潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法
【課題】潤滑剤を交換しなくても潤滑剤の平滑性を保つことができる潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法を提供する。
【解決手段】本件開示の方法は、準備過程と潤滑剤塗布過程と追加過程とを有する。
上記準備過程は、複数の被塗布物を一度にあるいは順次に準備する過程である。
上記潤滑剤塗布過程は、上記複数の被塗布物を、順次に、潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることでそれら複数の被塗布物それぞれの被塗布面に潤滑剤を塗布する過程である。
上記追加過程は、上記潤滑剤塗布過程中で上記複数の被塗布物のうちの途中の被塗布物まで潤滑剤が塗布された時点で、上記貯槽中に潤滑剤を追加する過程である。この追加過程で追加される潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその主鎖部が上記貯槽中の潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤である。
【解決手段】本件開示の方法は、準備過程と潤滑剤塗布過程と追加過程とを有する。
上記準備過程は、複数の被塗布物を一度にあるいは順次に準備する過程である。
上記潤滑剤塗布過程は、上記複数の被塗布物を、順次に、潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることでそれら複数の被塗布物それぞれの被塗布面に潤滑剤を塗布する過程である。
上記追加過程は、上記潤滑剤塗布過程中で上記複数の被塗布物のうちの途中の被塗布物まで潤滑剤が塗布された時点で、上記貯槽中に潤滑剤を追加する過程である。この追加過程で追加される潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその主鎖部が上記貯槽中の潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件開示は、潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に記憶媒体として組み込まれる磁気ディスクの表面には、浮上ヘッドが表面に接触してしまった場合に表面を保護するために潤滑剤が膜状に塗布されている。この潤滑剤は、潤滑剤が貯められた貯槽中に磁気ディスクを浸して引き上げることによって塗布されている。この潤滑剤の膜が十分に平滑であると、浮上ヘッドの浮上量に許される変動範囲、すなわち浮上性マージンが大きい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２１９２６６号公報
【特許文献２】特開２００６−３４３５９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、貯槽中の潤滑剤に浸す塗布方法で多数の磁気ディスクに順次に潤滑剤が塗布されると、貯槽中に多量の潤滑剤が残っていても、徐々に膜の平滑性が悪化する。このような悪化がある程度以上に進むと浮上性マージンが不足してしまう。
【０００５】
このような浮上性マージンの不足に至る前に貯槽中の潤滑剤を新しい潤滑剤に交換すると潤滑剤の平滑性を保つことができるが、潤滑剤の交換には多くの手間と多くの費用を要する。このため、このような交換を避けて潤滑剤の平滑性を保つことができる塗布方法が望まれている。
【０００６】
なお、このような事情は、磁気ディスクに限らず、貯槽中の潤滑剤を用いて複数の被塗布物に順次に潤滑剤を塗布する場合に一般的に生じる事情である。
【０００７】
上記事情に鑑み、本件開示は、潤滑剤を交換しなくても潤滑剤の平滑性を保つことができる潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成する潤滑剤塗布方法の基本形態は、準備過程と潤滑剤塗布過程と追加過程とを有する。
【０００９】
上記準備過程は、潤滑剤が塗布される平面状の被塗布面を各々が有する複数の被塗布物を一度にあるいは順次に準備する過程である。
【００１０】
上記潤滑剤塗布過程は、上記複数の被塗布物を、順次に、潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることでそれら複数の被塗布物それぞれの被塗布面に潤滑剤を塗布する過程である。また、上記貯槽中の潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその末端部が上記被塗布面に結合するものである。
【００１１】
上記追加過程は、上記潤滑剤塗布過程中で上記複数の被塗布物のうちの途中の被塗布物まで潤滑剤が塗布された時点で、上記貯槽中に潤滑剤を追加する過程である。この追加過程で追加される潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその主鎖部が上記貯槽中の潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤である。
【００１２】
また、上記目的を達成する記憶媒体製造方法の基本形態は、基板準備過程と積層過程と潤滑剤塗布過程と追加過程とを有する。
【００１３】
上記基板準備過程は、複数の基板を準備する過程である。
【００１４】
上記積層過程は、上記基板上に、情報を記憶する記憶層を含む１つ以上の層を積層して積層体を形成する過程である。
【００１５】
上記潤滑剤塗布過程は、上記積層体が形成された複数の基板を、順次に、潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることで積層体の表面に潤滑剤を塗布する過程である。また、上記貯槽中の潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその末端部が積層体の表面に結合するものである。
【００１６】
上記追加過程は、上記潤滑剤塗布過程中で上記複数の基板のうちの途中の基板まで潤滑剤が塗布された時点で、上記貯槽中に、潤滑剤を追加する過程である。この追加過程で追加される潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその主鎖部が上記貯槽中の潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤である。
【発明の効果】
【００１７】
潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法の上記基本形態によれば、潤滑剤を交換しなくても、上記タイプの潤滑剤の追加で潤滑剤の平滑性を保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】上述した基本形態に対する具体的な一実施形態を表す工程図である。
【図２】試験結果の例を示す図である。
【図３】潤滑剤の化学構造を示す図である。
【図４】Ｂｉｓ体の濃度変化に対する浮上性マージンの変化を表す図である。
【図５】潤滑剤の別の例を示す図である。
【図６】潤滑剤の更に別の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
基本形態について上記説明した潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法に対する具体的な実施形態を、以下図面を参照して説明する。
【００２０】
図１は、上述した基本形態に対する具体的な一実施形態を表す工程図である。
【００２１】
この図１には、４つの工程からなる記憶媒体製造方法が示されている。この図１に示す記憶媒体製造方法では、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に記憶媒体として組み込まれる磁気ディスクが製造される。
【００２２】
この記憶媒体製造方法では、まずテクスチャ工程Ｓ１０１で基板の表面を、磁気ディスクの種類に応じた適切な物理構造（テクスチャ）に加工する。この加工としては、例えば全面に亘って平面状に研磨したり、サーボピット用の穴を加工したりする。
【００２３】
次にスパッタ工程Ｓ１０２で、基板をスパッタ装置内に入れて基板表面に磁性材料などの膜を形成する。
【００２４】
これらテクスチャ工程Ｓ１０１およびスパッタ工程Ｓ１０２を経ることで、磁気ディスクにおける記憶媒体としての構造が完成する。つまりこれらテクスチャ工程Ｓ１０１およびスパッタ工程Ｓ１０２を経たものは磁気ディスクと呼べる。テクスチャ工程Ｓ１０１が、上述した基本形態における基板準備過程の一例に相当する。また、スパッタ工程Ｓ１０２が、上述した基本形態における積層過程の一例に相当する。そして、これらテクスチャ工程Ｓ１０１およびスパッタ工程Ｓ１０２を合わせたものが、上述した基本形態における準備過程の一例に相当する。
【００２５】
本実施形態の記憶媒体製造方法では、その後、潤滑剤塗布工程Ｓ１０３で磁気ディスクの表面に潤滑剤を塗布する。この潤滑剤塗布工程Ｓ１０３では潤滑剤塗布装置１０によって磁気ディスク２０を、貯槽３０中に貯められた潤滑剤４０に浸し、その後引き上げる。これにより、磁気ディスク２０の表面には潤滑剤の膜が形成される。この潤滑剤塗布工程Ｓ１０３が、上述した基本形態における潤滑剤塗布過程の一例に相当する。
【００２６】
潤滑剤塗布工程Ｓ１０３の後には、試験工程Ｓ１０４で、浮上ヘッドの浮上性マージンを試験する。この試験工程Ｓ１０４では、試験装置５０が搬送アーム６０で磁気ディスク２０をモータ７０上に載せ、そのモータ７０で磁気ディスク２０を回転させる。試験装置５０は、試験用の浮上ヘッド８０をヘッドアーム９０で保持することでその浮上ヘッド８０を、回転する磁気ディスク２０の表面上に浮上させる。このヘッドアーム９０には、浮上ヘッド８０の近傍に振動センサが取り付けられている。試験装置５０は、この振動センサの出力を確認することで浮上ヘッドの浮上性マージンを確認する。ここで、試験結果の例について説明する。
【００２７】
図２は、試験結果の例を示す図である。
【００２８】
この図２には、試験結果の２つの例がグラフで示されている。これらのグラフの横軸は、磁気ディスク上での浮上ヘッドの位置を磁気ディスクの中心からの距離で表している。の距離は、磁気ディスク表面に対して相対的に回転移動する浮上ヘッドの回転半径に相当する。また、図２に示すグラフの縦軸は、振動センサの出力を表している。
【００２９】
振動センサの出力が大きいほど浮上ヘッドが大きく揺らいでいることを意味する。即ち、振動センサの出力が大きいほど浮上性マージンが減少していることになる。また、浮上ヘッドの揺らぎは、潤滑剤の膜における平滑性の悪化に起因している。つまり、平滑性が悪化すると、磁気ディスク表面に沿った空気の流れが乱れたり浮上ヘッドに潤滑剤が付着したりするので浮上ヘッドが揺らぐ。
【００３０】
図２のパート（Ａ）に示すグラフは、潤滑剤の平滑性が悪化したときの試験結果を示している。振動センサの出力値は約２００ｍＶという大きい出力値となっている。また、振動センサの出力値自体のぶれも大きい。
【００３１】
これに対して図２のパート（Ｂ）に示すグラフは、潤滑剤の平滑性が高いときの試験結果を示している。振動センサの出力値は数十ｍＶという小さな出力値となっている。また、振動センサの出力値自体のぶれも小さい。このような出力値は、振動センサのホワイトノイズレベルである。
【００３２】
ここに例示したような試験結果が図１の試験工程Ｓ１０４で得られると、潤滑剤塗布工程Ｓ１０３における潤滑剤の塗布状態の良否が、浮上性マージンの大きさとして確認できることとなる。
【００３３】
ところで、図１に示す記憶媒体製造方法では、ロットと称される単位の複数の磁気ディスクが次々に各工程を経て製造される。そして、ロット中の始めの方の磁気ディスクでは浮上性マージンが大きいが、製造を続けると、貯槽中に多量の潤滑剤が残っているにもかかわらず浮上性マージンが徐々に減少してしまう。ある程度の浮上性マージンが確保できていれば磁気ディスクの性能としては合格であるが、浮上性マージンが確保できなくなると磁気ディスクの製造不良となってしまうので、ある程度の浮上性マージンが確保できているうちに対策を取る必要がある。
【００３４】
単純な対策としては、磁気ディスクの製造を中断しておいて、潤滑剤塗布装置１０の貯槽３０中に貯められた潤滑剤４０を新しい潤滑剤に入れ替えることが考えられる。しかし、交換のために長時間の製造中断を伴うし、多量に残った潤滑剤を交換するので交換費用も高額となる。
【００３５】
そこで、本実施形態の記憶媒体製造方法では、試験工程Ｓ１０４で潤滑剤の塗布状態が確認された後で追加工程Ｓ１０５を行う。そして、ある程度の浮上性マージンが確保できているうちに、必要に応じて貯槽３０中に潤滑剤を追加する。この追加工程Ｓ１０５が、上述した基本形態における追加過程の一例に相当する。この追加工程Ｓ１０５で追加される潤滑剤は、以下で説明するＢｉｓ体である。
【００３６】
図３は、潤滑剤の化学構造を示す図である。
【００３７】
この図３には、潤滑剤の一例としてＴＥＴＲＡＯＬ潤滑剤が示されている。このＴＥＴＲＡＯＬ潤滑剤は、パーフルオロポリエーテルの主鎖部４１を有している。ここで、図中の添え字ｐ、ｑは重合度を表している。
【００３８】
図３のパート（Ａ）にはＴＥＴＲＡ末端４２を主鎖部４１の両端に備えたタイプが示されている。また、図３のパート（Ｂ）には、末端部の一方がＴＥＴＲＡ末端４２に対するＢｉｓ末端４３となったＢｉｓ体が示されている。Ｂｉｓ体とは、このように末端部の少なくとも一方がＢｉｓ末端となったもののことである。
【００３９】
ＴＥＴＲＡ末端４２が２つの水酸基を有しているのに対してＢｉｓ末端４３は３つの水酸基を有している。水酸基は、潤滑剤が磁気ディスクの表面に結合するときの反応基であるため、Ｂｉｓ末端４３を有するＢｉｓ体は、両端がＴＥＴＲＡ末端４２であるものよりも磁気ディスクへの結合性が高い。図２のパート（Ａ）に示す例のような塗布状態の悪化は、貯槽３０中の潤滑剤４０のうち結合性が高いＢｉｓ体が先に消費されてＢｉｓ体が減少することで生じたためであると考えられる。
【００４０】
図３のパート（Ｂ）に示すようなＢｉｓ体を図１の追加工程Ｓ１０５で貯槽３０中に追加すると、図２のパート（Ａ）に示す例のように塗布状態が悪化している場合であっても、図２のパート（Ｂ）に示すような良好な塗布状態に改善できることが実験的に確認された。このようにＢｉｓ体を追加する方式によれば、貯槽３０中の潤滑剤４０を入れ替える方式に比べて、製造中断の時間の面でも費用の面でも約１５０分の１に抑えることができる。
【００４１】
上述したように、図１に示す記憶媒体製造方法では、試験工程Ｓ１０４で確認された潤滑剤の塗布状態に応じて追加工程Ｓ１０５で潤滑剤の追加を行う。このような確認と追加を経ることで浮上性マージンが確実に確保される。このことは、上記基本形態に対して更に試験過程を有する第１の応用形態が好適であることを意味する。
【００４２】
この試験過程は、上記潤滑剤塗布過程で上記被塗布面に塗布された潤滑剤の塗布状態の良否を、その潤滑剤塗布過程で上記複数の被塗布物に順次に潤滑剤が塗布されていくのと並行に、それら複数の被塗布物について順次に試験する過程である。
【００４３】
また、この第１の応用形態では、上記追加過程が、上記試験過程による試験の結果に応じて上記タイプの潤滑剤を追加する過程となっている。
【００４４】
図１に示す試験工程Ｓ１０４は、この第１の応用形態における試験過程の一例に相当する。また、追加工程Ｓ１０５は、この第１の応用形態における追加過程の一例にも相当している。
【００４５】
ここで、Ｂｉｓ体の適切な濃度について検討する。
【００４６】
図４は、Ｂｉｓ体の濃度変化に対する浮上性マージンの変化を表す図である。
【００４７】
この図４には、図２に示したグラフと同様なグラフが、０．０ｗｔ％から６１．２ｗｔ％までのＢｉｓ体の各濃度について示されている。各グラフの横軸および縦軸は図２に示したグラフの横軸および縦軸と同様であるので数値は省略した。
【００４８】
この図４に示すように、Ｂｉｓ体の濃度が０．０ｗｔ％であるときと６１．２ｗｔ％であるときについては浮上性マージンが不足するが、Ｂｉｓ体の濃度が１．０ｗｔ％から４４．３ｗｔ％までのいずれかの濃度であれば大きな浮上性マージンが確保される。
【００４９】
この図４に示すデータは、上記基本形態に対して上記追加過程が、上記貯槽中に溜められた潤滑剤中における上記タイプの潤滑剤の含有量を１．０％以上４４．３％以下に保つ過程となっている第２の応用形態が好適であることを意味する。
【００５０】
なお、図１に示す記憶媒体製造方法では、試験工程Ｓ１０４における塗布状態の確認に応じて追加工程Ｓ１０５で潤滑剤が追加されるが、上記基本形態における追加過程は、定期的に潤滑剤を追加する過程であってもよい。このように定期的に潤滑剤を追加する場合には、Ｂｉｓ体の濃度が、図４に示されているような適切な濃度範囲に収まるようにＢｉｓ体を追加する。また、上記基本形態に対する応用形態としては、潤滑剤中のＢｉｓ体の濃度を測定しながら適宜にＢｉｓ体を追加することでＢｉｓ体の濃度を適切な濃度範囲に維持する形態も考えられる。
【００５１】
以下、図３に例示した潤滑剤に替えて使用可能な別の潤滑剤の例について説明する。
【００５２】
図５は、潤滑剤の別の例を示す図である。図６は、潤滑剤の更に別の例を示す図である。
【００５３】
図５には、主鎖部４４も末端部４５，４６も図３の例とは異なる潤滑剤が示されている。ここで、図中の添え字ｐ、ｑは重合度を表している。図５のパート（Ａ）には、両方の末端部がＴＥＴＲＡ末端４５となっているタイプが示されている。また、図５のパート（Ｂ）には、一方の末端部がＴＥＴＲＡ末端４５で他方の末端部がＢｉｓ末端４６となっているＢｉｓ体が示されている。
【００５４】
図６には、主鎖部４４が図５の例と同様で末端部４７，４８が異なる潤滑剤が示されている。ここで、図中の添え字ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓは重合度を表している。図６のパート（Ａ）には、両方の末端部４７がＢｉｓ末端でないタイプが示されている。また、図６のパート（Ｂ）には、両方の末端部がＢｉｓ末端４８となっているＢｉｓ体が示されている。この図６に示す例では末端部４７，４８にも重合構造が存在している。
【００５５】
これら図５，図６に例示した潤滑剤が使われる場合にも、Ｂｉｓ体の適宜な追加により浮上性マージンが確保される。
【００５６】
なお、具体的な実施形態に関する上記説明では、基本形態における被塗布物の一例として磁気ディスクが示されているが、基本形態における被塗布物は、他の種類の記憶媒体であってもよいし、あるいは記憶媒体以外のものであってもよい。他の種類の記憶媒体としては例えば、個体浸レンズ（ＳＩＬ）によって情報が光で読み書きされる媒体が考えられる。
【符号の説明】
【００５７】
１０ 潤滑剤塗布装置
２０ 磁気ディスク
３０ 貯槽
４０ 潤滑剤
４１，４４ 主鎖部
４３，４６，４８ Ｂｉｓ末端
５０ 試験装置
【技術分野】
【０００１】
本件開示は、潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に記憶媒体として組み込まれる磁気ディスクの表面には、浮上ヘッドが表面に接触してしまった場合に表面を保護するために潤滑剤が膜状に塗布されている。この潤滑剤は、潤滑剤が貯められた貯槽中に磁気ディスクを浸して引き上げることによって塗布されている。この潤滑剤の膜が十分に平滑であると、浮上ヘッドの浮上量に許される変動範囲、すなわち浮上性マージンが大きい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２１９２６６号公報
【特許文献２】特開２００６−３４３５９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、貯槽中の潤滑剤に浸す塗布方法で多数の磁気ディスクに順次に潤滑剤が塗布されると、貯槽中に多量の潤滑剤が残っていても、徐々に膜の平滑性が悪化する。このような悪化がある程度以上に進むと浮上性マージンが不足してしまう。
【０００５】
このような浮上性マージンの不足に至る前に貯槽中の潤滑剤を新しい潤滑剤に交換すると潤滑剤の平滑性を保つことができるが、潤滑剤の交換には多くの手間と多くの費用を要する。このため、このような交換を避けて潤滑剤の平滑性を保つことができる塗布方法が望まれている。
【０００６】
なお、このような事情は、磁気ディスクに限らず、貯槽中の潤滑剤を用いて複数の被塗布物に順次に潤滑剤を塗布する場合に一般的に生じる事情である。
【０００７】
上記事情に鑑み、本件開示は、潤滑剤を交換しなくても潤滑剤の平滑性を保つことができる潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成する潤滑剤塗布方法の基本形態は、準備過程と潤滑剤塗布過程と追加過程とを有する。
【０００９】
上記準備過程は、潤滑剤が塗布される平面状の被塗布面を各々が有する複数の被塗布物を一度にあるいは順次に準備する過程である。
【００１０】
上記潤滑剤塗布過程は、上記複数の被塗布物を、順次に、潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることでそれら複数の被塗布物それぞれの被塗布面に潤滑剤を塗布する過程である。また、上記貯槽中の潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその末端部が上記被塗布面に結合するものである。
【００１１】
上記追加過程は、上記潤滑剤塗布過程中で上記複数の被塗布物のうちの途中の被塗布物まで潤滑剤が塗布された時点で、上記貯槽中に潤滑剤を追加する過程である。この追加過程で追加される潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその主鎖部が上記貯槽中の潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤である。
【００１２】
また、上記目的を達成する記憶媒体製造方法の基本形態は、基板準備過程と積層過程と潤滑剤塗布過程と追加過程とを有する。
【００１３】
上記基板準備過程は、複数の基板を準備する過程である。
【００１４】
上記積層過程は、上記基板上に、情報を記憶する記憶層を含む１つ以上の層を積層して積層体を形成する過程である。
【００１５】
上記潤滑剤塗布過程は、上記積層体が形成された複数の基板を、順次に、潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることで積層体の表面に潤滑剤を塗布する過程である。また、上記貯槽中の潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその末端部が積層体の表面に結合するものである。
【００１６】
上記追加過程は、上記潤滑剤塗布過程中で上記複数の基板のうちの途中の基板まで潤滑剤が塗布された時点で、上記貯槽中に、潤滑剤を追加する過程である。この追加過程で追加される潤滑剤は、主鎖部と末端部とを有しその主鎖部が上記貯槽中の潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤である。
【発明の効果】
【００１７】
潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法の上記基本形態によれば、潤滑剤を交換しなくても、上記タイプの潤滑剤の追加で潤滑剤の平滑性を保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】上述した基本形態に対する具体的な一実施形態を表す工程図である。
【図２】試験結果の例を示す図である。
【図３】潤滑剤の化学構造を示す図である。
【図４】Ｂｉｓ体の濃度変化に対する浮上性マージンの変化を表す図である。
【図５】潤滑剤の別の例を示す図である。
【図６】潤滑剤の更に別の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
基本形態について上記説明した潤滑剤塗布方法および記憶媒体製造方法に対する具体的な実施形態を、以下図面を参照して説明する。
【００２０】
図１は、上述した基本形態に対する具体的な一実施形態を表す工程図である。
【００２１】
この図１には、４つの工程からなる記憶媒体製造方法が示されている。この図１に示す記憶媒体製造方法では、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に記憶媒体として組み込まれる磁気ディスクが製造される。
【００２２】
この記憶媒体製造方法では、まずテクスチャ工程Ｓ１０１で基板の表面を、磁気ディスクの種類に応じた適切な物理構造（テクスチャ）に加工する。この加工としては、例えば全面に亘って平面状に研磨したり、サーボピット用の穴を加工したりする。
【００２３】
次にスパッタ工程Ｓ１０２で、基板をスパッタ装置内に入れて基板表面に磁性材料などの膜を形成する。
【００２４】
これらテクスチャ工程Ｓ１０１およびスパッタ工程Ｓ１０２を経ることで、磁気ディスクにおける記憶媒体としての構造が完成する。つまりこれらテクスチャ工程Ｓ１０１およびスパッタ工程Ｓ１０２を経たものは磁気ディスクと呼べる。テクスチャ工程Ｓ１０１が、上述した基本形態における基板準備過程の一例に相当する。また、スパッタ工程Ｓ１０２が、上述した基本形態における積層過程の一例に相当する。そして、これらテクスチャ工程Ｓ１０１およびスパッタ工程Ｓ１０２を合わせたものが、上述した基本形態における準備過程の一例に相当する。
【００２５】
本実施形態の記憶媒体製造方法では、その後、潤滑剤塗布工程Ｓ１０３で磁気ディスクの表面に潤滑剤を塗布する。この潤滑剤塗布工程Ｓ１０３では潤滑剤塗布装置１０によって磁気ディスク２０を、貯槽３０中に貯められた潤滑剤４０に浸し、その後引き上げる。これにより、磁気ディスク２０の表面には潤滑剤の膜が形成される。この潤滑剤塗布工程Ｓ１０３が、上述した基本形態における潤滑剤塗布過程の一例に相当する。
【００２６】
潤滑剤塗布工程Ｓ１０３の後には、試験工程Ｓ１０４で、浮上ヘッドの浮上性マージンを試験する。この試験工程Ｓ１０４では、試験装置５０が搬送アーム６０で磁気ディスク２０をモータ７０上に載せ、そのモータ７０で磁気ディスク２０を回転させる。試験装置５０は、試験用の浮上ヘッド８０をヘッドアーム９０で保持することでその浮上ヘッド８０を、回転する磁気ディスク２０の表面上に浮上させる。このヘッドアーム９０には、浮上ヘッド８０の近傍に振動センサが取り付けられている。試験装置５０は、この振動センサの出力を確認することで浮上ヘッドの浮上性マージンを確認する。ここで、試験結果の例について説明する。
【００２７】
図２は、試験結果の例を示す図である。
【００２８】
この図２には、試験結果の２つの例がグラフで示されている。これらのグラフの横軸は、磁気ディスク上での浮上ヘッドの位置を磁気ディスクの中心からの距離で表している。の距離は、磁気ディスク表面に対して相対的に回転移動する浮上ヘッドの回転半径に相当する。また、図２に示すグラフの縦軸は、振動センサの出力を表している。
【００２９】
振動センサの出力が大きいほど浮上ヘッドが大きく揺らいでいることを意味する。即ち、振動センサの出力が大きいほど浮上性マージンが減少していることになる。また、浮上ヘッドの揺らぎは、潤滑剤の膜における平滑性の悪化に起因している。つまり、平滑性が悪化すると、磁気ディスク表面に沿った空気の流れが乱れたり浮上ヘッドに潤滑剤が付着したりするので浮上ヘッドが揺らぐ。
【００３０】
図２のパート（Ａ）に示すグラフは、潤滑剤の平滑性が悪化したときの試験結果を示している。振動センサの出力値は約２００ｍＶという大きい出力値となっている。また、振動センサの出力値自体のぶれも大きい。
【００３１】
これに対して図２のパート（Ｂ）に示すグラフは、潤滑剤の平滑性が高いときの試験結果を示している。振動センサの出力値は数十ｍＶという小さな出力値となっている。また、振動センサの出力値自体のぶれも小さい。このような出力値は、振動センサのホワイトノイズレベルである。
【００３２】
ここに例示したような試験結果が図１の試験工程Ｓ１０４で得られると、潤滑剤塗布工程Ｓ１０３における潤滑剤の塗布状態の良否が、浮上性マージンの大きさとして確認できることとなる。
【００３３】
ところで、図１に示す記憶媒体製造方法では、ロットと称される単位の複数の磁気ディスクが次々に各工程を経て製造される。そして、ロット中の始めの方の磁気ディスクでは浮上性マージンが大きいが、製造を続けると、貯槽中に多量の潤滑剤が残っているにもかかわらず浮上性マージンが徐々に減少してしまう。ある程度の浮上性マージンが確保できていれば磁気ディスクの性能としては合格であるが、浮上性マージンが確保できなくなると磁気ディスクの製造不良となってしまうので、ある程度の浮上性マージンが確保できているうちに対策を取る必要がある。
【００３４】
単純な対策としては、磁気ディスクの製造を中断しておいて、潤滑剤塗布装置１０の貯槽３０中に貯められた潤滑剤４０を新しい潤滑剤に入れ替えることが考えられる。しかし、交換のために長時間の製造中断を伴うし、多量に残った潤滑剤を交換するので交換費用も高額となる。
【００３５】
そこで、本実施形態の記憶媒体製造方法では、試験工程Ｓ１０４で潤滑剤の塗布状態が確認された後で追加工程Ｓ１０５を行う。そして、ある程度の浮上性マージンが確保できているうちに、必要に応じて貯槽３０中に潤滑剤を追加する。この追加工程Ｓ１０５が、上述した基本形態における追加過程の一例に相当する。この追加工程Ｓ１０５で追加される潤滑剤は、以下で説明するＢｉｓ体である。
【００３６】
図３は、潤滑剤の化学構造を示す図である。
【００３７】
この図３には、潤滑剤の一例としてＴＥＴＲＡＯＬ潤滑剤が示されている。このＴＥＴＲＡＯＬ潤滑剤は、パーフルオロポリエーテルの主鎖部４１を有している。ここで、図中の添え字ｐ、ｑは重合度を表している。
【００３８】
図３のパート（Ａ）にはＴＥＴＲＡ末端４２を主鎖部４１の両端に備えたタイプが示されている。また、図３のパート（Ｂ）には、末端部の一方がＴＥＴＲＡ末端４２に対するＢｉｓ末端４３となったＢｉｓ体が示されている。Ｂｉｓ体とは、このように末端部の少なくとも一方がＢｉｓ末端となったもののことである。
【００３９】
ＴＥＴＲＡ末端４２が２つの水酸基を有しているのに対してＢｉｓ末端４３は３つの水酸基を有している。水酸基は、潤滑剤が磁気ディスクの表面に結合するときの反応基であるため、Ｂｉｓ末端４３を有するＢｉｓ体は、両端がＴＥＴＲＡ末端４２であるものよりも磁気ディスクへの結合性が高い。図２のパート（Ａ）に示す例のような塗布状態の悪化は、貯槽３０中の潤滑剤４０のうち結合性が高いＢｉｓ体が先に消費されてＢｉｓ体が減少することで生じたためであると考えられる。
【００４０】
図３のパート（Ｂ）に示すようなＢｉｓ体を図１の追加工程Ｓ１０５で貯槽３０中に追加すると、図２のパート（Ａ）に示す例のように塗布状態が悪化している場合であっても、図２のパート（Ｂ）に示すような良好な塗布状態に改善できることが実験的に確認された。このようにＢｉｓ体を追加する方式によれば、貯槽３０中の潤滑剤４０を入れ替える方式に比べて、製造中断の時間の面でも費用の面でも約１５０分の１に抑えることができる。
【００４１】
上述したように、図１に示す記憶媒体製造方法では、試験工程Ｓ１０４で確認された潤滑剤の塗布状態に応じて追加工程Ｓ１０５で潤滑剤の追加を行う。このような確認と追加を経ることで浮上性マージンが確実に確保される。このことは、上記基本形態に対して更に試験過程を有する第１の応用形態が好適であることを意味する。
【００４２】
この試験過程は、上記潤滑剤塗布過程で上記被塗布面に塗布された潤滑剤の塗布状態の良否を、その潤滑剤塗布過程で上記複数の被塗布物に順次に潤滑剤が塗布されていくのと並行に、それら複数の被塗布物について順次に試験する過程である。
【００４３】
また、この第１の応用形態では、上記追加過程が、上記試験過程による試験の結果に応じて上記タイプの潤滑剤を追加する過程となっている。
【００４４】
図１に示す試験工程Ｓ１０４は、この第１の応用形態における試験過程の一例に相当する。また、追加工程Ｓ１０５は、この第１の応用形態における追加過程の一例にも相当している。
【００４５】
ここで、Ｂｉｓ体の適切な濃度について検討する。
【００４６】
図４は、Ｂｉｓ体の濃度変化に対する浮上性マージンの変化を表す図である。
【００４７】
この図４には、図２に示したグラフと同様なグラフが、０．０ｗｔ％から６１．２ｗｔ％までのＢｉｓ体の各濃度について示されている。各グラフの横軸および縦軸は図２に示したグラフの横軸および縦軸と同様であるので数値は省略した。
【００４８】
この図４に示すように、Ｂｉｓ体の濃度が０．０ｗｔ％であるときと６１．２ｗｔ％であるときについては浮上性マージンが不足するが、Ｂｉｓ体の濃度が１．０ｗｔ％から４４．３ｗｔ％までのいずれかの濃度であれば大きな浮上性マージンが確保される。
【００４９】
この図４に示すデータは、上記基本形態に対して上記追加過程が、上記貯槽中に溜められた潤滑剤中における上記タイプの潤滑剤の含有量を１．０％以上４４．３％以下に保つ過程となっている第２の応用形態が好適であることを意味する。
【００５０】
なお、図１に示す記憶媒体製造方法では、試験工程Ｓ１０４における塗布状態の確認に応じて追加工程Ｓ１０５で潤滑剤が追加されるが、上記基本形態における追加過程は、定期的に潤滑剤を追加する過程であってもよい。このように定期的に潤滑剤を追加する場合には、Ｂｉｓ体の濃度が、図４に示されているような適切な濃度範囲に収まるようにＢｉｓ体を追加する。また、上記基本形態に対する応用形態としては、潤滑剤中のＢｉｓ体の濃度を測定しながら適宜にＢｉｓ体を追加することでＢｉｓ体の濃度を適切な濃度範囲に維持する形態も考えられる。
【００５１】
以下、図３に例示した潤滑剤に替えて使用可能な別の潤滑剤の例について説明する。
【００５２】
図５は、潤滑剤の別の例を示す図である。図６は、潤滑剤の更に別の例を示す図である。
【００５３】
図５には、主鎖部４４も末端部４５，４６も図３の例とは異なる潤滑剤が示されている。ここで、図中の添え字ｐ、ｑは重合度を表している。図５のパート（Ａ）には、両方の末端部がＴＥＴＲＡ末端４５となっているタイプが示されている。また、図５のパート（Ｂ）には、一方の末端部がＴＥＴＲＡ末端４５で他方の末端部がＢｉｓ末端４６となっているＢｉｓ体が示されている。
【００５４】
図６には、主鎖部４４が図５の例と同様で末端部４７，４８が異なる潤滑剤が示されている。ここで、図中の添え字ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓは重合度を表している。図６のパート（Ａ）には、両方の末端部４７がＢｉｓ末端でないタイプが示されている。また、図６のパート（Ｂ）には、両方の末端部がＢｉｓ末端４８となっているＢｉｓ体が示されている。この図６に示す例では末端部４７，４８にも重合構造が存在している。
【００５５】
これら図５，図６に例示した潤滑剤が使われる場合にも、Ｂｉｓ体の適宜な追加により浮上性マージンが確保される。
【００５６】
なお、具体的な実施形態に関する上記説明では、基本形態における被塗布物の一例として磁気ディスクが示されているが、基本形態における被塗布物は、他の種類の記憶媒体であってもよいし、あるいは記憶媒体以外のものであってもよい。他の種類の記憶媒体としては例えば、個体浸レンズ（ＳＩＬ）によって情報が光で読み書きされる媒体が考えられる。
【符号の説明】
【００５７】
１０ 潤滑剤塗布装置
２０ 磁気ディスク
３０ 貯槽
４０ 潤滑剤
４１，４４ 主鎖部
４３，４６，４８ Ｂｉｓ末端
５０ 試験装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
潤滑剤が塗布される平面状の被塗布面を各々が有する複数の被塗布物を一度にあるいは順次に準備する準備過程と、
前記複数の被塗布物を、順次に、主鎖部と末端部とを有し該末端部が前記被塗布面に結合する潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることで該複数の被塗布物それぞれの被塗布面に該潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布過程と、
前記潤滑剤塗布過程中で前記複数の被塗布物のうちの途中の被塗布物まで潤滑剤が塗布された時点で、前記貯槽中に、主鎖部と末端部とを有し該主鎖部が前記潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤を追加する追加過程とを有することを特徴とする潤滑剤塗布方法。
【請求項２】
前記潤滑剤塗布過程で前記被塗布面に塗布された潤滑剤の塗布状態の良否を、該潤滑剤塗布過程で前記複数の被塗布物に順次に潤滑剤が塗布されていくのと並行に、該複数の被塗布物について順次に試験する試験過程を有し、
前記追加過程が、前記試験過程による試験の結果に応じて前記タイプの潤滑剤を追加する過程であることを特徴とする請求項１記載の潤滑剤塗布方法。
【請求項３】
前記追加過程が、前記貯槽中に溜められた潤滑剤中における前記タイプの潤滑剤の含有量を１．０％以上４４．３％以下に保つ過程であることを特徴とする請求項１または２記載の潤滑剤塗布方法。
【請求項４】
複数の基板を準備する基板準備過程と、
前記基板上に、情報を記憶する記憶層を含む１つ以上の層を積層して積層体を形成する積層過程と、
前記積層体が形成された複数の基板を、順次に、主鎖部と末端部とを有し該末端部が該積層体の表面に結合する潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることで該表面に該潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布過程と、
前記潤滑剤塗布過程中で前記複数の基板のうちの途中の基板まで潤滑剤が塗布された時点で、前記貯槽中に、主鎖部と末端部とを有し該主鎖部が前記潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤を追加する追加過程とを有することを特徴とする記憶媒体製造方法。
【請求項１】
潤滑剤が塗布される平面状の被塗布面を各々が有する複数の被塗布物を一度にあるいは順次に準備する準備過程と、
前記複数の被塗布物を、順次に、主鎖部と末端部とを有し該末端部が前記被塗布面に結合する潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることで該複数の被塗布物それぞれの被塗布面に該潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布過程と、
前記潤滑剤塗布過程中で前記複数の被塗布物のうちの途中の被塗布物まで潤滑剤が塗布された時点で、前記貯槽中に、主鎖部と末端部とを有し該主鎖部が前記潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤を追加する追加過程とを有することを特徴とする潤滑剤塗布方法。
【請求項２】
前記潤滑剤塗布過程で前記被塗布面に塗布された潤滑剤の塗布状態の良否を、該潤滑剤塗布過程で前記複数の被塗布物に順次に潤滑剤が塗布されていくのと並行に、該複数の被塗布物について順次に試験する試験過程を有し、
前記追加過程が、前記試験過程による試験の結果に応じて前記タイプの潤滑剤を追加する過程であることを特徴とする請求項１記載の潤滑剤塗布方法。
【請求項３】
前記追加過程が、前記貯槽中に溜められた潤滑剤中における前記タイプの潤滑剤の含有量を１．０％以上４４．３％以下に保つ過程であることを特徴とする請求項１または２記載の潤滑剤塗布方法。
【請求項４】
複数の基板を準備する基板準備過程と、
前記基板上に、情報を記憶する記憶層を含む１つ以上の層を積層して積層体を形成する積層過程と、
前記積層体が形成された複数の基板を、順次に、主鎖部と末端部とを有し該末端部が該積層体の表面に結合する潤滑剤が溜められた貯槽中に浸けて引き上げることで該表面に該潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布過程と、
前記潤滑剤塗布過程中で前記複数の基板のうちの途中の基板まで潤滑剤が塗布された時点で、前記貯槽中に、主鎖部と末端部とを有し該主鎖部が前記潤滑剤の主鎖部と共通な潤滑剤のうちで末端部がＢｉｓ末端となっているタイプの潤滑剤を追加する追加過程とを有することを特徴とする記憶媒体製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−２２５１９３（Ｐ２０１０−２２５１９３Ａ）
【公開日】平成２２年１０月７日（２０１０．１０．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−６７９８７（Ｐ２００９−６７９８７）
【出願日】平成２１年３月１９日（２００９．３．１９）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月７日（２０１０．１０．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月１９日（２００９．３．１９）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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