスハイドレートに随伴して送られたメタンリッチの未反応ガスが、更に、貯蔵圧力まで減圧される過程でガスハイドレートに随伴されて貯蔵部まで送られる。従来、大気圧近くの貯蔵圧力に減圧されたメタンリッチの未反応ガスは、系外で燃料として利用するか、あるいは、ロスをなくすために原料系へリサイクルしていた。
【0006】
また、ガスハイドレートには、自己保存性があるとは言え、減圧部による減圧で、一旦生成したガスハイドレートが一部分解する場合もある。その分解により発生したガス成分も前記貯蔵部に至り、同様に、取り扱われていた。
【0007】
その結果、このような従来の製造方法では、原料である天然ガスの一部がメタンリッチなガスとなり、別途取り扱い方法が必要となることや、原料天然ガスの組成と、製造された天然ガスハイドレートにおけるガス組成とが異なってしまうと言う問題があった。
【0008】
ガス組成が異なると、熱量や燃焼速度も異なるため、ハイドレートをガス化して得られたガス組成が原料ガスの組成と同等になるように調整する必要が生じ、コスト高の原因となる。
【0009】
そこで、原料天然ガスの組成と、製造された天然ガスハイドレートにおけるガス組成とを同一にするため、従来、天然ガスと水とをハイドレート生成領域内となる低温及び高圧の下で反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、生成したガスハイドレートを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程とを有する天然ガスハイドレートの製造方法において、前記減圧工程後に存在するガス成分を昇圧して前記ガスハイドレート生成工程に戻すようにした天然ガスハイドレートの製造方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
【0010】
しかしながら、この特許文献1に記載された発明は、上記のように、従来、系外に放出されていたメタンリッチの未反応ガスをガスハイドレート生成工程に戻すようにしている昇圧設備が余分に必要になるので、メタンリッチな未反応ガスが無駄になることがないが、原料天然ガスの組成と、製造された天然ガスハイドレートにおけるガス組成とが同じになるまでに多くの時間(例えば、2〜24時間)を要することになる。
【0011】
また、この特許文献1に記載された発明は、第1生成器の下方に第2生成器を設けているため、昇圧用の設備費が余分にかかる。また、建屋の高さが高くなるなどの問題もある。
【特許文献1】特開2005−320454号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0012】
本発明は、このような問題を解消するためになされたものであり、その目的とするところは、原料混合ガスの組成と、製造された混合ガスハイドレートにおけるガス組成とをできるだけ速やかに同一にすることができる混合ガスハイドレート製造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、従来の昇圧設備等の付帯設備を減らして設備費が高くなるのを抑制することができる混合ガスハイドレート製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0013】
請求項1に係る本発明の混合ガスハイドレート製造方法は、混合ガスと水とを反応させてスラリー状のガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、スラリー状のガスハイドレートから水を除去する脱水工程と、水を除去した後のガスハイドレートをペレット状に加工するペレット成型工程と、ペレット状のガスハイドレートを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程とを有する混合ガスハイドレート製造方法において、前記ガスハイドレート生成工程に供給する混合ガスを、該混合ガスの主成分を構成している希釈用のガスによって希釈し、この希釈混合ガスによって混合ガスハイドレートを製造することを特徴とする。
【0014】
請求項2に係る本発明の混合ガスハイドレート製造方法は、混合ガスと水とを反応させてスラリー状のガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、スラリー状のガスハイドレートから水を除去する脱水工程と、水を除去した後のガスハイドレートをペレット状に加工するペレット成型工程と、ペレット状のガスハイドレートを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程とを有する混合ガスハイドレート製造方法において、前記混合ガスの主成分を構成している希釈用のガスを、予め、前記ガスハイドレート生成工程と、前記脱水工程と、前記ペレット成型工程と、前記凍結工程内に充填することを特徴とする。
【0015】
請求項3に係る本発明の混合ガスハイドレート製造方法は、請求項1又は2記載において、ガスハイドレートの生成開始後、0〜6時間して希釈用のガスの供給を停止することを特徴とする。
【発明の効果】
【0016】
請求項1に係る本発明は、上記のように、混合ガスと水とを反応させてスラリー状のガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、スラリー状のガスハイドレートから水を除去する脱水工程と、水を除去した後のガスハイドレートをペレット状に加工するペレット成型工程と、ペレット状のガスハイドレートを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程とを有する混合ガスハイドレート製造方法において、前記ガスハイドレート生成工程に供給する混合ガスを、該混合ガスの主成分を構成している希釈用のガスによって希釈し、この希釈混合ガスによって混合ガスハイドレートを製造するので、原料混合ガスの組成と、製造された混合ガスハイドレートにおけるガス組成とが同一になる日時を大幅に短縮させることが可能になった。また、本発明によれば、ハイドレート生成器が一つで足りるので、その分、建屋の高さを抑制することができる。
【0017】
請求項2に係る本発明は、上記のように、混合ガスと水とを反応させてスラリー状のガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、スラリー状のガスハイドレートから水を除去する脱水工程と、水を除去した後のガスハイドレートをペレット状に加工するペレット成型工程と、ペレット状のガスハイドレートを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程とを有する混合ガスハイドレート製造方法において、前記混合ガスの主成分を構成している希釈用のガスを、予め、前記ガスハイドレート生成工程と、前記脱水工程と、前記ペレット成型工程と、前記凍結工程内に充填するので、請求項1に係る発明に比べて希釈用のガスの制御が容易になる。また、原料混合ガスの組成と、製造された混合ガスハイドレートにおけるガス組成とが同一になる日時を従来よりも大幅に短縮させることが可能になった。また、本発明によれば、ハイドレート生成器が一つで足りるので、その分、建屋の高さを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0018】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。
【0019】
(a)第1実施形態
本発明に係る混合ガスハイドレート製造方法を実施するための混合ガスハイドレート製造設備の第1実施形態について説明し、その後に第2実施形態について説明する。
【0020】
混合ガスハイドレート製造設備は、図1に示すように、主として、ガスハイドレート生成器1と、脱水塔2と、高圧ペレタイザ3と、ペレット冷却器4と、ペレット貯槽5により構成されている。
【0021】
ガスハイドレート生成器1は、容器11内に攪拌機12とガス噴出ノズル13とを備えている。また、容器11は、その頂部11aに混合ガス供給管6及び原料水供給管7を備えると共に、混合ガス供給管6に希釈ガス供給管8を接続させている。そして、混合ガス供給管6に設けた流量調整弁9と希釈ガス供給管8に設けた流量調整弁10とを制御装置15によって制御して混合ガス(例えば、天然ガス)gを、混合ガス(天然ガス)gの主成分を構成しているガス(例えば、メタン)mによって希釈するようになっている。
【0022】
また、制御装置15は、原料水供給管7に設けたバルブ16をON−OFF制御するようになっている。また、混合ガス供給管6及び希釈ガス供給管8は、ガス流量計17,18を備え、制御装置15に混合ガスおよび希釈用のガスの流量を入力するようになっている。また、希釈ガス供給管8に設けた流量調整弁10は、ハイドレート生成開始から所定の時間(例えば、0〜6時間)経過した後、自動的に閉止するようになっている。
【0023】
希釈ガスによる希釈割合は、混合ガスの組成によって異なるが、例えば、21〜32%程度、更には、23〜30%程度が望ましい。混合ガスの組成に応じた希釈割合は、理論計算によって求めることができる(例えば、ハイドレートの平衡計算プログラムCSMHYD(E.D.Sloan jr. Clathrate Hydrates of Natural Gases, Marcel Dekker, Inc, N.Y.(1998) 参照。)。
【0024】
脱水塔2は、筒状の縦型の塔体21と、塔体21の外側に設けた中空状の排水部22と、排水部22に対向する塔体部分に設けたスクリーン23により構成されている。そして、塔体21の底部21aは、スラリーポンプ24を備えたスラリー供給管25によってガスハイドレート生成器の容器11の底部11bと連通している。また、スラリー供給管25から分岐したスラリー循環路26は、ガスハイドレート生成器の容器11の側面に接続している。このスラリー循環路26は、第2のスラリーポンプ27及び第2の冷却器28を備えており、スラリー循環路26内の天然ガスハイドレートスラリーsを所定の温度に冷却するようになっている。また、脱水塔2の排水部22とスラリー循環路26は、排水管29によって連通している。
【0025】
また、ガスハイドレート生成器1は、容器11の頂部11aと容器11内のガス噴射ノズル13とに連通するガス循環路30を備えており、容器11の上部に溜まった未反応ガスg”をブロワ31によってガス噴射ノズル13に供給するようになっている。その際、未反応ガスg”を冷却器32によって所定の温度に冷却するようになっている。
【0026】
高圧ペレタイザ3としては、例えば、ブリケッティングロールを用いた高圧ペレタイザを用いて所定の形状(例えば、レンズ型、アーモンド型、ピロー型など)のペレットpを形成するようになっている。
【0027】
ペレット冷却器4は、中空状の容器41からなり、その外側に設けた冷却ジャケット42によって容器41内のペレットpを所定の温度(例えば、−15℃〜−30℃程度)に冷却するようになっている。ペレット冷却器4とペレット貯槽5とを連通するダクト43の途中に脱圧装置60がある。この脱圧装置60は、筒状容器61と、筒状容器上部のバルブ62と、筒状容器下部のバルブ63により構成されている。
【0028】
ペレット貯槽5は、第2のブロワ51を備えた未反応ガス戻し管52を介して混合ガス供給管6に接続している。また、高圧ペレタイザ3とペレット冷却器4とは、ペレット払い出しダクト34によって接続されている。また、脱水塔2と高圧ペレタイザ3とは、ハイドレート供給ダクト36によって接続されている。
【0029】
次に、混合ガスハイドレート製造設備の作動状況について説明する。
【0030】
ガスハイドレート生成器1の容器11内に、予め、供給されていた原料水(以下、水と称する。)wを攪拌機12によって攪拌しながら混合ガス供給管6から所定圧(例えば、5MPa程度)の天然ガス(混合ガス)gを供給し、更に、希釈ガス供給管8から所定圧(例えば、5MPa程度)の天然ガスgの主成分であるメタン(希釈用ガス)mを供給する。その際、制御装置15によって双方の流量調整弁9及び10を調整し、メタンmによって天然ガスgを所定の濃度(例えば、3〜30%程度)に希釈する。
【0031】
ガスハイドレート生成器1内の未反応ガスg”は、ブロワ31によってガス噴射ノズル13に供給され、微細な気泡となって水w内に噴射される。そして、未反応ガスg”と容器11内の水wとが水和反応して天然ガスハイドレートとなる。その際、第2のスラリーポンプ27及び第2冷却器28を運転して循環中の天然ガスハイドレートスラリーsを所定の温度(例えば、3℃程度)に冷却する。
【0032】
ガスハイドレート生成器1の容器11内の天然ガスハイドレートスラリーsは、スラリーポンプ24によって脱水塔2の底部21aに供給される。脱水塔2に供給された天然ガスハイドレートスラリーsは、塔体21に沿って上昇する間にスクリーン23から水wが除去される。そして、余分な水が除去されて含水率が30〜50wt%程度になった天然ガスハイドレートhは、脱水塔2の頂部21bから高圧ペレタイザ3に供給されてペレットpに成型加工される。
【0033】
ペレットpは、ペレット冷却器4に供給され、所定の温度(例えば、−15℃〜−30℃程度)に冷却される。ペレット冷却器4によって冷却されたペレットpは、脱圧装置60によって貯蔵圧力(例えば、大気圧)まで脱圧されてペレット貯槽5に供給され、当該ペレット貯槽5に貯蔵される。ペレット貯槽5内の未反応ガスは、未反応ガス戻し管52を経て混合ガス供給管6に戻される。
【0034】
ハイドレート生成開始から所定の時間(例えば、0〜6時間)が経過すると、希釈ガス供給管8の流量調整弁10が自動的に閉止されるので、ペレット貯槽5を新しいものと交換し、生成開始直後のペレットを廃棄又はガス化して再使用する。
【0035】
(b)第2実施形態
次に、本発明に係る混合ガスハイドレート製造設備の第2実施形態について説明するが、第1実施形態における機器と同じ機器に同じ番号を付けて詳しい説明については省略する。
【0036】
第1実施形態と第2実施形態との相違点は、ガスハイドレート生成器1と、脱水塔2と、高圧ペレタイザ3と、ペレット冷却器4に希釈用のガスmを供給するようにした点である。図2に示すように、希釈ガス供給管8から分岐した第1分岐管8aは、脱水塔2の頂部21bと、高圧ペレタイザ3と、ペレット冷却器4に接続している。
【0037】
以上の説明では、混合ガスとして、天然ガスを適用した場合について説明したが、これに限らず、例えば、二酸化炭素や水素などの混合ガスにも適用することができる。
【実施例】
【0038】
(比較実施例)
生成工程において、ガスハイドレート生成器内の気相組成が定常状態に至るまでの速度について検討を行なった。
【0039】
具体的には、生成器内の気相に、ある初期組成を設定後、ガスハイドレートの生成を開始し気相の経時変化を調べた。
初期濃度としては、
(I)原料ガスと同組成(従来のスタート方法)、
(II)原料ガスをメタンで26.3%の濃度に希釈、すなわち、原料ガスとメタンを
1:2.8の割合で混合(本発明に係る希釈スタート方法)
の2ケースを設定した。
【0040】
両ケースの初期気相組成を「表1」に示す。
【0041】
一方、この時の生成器の容積は、22.8L、水量を10Lである。
【0042】
比較検討結果を図3、及び図4に示す。図3は、エタン、及びプロパンの濃度変化、図4は、i−ブタン、n−ブタン、及び窒素の濃度変化であり、それぞれ上記の初期濃度(I)を破線で、(II)を実線で示す。
【0043】
この結果、従来のスタート方法である(I)の場合、例えば、エタンでは、生成開始から6時間程度経過して、やっと定常状態に至っているのに対し、本発明に係る希釈スタート方法である(II)では、約3時間と早い段階で定常状態に至っていることが判る。
【0044】
【表1】

【図面の簡単な説明】
【0045】
【図1】本発明に係る混合ガスハイドレート製造方法を実施する第1の製造設備の概略構成図である。
【図2】本発明に係る混合ガスハイドレート製造方法を実施する第2の製造設備の概略構成図である。
【図3】(a)はエタンの経時変化、(b)はプロパンの経時変化を示す図である。
【図4】(a)はi−ブタンの経時変化、(b)はn−ブタンの経時変化、(c)は窒素の経時変化を示す図である。
【符号の説明】
【0046】
g 混合ガス
m 希釈用のガス
p ガスハイドレートペレット
s ガスハイドレートスラリー
w 水

【特許請求の範囲】
【請求項1】
混合ガスと水とを反応させてスラリー状のガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、スラリー状のガスハイドレートから水を除去する脱水工程と、水を除去した後のガスハイドレートをペレット状に加工するペレット成型工程と、ペレット状のガスハイドレートを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程とを有する混合ガスハイドレート製造方法において、前記ガスハイドレート生成工程に供給する混合ガスを、該混合ガスの主成分を構成している希釈用のガスによって希釈し、この希釈混合ガスによって混合ガスハイドレートを製造することを特徴とする混合ガスハイドレート製造方法。
【請求項2】
混合ガスと水とを反応させてスラリー状のガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、スラリー状のガスハイドレートから水を除去する脱水工程と、水を除去した後のガスハイドレートをペレット状に加工するペレット成型工程と、ペレット状のガスハイドレートを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程とを有する混合ガスハイドレート製造方法において、前記混合ガスの主成分を構成している希釈用のガスを、予め、前記ガスハイドレート生成工程と、前記脱水工程と、前記ペレット成型工程と、前記凍結工程内に充填することを特徴とする混合ガスハイドレート製造方法。
【請求項3】
ガスハイドレートの生成開始後、0〜6時間して希釈用のガスの供給を停止することを特徴とする請求項1又は2記載の混合ガスハイドレート製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2008−248190(P2008−248190A)
【公開日】平成20年10月16日(2008.10.16)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−93948(P2007−93948)
【出願日】平成19年3月30日(2007.3.30)
【出願人】(000005902)三井造船株式会社 (1,723)
【Fターム(参考)】