炭酸ジエステル組成物、炭酸ジエステルの精製方法及びポリカーボネート樹脂の製造方法
【課題】ポリカーボネート樹脂の製造における未反応炭酸ジエステルをリサイクルし、色調良好な樹脂を得る。
【解決手段】ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応で副生するモノヒドロキシ化合物の蒸留工程において、第一蒸留工程でモノヒドロキシ化合物と分離した高沸物を第二蒸留工程で蒸留する際に、第一蒸留工程で得られた高沸物から５重量％未満を除去し、さらに９０重量％迄を蒸留塔の塔頂から留出し、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下の炭酸ジエステルを得、これをポリカーボネート製造工程にリサイクルする。
【解決手段】ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応で副生するモノヒドロキシ化合物の蒸留工程において、第一蒸留工程でモノヒドロキシ化合物と分離した高沸物を第二蒸留工程で蒸留する際に、第一蒸留工程で得られた高沸物から５重量％未満を除去し、さらに９０重量％迄を蒸留塔の塔頂から留出し、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下の炭酸ジエステルを得、これをポリカーボネート製造工程にリサイクルする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は炭酸ジエステル組成物等に関し、より詳しくは、ポリカーボネート樹脂の製造に使用する炭酸ジエステル組成物等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、芳香族ポリカーボネート樹脂の製造方法としては、ビスフェノール類とホスゲンとを直接反応させる界面法と、ビスフェノール類と炭酸ジエステルとをエステル交換反応により重縮合反応させる溶融法が知られている。中でも、エステル交換反応による溶融法は、界面法と比較して安価に芳香族ポリカーボネート樹脂を製造することができるという利点を有している。
【０００３】
溶融法においては、ビスフェノール類と炭酸ジエステルとのエステル交換反応の際に、フェノール等の副生物が多量に生じる。また、未反応炭酸ジエステルも、所定の操作により回収する必要が生じる。このため、特許文献１では、未反応炭酸ジエステルを高純度で回収する方法について報告されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２２６５７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、溶融法においては、副生フェノールの他に、例えば、イソプロペニルフェノール等のアルキルフェノールも副生物として生じる。このようなイソプロペニルフェノールは、ポリカーボネート樹脂の色調を悪化させる原因となりやすいため、低減する必要がある。
また、未反応炭酸ジエステルは、ポリカーボネート樹脂の製造工程において副生フェノールと同伴して留出することから、効率よく精製し、ポリカーボネート樹脂の製造工程に循環供給する必要がある。
【０００６】
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、ポリカーボネート樹脂の製造工程における未反応炭酸ジエステルを効率よくリサイクルし、原料の消費と廃棄物とを低減し、且つ、色調良好なポリカーボネート樹脂を得るポリカーボネート樹脂の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
かくして本発明によれば、以下の（１）〜（１３）が提供される。
（１） 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程において、前記ポリカーボネート製造工程から、主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留により分離し、且つ、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする炭酸ジエステル組成物。
（２） 前記アルキルフェノールがイソプロペニルフェノールであることを特徴とする前記（１）に記載の炭酸ジエステル組成物。
【０００８】
（３） 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によりポリカーボネートを製造するポリカーボネート製造工程と、前記ポリカーボネート製造工程において副生する主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留する副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程と、を有し、前記副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程において前記留出液から分離し、且つ炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを前記ポリカーボネート製造工程にリサイクルすることを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
（４） 前記ポリカーボネート製造工程にリサイクルする前記炭酸ジエステルの組成物と、モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を用いて製造する炭酸ジエステルと、の混合物を、当該ポリカーボネート製造工程の原料として使用することを特徴とする前記（３）に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
（５） 前記混合物は、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が３０重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする前記（４）に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
【０００９】
（６） 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程と、前記ポリカーボネート製造工程において副生する主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留する副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程と、を有し、前記副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程は、前記副生モノヒドロキシ化合物を蒸留する第一蒸留工程と、前記第一蒸留工程で得られる蒸留残渣中に含まれる炭酸ジエステルを留出する第二蒸留工程とを、有し、前記第二蒸留工程において、前記第一蒸留工程で得られる前記蒸留残渣量の９０重量％分を蒸留塔頂から留出することを特徴とする炭酸ジエステルの精製方法。
（７） 前記第二蒸留工程において、前記第一蒸留工程の前記蒸留残渣量の５重量％分を蒸留塔頂より抜き出し、且つ、１０重量％分を蒸留塔底から抜き出し、残りを精製物とすることを特徴とする前記（６）に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
（８） 前記第二蒸留工程において塩基性物質を添加することを特徴とする前記（６）に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【００１０】
（９） 前記塩基性物質は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及び／又はこれらの酸化物、水酸化物、炭酸塩から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする前記（８）に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
（１０） 前記塩基性物質は、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムであることを特徴とする前記（８）又は前記（９）に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
（１１） 前記芳香族ジヒドロキシ化合物がビスフェノール類であることを特徴とする前記（６）乃至前記（１０）のいずれか１項に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【００１１】
（１２） 前記（６）乃至前記（１１）のいずれか１つに記載の炭酸ジエステルの精製方法で得られる炭酸ジエステルを、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程にリサイクルすることを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
（１３）前記（６）乃至前記（１１）のいずれか１つに記載の炭酸ジエステルの精製方法で得られる炭酸ジエステルとモノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物から製造される炭酸ジエステルとの混合物を、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程の原料として使用することを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ポリカーボネート樹脂の製造工程における未反応炭酸ジエステルを効率よくリサイクルし、原料の消費と廃棄物とを低減し、色調良好なポリカーボネート樹脂が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。また、使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。
【００１４】
（ポリカーボネート樹脂）
本実施の形態において使用するポリカーボネート樹脂は、ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応により製造する。
ここで、ジヒドロキシ化合物としては、芳香族ジヒドロキシ化合物が好ましい化合物として挙げられる。また、ポリカーボネート樹脂としては、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応に基づく溶融重縮合により製造する芳香族ポリカーボネート樹脂が好ましい。
以下、原料として芳香族ジヒドロキシ化合物及び炭酸ジエステルを用い、エステル交換触媒の存在下、連続的に溶融重縮合反応を行うことにより、芳香族ポリカーボネート樹脂を製造する方法（溶融法）について説明する。
【００１５】
（芳香族ジヒドロキシ化合物）
本実施の形態において使用する芳香族ジヒドロキシ化合物としては、下記一般式（１）で示される化合物が挙げられる。
【００１６】
【化１】
【００１７】
ここで、一般式（１）において、Ａは、単結合または置換されていてもよい炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状若しくは環状の２価の炭化水素基、又は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−若しくは−ＳＯ２−で示される２価の基である。Ｘ及びＹは、ハロゲン原子又は炭素数１〜６の炭化水素基である。ｐ及びｑは、０又は１の整数である。尚、ＸとＹ及びｐとｑは、それぞれ、同一でも相互に異なるものでもよい。
【００１８】
芳香族ジヒドロキシ化合物の具体例としては、例えば、ビス（４−ヒドロキシジフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビスフェノール類；４，４’−ジヒドロキシビフェニル、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニル等のビフェノ−ル類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。
これらの中でも、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（「ビスフェノールＡ」、以下、ＢＰＡと略記することがある。）が好ましい。これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は、単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。
【００１９】
（炭酸ジエステル）
本実施の形態において使用する炭酸ジエステルとしては、下記一般式（２）で示される化合物が挙げられる。
【００２０】
【化２】
【００２１】
ここで、一般式（２）中、Ａ’は、置換されていてもよい炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の１価の炭化水素基である。２つのＡ’は、同一でも相互に異なるものでもよい。
なお、Ａ’上の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜炭素数１０のアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、アミド基、ニトロ基等が例示される。
【００２２】
炭酸ジエステルの具体例としては、例えば、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネート等の置換ジフェニルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｔ−ブチルカーボネート等のジアルキルカーボネートが挙げられる。
これらの中でも、ジフェニルカーボネート（以下、ＤＰＣと略記することがある。）、置換ジフェニルカーボネートが好ましい。これらの炭酸ジエステルは、単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。
【００２３】
また、上記の炭酸ジエステルは、好ましくはその５０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以下の量を、ジカルボン酸又はジカルボン酸エステルで置換してもよい。
代表的なジカルボン酸又はジカルボン酸エステルとしては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニル等が挙げられる。このようなジカルボン酸又はジカルボン酸エステルで置換した場合には、ポリエステルカーボネートが得られる。
【００２４】
これら炭酸ジエステル（上記の置換したジカルボン酸又はジカルボン酸エステルを含む。以下同じ。）は、芳香族ジヒドロキシ化合物に対して過剰に用いられる。
即ち、芳香族ジヒドロキシ化合物に対して、通常、炭酸ジエステル１．０１〜１．３０、好ましくは１．０２〜１．２０のモル比で用いられる。モル比が過度に小さいと、得られる芳香族ポリカーボネートの末端ＯＨ基が多くなり、樹脂の熱安定性が悪化する傾向となる。また、モル比が過度に大きいと、エステル交換の反応速度が低下し、所望の分子量を有する芳香族ポリカーボネートの生産が困難となる傾向となる他、樹脂中の炭酸ジエステルの残存量が多くなり、成形加工時や成形品としたときの臭気の原因となることがあり、好ましくない。
【００２５】
（炭酸ジエステルの製造工程）
上述した炭酸ジエステルは、通常、フェノール等の芳香族モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を原料としてアルカリ系触媒の存在下の合成反応により製造する。
カルボニル化合物としては、炭酸ジエステルのカルボニル基を形成するものであれば特に限定されず、例えば、塩化カルボニル（ホスゲン）、一酸化炭素、炭酸ジアルキル等が挙げられる。中でも塩化カルボニル（ホスゲン）が好ましい。
また、アルカリ系触媒としては、ピリジン等が挙げられる。
【００２６】
合成反応の条件は特に限定されないが、芳香族モノヒドロキシ化合物としてフェノールを使用する場合は、常圧下でフェノールが溶融状態にある５０℃〜１８０℃が好ましい。また、芳香族モノヒドロキシ化合物とカルボニル化合物との混合比（モル比）は、芳香族モノヒドロキシ化合物１モルに対して、通常、カルボニル化合物０．４０モル〜０．４９モルが好ましい。
本実施の形態で使用する炭酸ジエステルは、上述したように芳香族モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を原料としてアルカリ系触媒存在下の合成反応を行う反応工程後、反応液を脱塩酸処理及び除去しきれない塩酸をアルカリ性水溶液により中和処理して水洗する洗浄工程と、さらに、蒸留工程を経て製造する。
【００２７】
（エステル交換触媒）
本実施の形態において使用するエステル交換触媒としては、通常、エステル交換法によりポリカーボネートを製造する際に用いられる触媒が挙げられ、特に限定されない。一般的には、例えば、アルカリ金属化合物、ベリリウム化合物又はマグネシウム化合物、アルカリ土類金属化合物、塩基性ホウ素化合物、塩基性リン化合物、塩基性アンモニウム化合物又はアミン系化合物等の塩基性化合物が挙げられる。
これらのエステル交換触媒の中でも、実用的にはアルカリ金属化合物が望ましい。これらのエステル交換触媒は、単独で使用してもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
エステル交換触媒の使用量は、通常、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して１×１０−９〜１×１０−１モル、好ましくは１×１０−７〜１×１０−２モルの範囲で用いられる。
【００２８】
アルカリ金属化合物としては、アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素化合物等の無機アルカリ金属化合物；アルカリ金属のアルコール類、フェノール類、有機カルボン酸類との塩等の有機アルカリ金属化合物等が挙げられる。ここで、アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムが挙げられる。
これらのアルカリ金属化合物の中でも、セシウム化合物が好ましく、特に、炭酸セシウム、炭酸水素セシウム、水酸化セシウムが好ましい。
【００２９】
ベリリウム化合物又はマグネシウム化合物としては、例えば、ベリリウム又はマグネシウムの水酸化物、炭酸塩等の無機化合物；ベリリウム又はマグネシウムのアルコール類、フェノール類、有機カルボン酸類との塩等が挙げられる。
【００３０】
アルカリ土類金属化合物としては、例えば、アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等の無機アルカリ土類金属化合物；アルカリ土類金属のアルコール類、フェノール類、有機カルボン酸類との塩等が挙げられる。ここで、アルカリ土類金属としては、カルシウム、ストロンチウム、バリウムが挙げられる。
【００３１】
塩基性ホウ素化合物としては、ホウ素化合物のナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩、ストロンチウム塩等が挙げられる。ここで、ホウ素化合物としては、例えば、テトラメチルホウ素、テトラエチルホウ素、テトラプロピルホウ素、テトラブチルホウ素、トリメチルエチルホウ素、トリメチルベンジルホウ素、トリメチルフェニルホウ素、トリエチルメチルホウ素、トリエチルベンジルホウ素、トリエチルフェニルホウ素、トリブチルベンジルホウ素、トリブチルフェニルホウ素、テトラフェニルホウ素、ベンジルトリフェニルホウ素、メチルトリフェニルホウ素、ブチルトリフェニルホウ素等が挙げられる。
【００３２】
塩基性リン化合物としては、例えば、トリエチルホスフィン、トリ−ｎ−プロピルホスフィン、トリイソプロピルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等の３価のリン化合物、又はこれらの化合物から誘導される４級ホスホニウム塩等が挙げられる。
【００３３】
塩基性アンモニウム化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルメチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリブチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリブチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、テトラフェニルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリフェニルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリフェニルアンモニウムヒドロキシド、ブチルトリフェニルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。
【００３４】
アミン系化合物としては、例えば、４−アミノピリジン、２−アミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、４−ジエチルアミノピリジン、２−ヒドロキシピリジン、２−メトキシピリジン、４−メトキシピリジン、２−ジメチルアミノイミダゾール、２−メトキシイミダゾール、イミダゾール、２−メルカプトイミダゾール、２−メチルイミダゾール、アミノキノリン等が挙げられる。
【００３５】
（芳香族ポリカーボネートの製造方法）
次に、本実施の形態が適用されるポリカーボネートの製造方法について、芳香族ポリカーボネートの製造方法を例に挙げて説明する。
図１は、ポリカーボネート製造方法の製造工程フロー図である。ここでは、ポリカーボネート樹脂を製造するポリカーボネート製造工程と原料の炭酸ジエステルを製造する炭酸ジエステル製造工程とが併設されている場合の工程フローについて説明する。
【００３６】
図１に示すように、所定の芳香族ジヒドロキシ化合物製造工程において、芳香族ポリカーボネートの原料として使用する芳香族ジヒドロキシ化合物を製造する（ステップ１０１：図１では、Ｓ１０１と表示する。以下、同様。）。また、本実施の形態では、所定の炭酸ジエステル製造工程により炭酸ジエステル化合物を製造し（ステップ１０２）、所定の炭酸ジエステル精製工程を経て精製する（ステップ１０３）。
次に、これらの原料を用いて芳香族ポリカーボネートを製造する（ポリカーボネート製造工程：ステップ１０４）。
【００３７】
芳香族ポリカーボネートの製造は、原料である芳香族ジヒドロキシ化合物及び炭酸ジエステル化合物の原料混合溶融液を調製し（原調工程）、これらの化合物を、エステル交換反応触媒の存在下、溶融状態で複数の反応器を用いて多段階で重縮合反応をさせる（重縮合工程）ことにより行う。反応方式は、バッチ式、連続式、又はバッチ式と連続式の組合せのいずれでもよい。反応器は、複数基の竪型撹拌反応器及びこれに続く少なくとも１基の横型撹拌反応器を用いる。通常、これらの反応器を直列に設置し、連続的に処理を行う。
重縮合工程後、反応を停止し、重合反応液中の未反応原料や反応副生物を脱揮除去する工程や、熱安定剤、離型剤、色剤等を添加する工程、芳香族ポリカーボネートを所定の粒径のペレットに形成する工程等を適宜追加してもよい。
次に、ポリカーボネート製造工程の各工程について説明する。
【００３８】
（原調工程）
芳香族ポリカーボネートの原料として使用する芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとは、通常、窒素、アルゴン等の不活性ガスの雰囲気下、バッチ式、半回分式または連続式の撹拌槽型の装置を用いて、原料混合溶融液として調製する。溶融混合の温度は、例えば、芳香族ジヒドロキシ化合物としてビスフェノールＡを用い、炭酸ジエステルとしてジフェニルカーボネートを用いる場合は、通常２０℃〜１８０℃、好ましくは１２５℃〜１６０℃の範囲から選択する。
この際、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの割合は、炭酸ジエステルが過剰になるように調整し、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、炭酸ジエステルは通常１．０１モル〜１．３０モル、好ましくは１．０２モル〜１．２０モルの割合になるように調整する。
【００３９】
（重縮合工程）
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステル化合物とのエステル交換反応による重縮合は、通常、２段階以上、好ましくは３段〜７段の多段方式で連続的に行う。具体的な反応条件としては、温度：１５０℃〜３２０℃、圧力：常圧〜０．０１Ｔｏｒｒ（１．３Ｐａ）、平均滞留時間：５分〜１５０分の範囲である。
多段方式の各反応器においては、重縮合反応の進行とともに副生するフェノールをより効果的に系外に除去するために、上記の反応条件内で、段階的により高温、より高真空に設定する。尚、製造する芳香族ポリカーボネートの色相等の品質低下を防止するためには、できるだけ低温、短滞留時間の設定が好ましい。
【００４０】
重縮合工程を多段方式で行う場合は、通常、竪型撹拌反応器を含む複数基の反応器を設けて、ポリカーボネート樹脂の平均分子量を増大させる。反応器は通常３基〜６基、好ましくは４基〜５基設置する。
ここで、反応器としては、例えば、撹拌槽型反応器、薄膜反応器、遠心式薄膜蒸発反応器、表面更新型二軸混練反応器、二軸横型撹拌反応器、濡れ壁式反応器、自由落下させながら重合する多孔板型反応器、ワイヤーに沿わせて落下させながら重合するワイヤー付き多孔板型反応器等を用いる。
【００４１】
竪型撹拌反応器の撹拌翼の形式としては、例えば、タービン翼、パドル翼、ファウドラー翼、アンカー翼、フルゾーン翼（神鋼パンテック（株）製）、サンメラー翼（三菱重工業（株）製）、マックスブレンド翼（住友重機械工業（株）製）、ヘリカルリボン翼、ねじり格子翼（日立製作所（株）製）等が挙げられる。
【００４２】
また、横型撹拌反応器とは、撹拌翼の回転軸が横型（水平方向）であるものをいう。横型撹拌反応器の撹拌翼としては、例えば、円板型、パドル型等の一軸タイプの撹拌翼やＨＶＲ、ＳＣＲ、Ｎ−ＳＣＲ（三菱重工業（株）製）、バイボラック（住友重機械工業（株）製）、あるいはメガネ翼、格子翼（日立製作所（株）製）等の二軸タイプの撹拌翼が挙げられる。
【００４３】
尚、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステル化合物との重縮合に使用するエステル交換触媒は、通常、予め水溶液として準備する。触媒水溶液の濃度は特に限定されず、触媒の水に対する溶解度に応じて任意の濃度に調整する。また、水に代えて、アセトン、アルコール、トルエン、フェノール等の他の溶媒を選択することもできる。
触媒の溶解に使用する水の性状は、含有する不純物の種類ならびに濃度が一定であれば特に限定されないが、通常、蒸留水や脱イオン水等が好ましい。
【００４４】
（副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程）
次に、副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程について説明する。
上述したポリカーボネート製造工程における重縮合反応の進行とともに、副生モノヒドロキシ化合物を系外に除去する。
本実施の形態において、副生モノヒドロキシ化合物は、先ず、第一蒸留工程（ステップ１０５）で、主留のモノヒドロキシ化合物を蒸留塔の塔頂から抜き出し炭酸ジエステル製造工程及び／又は芳香族ジヒドロキシ化合物製造工程にリサイクルする（ステップ１０６）。また、モノヒドロキシ化合物と分離した高沸分を蒸留塔釜残留成分として抜き出し、第二蒸留工程に送る。
第二蒸留工程（ステップ１０７）では、先ず、第一蒸留工程で分離された高沸分の５重量％未満（初留）を抜き出す。続いて、高沸分の５重量％〜９０重量％を蒸留し、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを蒸留塔の塔頂から抜き出す。また、残りは蒸留残渣として処理する。尚、この蒸留工程は回分式でも連続式でもよい。
【００４５】
第二蒸留工程で得た炭酸ジエステルは、炭酸ジエステル精製工程に循環供給し（炭酸ジエステルリサイクル工程：ステップ１０８）、所定の蒸留操作を経てポリカーボネート製造工程の原料として使用する。
ここで、第一蒸留工程の条件は特に限定されないが、通常、炭酸ジエステルがジフェニルカーボネートである場合、塔頂温度１００℃〜１５０℃、圧力１００Ｔｏｒｒ〜３００Ｔｏｒｒである。また、第二蒸留工程の条件は特に限定されないが、通常、塔頂温度８０℃〜１２０℃、圧力３０Ｔｏｒｒ〜８０Ｔｏｒｒである。
【００４６】
このように、第二蒸留工程で５重量％未満の留出分を除去することにより、第一蒸留工程で得られる高沸物中に含まれる炭酸ジエステル以外の成分の大部分を除去することができる。
第一蒸留工程で得られる高沸物中に含まれる炭酸ジエステル以外の成分としては、例えば、フェノールや炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールが挙げられる。アルキルフェノールの具体的としては、イソプロペニルフェノール等が挙げられる。
【００４７】
本実施の形態では、上述した蒸留操作により、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が、１００重量ｐｐｍ以下、好ましくは５０重量ｐｐｍ以下、さらに好ましくは３０重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを得ることができる。
特に、イソプロペニルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下に低減した炭酸ジエステルをポリカーボネート製造工程における原料として使用することにより、得られるポリカーボネート樹脂の色調低下を防止することができる。
【００４８】
次に、ポリカーボネート製造工程と炭酸ジエステル製造工程とが併設されていない場合の工程フローについて説明する。
図２は、ポリカーボネート製造方法の他の製造工程フロー図である。図２に示すように、芳香族ジヒドロキシ化合物は、前述したように所定の製造工程（芳香族ジヒドロキシ化合物製造工程）において製造する（ステップ２０１：図２では、Ｓ２０１と表示する。以下、同様。）。又、本実施の形態では、炭酸ジエステル化合物は、他炭酸ジエステル製造工程により製造する（ステップ２０２）。次に、これらの原料を用いて芳香族ポリカーボネートを製造する（ポリカーボネート製造工程：ステップ２０３）。
一方、重縮合反応の進行とともに副生モノヒドロキシ化合物を系外に除去する。副生モノヒドロキシ化合物は、副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程において、第一蒸留工程（ステップ２０４）で、モノヒドロキシ化合物を蒸留塔の塔頂から抜き出し芳香族ジヒドロキシ化合物製造工程及び／又は他炭酸ジエステル製造工程にリサイクルする（ステップ２０５）。また、モノヒドロキシ化合物と分離した高沸分を第二蒸留工程に送る。
第二蒸留工程（ステップ２０６）では、先ず、第一蒸留工程で分離された高沸分の５重量％未満（初留）を抜き出す。続いて、高沸分の５重量％〜９０重量％を蒸留し、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを蒸留塔の塔頂から抜き出す。尚、残りは蒸留残渣として処理する。尚、この蒸留工程は回分式でも連続式でもよい。
【００４９】
本実施の形態において、第二蒸留工程で蒸留塔の塔頂から抜き出した炭酸ジエステルは、前述したポリカーボネート製造工程における原料として循環供給する（炭酸ジエステルリサイクル工程：ステップ２０７）。
このようなリサイクルする炭酸ジエステルと、予め他炭酸ジエステル製造工程で製造した合成炭酸ジエステルとの混合物は、炭酸ジエステル以外の成分の含有量が大幅に低減された原料としてポリカーボネート製造工程で使用することができる。
このとき、また、ポリカーボネート製造工程に用いるリサイクル炭酸ジエステルと、予め他炭酸ジエステル製造工程で製造した合成炭酸ジエステルとの混合物中に含まれるアルキルフェノールの含有量は特に限定されないが、炭酸ジエステルに対し３０重量ｐｐｍ以下、好ましくは２０重量ｐｐｍ以下である。
特に、イソプロペニルフェノールの含有量が３０重量ｐｐｍ以下に低減した炭酸ジエステル混合物を原料として使用することにより、ポリカーボネートの色調低下を防止することができる。
【００５０】
本実施の形態では、副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程において塩基性物質を添加し、副生モノヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを分離することが好ましい。
ここで、塩基性物質としては特に限定されないが、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及びこれらの酸化物、水酸化物、炭酸塩等が挙げられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。これらの塩基性物質は、それぞれ単独で使用することができ、また、複数の塩基性物質を用いることができる。
副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程における塩基性物質の添加量は、特に限定されないが、通常０．１重量ｐｐｍ〜１重量％、好ましくは、１重量ｐｐｍ〜１０００重量ｐｐｍ、より好ましくは、１０重量ｐｐｍ〜２００重量ｐｐｍである。
【００５１】
（製造装置）
次に、図面に基づき、本実施の形態が適用される芳香族ポリカーボネートの製造方法の一例を具体的に説明する。
図３は、芳香族ポリカーボネートの製造装置の一例を示す図である。図３に示す製造装置において、芳香族ポリカーボネートは、原料の芳香族ジヒドロキシ化合物及び炭酸ジエステル化合物を調製する原調工程と、これらの原料を溶融状態で複数の反応器を用いて重縮合反応する重縮合工程とを経て製造する。
その後、反応を停止させ重合反応液中の未反応原料や反応副生物を脱揮除去する工程（図示せず）や、熱安定剤、離型剤、色剤等を添加する工程（図示せず）、芳香族ポリカーボネートを所定の粒径のペレットに形成する工程（図示せず）を経て、芳香族ポリカーボネートのペレットを成形する。
【００５２】
原調工程においては、直列に接続した第１原料混合槽２ａ及び第２原料混合槽２ｂと、調製した原料を重縮合工程に供給するための原料供給ポンプ４ａとを設けている。第１原料混合槽２ａと第２原料混合槽２ｂとには、例えばアンカー型撹拌翼３ａ，３ｂをそれぞれ設けている。
また、第１原料混合槽２ａには、ＤＰＣ供給口１ａ−１から、炭酸ジエステルであるジフェニルカーボネート（以下、ＤＰＣと記載することがある。）を溶融状態で供給し、ＢＰＡ供給口１ｂからは、芳香族ジヒドロキシ化合物であるビスフェノールＡ（以下、ＢＰＡと記載することがある。）を粉末状態で供給し、溶融したジフェニルカーボネートにビスフェノールＡを溶解する。
【００５３】
次に、重縮合工程においては、直列に接続した第１竪型反応器６ａ、第２竪型反応器６ｂ及び第３竪型反応器６ｃと、第３竪型反応器６ｃの後段に直列に接続した第４横型反応器９ａとを設けている。第１竪型反応器６ａ、第２竪型反応器６ｂ及び第３竪型反応器６ｃには、マックスブレンド翼７ａ，７ｂ，７ｃがそれぞれ設け、また、第４横型反応器９ａには、撹拌翼１０ａを設けている。
また、４基の反応器には、それぞれ重縮合反応により生成する副生物等を排出するための留出管８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを取り付けている。
さらに、留出管８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを経由して留出した副生フェノール等を精製するための、第１蒸留塔９１ａと第２蒸留塔９１ｂ、及び、第２蒸留塔９１ｂの蒸留塔釜残留成分を蒸留する第３蒸留塔９１ｃが設けている。
【００５４】
図３に示す芳香族ポリカーボネートの製造装置において、窒素ガス雰囲気下、所定の温度で調製したＤＰＣ溶融液と、窒素ガス雰囲気下で計量したＢＰＡ粉末とを、それぞれＤＰＣ供給口１ａ−１とＢＰＡ供給口１ｂから第１原料混合槽２ａに連続的に供給する。第１原料混合槽２ａの液面が移送配管中の最高位と同じ高さを超えると、原料混合物が第２原料混合槽２ｂに移送される。
【００５５】
次に、原料混合物を、原料供給ポンプ４ａを経由して第１竪型反応器６ａに連続的に供給する。また触媒として、水溶液状の炭酸セシウムを、原料混合物の移送配管途中の触媒供給口５ａから連続的に供給する。
第１竪型反応器６ａでは、窒素雰囲気下、例えば、温度２２０℃、圧力１３．３３ｋＰａ（１００Ｔｏｒｒ）、撹拌翼の回転数を１６０ｒｐｍに保持し、副生したフェノールを留出管８ａから留出させながら平均滞留時間６０分になるように液面レベルを一定に保ち、重縮合反応を行う。
【００５６】
次に、第１竪型反応器６ａより排出した重合反応液を、引き続き、第２竪型反応器６ｂ、第３竪型反応器６ｃ、第４横型反応器９ａに順次連続供給し、重縮合反応を進行させる。各反応器における反応条件は、重縮合反応の進行とともに高温、高真空、低撹拌速度となるようにそれぞれ設定する。重縮合反応の間、各反応器における平均滞留時間は、例えば、６０分程度になるように液面レベルを制御する。また各反応器においては、副生するフェノールが留出管８ｂ，８ｃ，８ｄから留出する。
【００５７】
本実施の形態においては、第１竪型反応器６ａ〜第４横型反応器９ａにそれぞれ取り付けた留出管８ｂ，８ｃ，８ｄから、重縮合反応において副生するフェノールが留出する。
副生フェノールは、第一蒸留工程において、２基の蒸留塔（第１蒸留塔９１ａ，第２蒸留塔９１ｂ）を使用して主留（フェノール）と高沸分（略、ＤＰＣ）とを分離する。即ち、副生フェノールは、先ず、第１蒸留塔９１ａにて塔頂配管９２ａから初留を抜き出す。次に、第１蒸留塔９１ａで所流を抜き出した残りの留分は、塔底配管９３ａを介して引き続き第２蒸留塔９１ｂに送られ、第２蒸留塔９１ｂの塔頂配管９２ｂから主留（フェノール）を抜き出し、塔底配管９３ｂから高沸分（略、ＤＰＣ）を蒸留塔釜残留成分として抜き出す。
【００５８】
次に、第二蒸留工程において、２基の蒸留塔（第３蒸留塔９１ｃ，第４蒸留塔９１ｄ）を使用して炭酸ジエステル（ＤＰＣ）を蒸留する。即ち、先ず、第３蒸留塔９１ｃで、第２蒸留塔９１ｂの塔底配管９３ｂから抜き出した高沸分（略、ＤＰＣ）の５重量％未満（初留）を塔頂配管９２ｃから抜き出す。
続いて、第４蒸留塔９１ｄで、塔底配管９３ｃを介して送られた高沸分の５重量％〜９０重量％を蒸留し、塔頂配管９２ｄから、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを抜き出す。尚、残りは塔底配管９３ｄから蒸留残渣として排出する。第４蒸留塔９１ｄの塔頂から留出した炭酸ジエステル（ＤＰＣ）は、塔頂配管９２ｄにより、ＤＰＣ供給口１ａ−１を経て、第１原料混合槽２ａに循環供給する。
【実施例】
【００５９】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例に限定されるものではない。尚、得られるポリカーボネート樹脂の物性は、下記の方法により測定する。
（１）粘度平均分子量（Ｍｖ）
ポリカーボネート樹脂をジクロロメタンに溶解し、濃度（Ｃ）６００ｇ／Ｌの溶液を調製する。次に、ウベローデ型毛細管粘度計を用いて、温度２０℃に設定する恒温水槽中で、溶媒（ジクロロメタン）の流下速度（ｔ０）と試料溶液の流下速度（ｔ）を測定し、以下の式に従い、粘度平均分子量（Ｍｖ）を求める。
ηｓｐ＝（ｔ／ｔ０）−１
ａ＝０．２８×ηｓｐ＋１
ｂ＝１０×（ηｓｐ／Ｃ）
［η］＝ｂ／ａ
Ｍｖ＝５１４００×［η］ｅｘｐ１．２０５
【００６０】
（２）初期色相（ＹＩ）の測定
ポリカーボネート樹脂を窒素雰囲気下、１２０℃で６時間の乾燥後、射出成形機（株式会社日本製鋼所製Ｊ−１００）により３６０℃で調製した３ｍｍ厚の射出成形片について、カラーテスター（スガ試験機株式会社製ＳＣ−１−ＣＨ）を用いてＹＩ値を測定する。ＹＩ値が大きいほど着色していることを示す。
【００６１】
（３）イソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）量
ジフェニルカーボネート組成物に含まれるイソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）量は、液体クロマトグラフィーで定量分析し、ジフェニルカーボネート組成物に対する重量比で表す。
【００６２】
（４）ポリカーボネート樹脂製造装置の運転
図３に示す製造装置において、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）とビスフェノールＡ（ＢＰＡ）とを窒素ガス雰囲気下、（ＤＰＣ／ＢＰＡ）０．９７７重量比で溶融混合し原料混合物を得る。次に、この原料混合物を窒素雰囲気下、２１０℃、１００Ｔｏｒｒに制御した第１縦型反応器６ａ内に連続供給し、平均滞留時間が６０分になるように槽底部のポリマー排出ラインに設けられたバルブ開度を制御しつつ液面レベルを一定に保つ。
また、第１縦型反応器６ａ内に原料混合物の供給を開始すると同時に、触媒として炭酸セシウム水溶液をビスフェノールＡ１モルに対し、０．５×１０−６モルの流量で連続供給する。
【００６３】
第１縦型反応器６ａの槽底から排出した重合反応液を、引き続き第２縦型反応器６ｂ、第３縦型反応器６ｃ並びに第４横型反応器９ａに逐次連続供給する。重合反応の間、各反応器の平均滞留時間が６０分になるように液面レベルを制御し、また同時に副生するフェノールの留去も行う。
反応器より蒸発するガスは、それぞれ多段凝縮器で凝縮液化され、一部を各反応器に還流し、残りを副生フェノールタンクに回収する。各反応器の重合条件は以下の通りである。
（第１縦型反応器６ａ）２１０℃、１００Ｔｏｒｒ
（第２縦型反応器６ｂ）２４０℃、１５Ｔｏｒｒ
（第３縦型反応器６ｃ）２６０℃、０．５Ｔｏｒｒ
（第４横型反応器９ａ）２８０℃、０．５Ｔｏｒｒ
【００６４】
第４横型反応器９ａの槽底から抜き出した溶融状態のポリマーを２軸の押出機（株式会社神戸製鋼所製、スクリュー径０．０４６ｍ、Ｌ／Ｄ＝４０．２）に導入し、ポリカーボネート当たり５重量ｐｐｍ相当のｐ−トルエンスルホン酸ブチルを連続的に添加しながらペレット化する。
得られたポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量Ｍｖは２１，０００であり、初期ＹＩは１．７である。
【００６５】
上述したポリカーボネート樹脂の製造工程にて回収する副生フェノールを第１蒸留塔９１ａ（塔頂温度１４０℃、圧力２００Ｔｏｒｒ）にて低沸点成分（主として水分）を除いた後、第２蒸留塔９１ｂ（塔頂温度１０５℃、圧力５０Ｔｏｒｒ）にてフェノールを塔頂から抜き出し、蒸留塔釜残留成分を得る。
この蒸留塔釜残留成分の組成は、フェノール１．９重量％、ビスフェノールＡ１．３重量％、ジフェニルカーボネート９０．４重量％、その他６．４重量％である。
【００６６】
（実施例１）
上述したポリカーボネート樹脂の製造工程において、第２蒸留塔９１ｂにて得られた蒸留塔釜残留成分約５，３００ｇを、スルーザーパッキング（住友重機工業株式会社製）を充填した理論段数８段の蒸留塔釜部に仕込み、バッチ式で蒸留精製を行う。
蒸留精製は、真空度２０Ｔｏｒｒ〜１５Ｔｏｒｒ、還流比１の条件で徐々に熱媒温度を上昇させる。初期留出分から全重量の３０％（１，５００ｇ）を分取する。
この分取した留出分中のジフェニルカーボネート純度は８７．４４％であり、イソプロペニルフェノールは３６重量ｐｐｍである。
【００６７】
前述の留出分（ジフェニルカーボネート８７．４４％、イソプロペニルフェノール３６重量ｐｐｍ）とジフェニルカーボネート・フレーク（三菱化学株式会社製）とを混合し、重量比が４５／５５であるＤＰＣ混合物を調製する。このＤＰＣ混合物３０．７ｍｏｌと、炭酸セシウム水溶液（触媒：炭酸セシウム０．５（μｍｏｌ／ビスフェノールＡ−ｍｏｌ））とを、１００℃に制御した４０Ｌ第１反応器に供給し、次いで、ビスフェノールＡ（三菱化学株式会社製）２９．３ｍｏｌを供給する。
４０Ｌ第１反応器内を１０ｔｏｒｒにし、次いで、窒素で大気圧にする操作を５回繰り返し、内部を窒素置換する。次に、温度２３０℃の熱媒を通じて昇温し、前述のＤＰＣ混合物を溶解させた後、３００ｒｐｍで撹拌し、内温を２２０℃に保ちながら、４０分間かけて４０Ｌ第１反応器内の圧力を７６０ｔｏｒｒから１００ｔｏｒｒに減圧する。
【００６８】
続いて、４０Ｌ第１反応器内の圧力を１００ｔｏｒｒに保持したまま、フェノールを留去させながら８０分オリゴマー化反応を行う。オリゴマー化終了後、系内を窒素で０．２ＭＰａに復圧し、このオリゴマーを、３００℃に制御した４０Ｌ第２反応器（大気圧）に圧送する。
続いて、この４０Ｌ第２反応器内を大気圧にまで放圧し、３８ｒｐｍで撹拌しながら、系内を減圧にする。４０Ｌ第２反応器内の圧力が０．５ｔｏｒｒに到達後、０．５ｔｏｒｒを保持したまま９０分間縮合反応を行い、重合反応を行う。４０Ｌ第２反応器内の最終的な内部温度は２８０℃である。
重合反応終了後、４０Ｌ第２反応器内を窒素で復圧し、槽底からポリカーボネートポリマーをストランド状で抜き出し、回転式カッターでペレット化する。
得られるポリカーボネートの粘度平均分子量Ｍｖは２０，７００であり、初期ＹＩは１．８３である。
【００６９】
（実施例２）
実施例１において、釜残留成分のバッチ式蒸留精製を行い、初期留出分から全重量の３０％〜８５％を分取し、それ以外は実施例１と同様の条件で操作を行い、ポリカーボネートを製造する。
【００７０】
（実施例３）
実施例１において、全還流状態で、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１３ｍＬを蒸留塔頂に供給し、それ以外は実施例１と同様の操作を行って蒸留塔釜残留成分のバッチ式蒸留精製を行い、初期留出分から全重量の３０％（１，５００ｇ）までの留出分を分取する。
この分取した留出分のジフェニルカーボネート純度は８７．０１％であり、イソプロペニルフェノールは未検出である。このジフェニルカーボネートを用いて、実施例１と同様の方法でポリカーボネートを製造する。
得られるポリカーボネートの粘度平均分子量Ｍｖは２１，４００、ＹＩは１．７６である。
【００７１】
（実施例４）
実施例１において、全還流状態で、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１３ｍＬを蒸留塔頂に供給し、それ以外は実施例１と同様の操作を行って蒸留塔釜残留成分のバッチ式蒸留精製を行い、初期留出分から全重量の８７％までの留出分を分取し、それ以外は実施例１と同様の条件で操作を行い、ポリカーボネートを製造する。
実施例１〜実施例４の結果の中、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）中のイソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）量を表１に示す。
【００７２】
【表１】
【００７３】
表１に示す結果から、副生フェノールから分離され、イソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）の含有量が１００重量ｐｐｍ以下であるジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）を原料として得られるポリカーボネート樹脂は、初期色相（ＹＩ）値が小さく、色調が良好であることが分かる。
【００７４】
（比較例１〜比較例６）
実施例１において、全還流状態で、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を供給せず、それ以外は実施例１と同様の操作を行って蒸留塔釜残留成分のバッチ式蒸留精製を行い、初期留出分から表２に示す留出分をそれぞれ分取する。
このジフェニルカーボネートと予め他のジフェニルカーボネート精製工程により得られたジフェニルカーボネートとを、表２に示す割合で混合し、それ以外は、実施例１と同様の方法でポリカーボネートを製造する。
比較例１〜比較例６にけるジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）中のイソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）量を表２に示す。
【００７５】
【表２】
【００７６】
表２に示す結果から、副生フェノールから分離され、イソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）の含有量が１００重量ｐｐｍを超えるジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）と、予め他のジフェニルカーボネート精製工程により得られたジフェニルカーボネートとの混合物を原料として得られるポリカーボネート樹脂は、初期色相（ＹＩ）値が大きく、色調が劣ることが分かる。
【００７７】
以上詳述したように、本実施の形態では、未反応炭酸ジエステルを効率よくリサイクルし、且つ、色調良好なポリカーボネート樹脂が得られることが分かる。
本実施の形態において得られるポリカーボネート樹脂は、例えば、光ディスク基板、ＩＣやＬＥＤの精密電子部材の搬送容器、電子機器のハウジング等に使用する樹脂剤として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】ポリカーボネート製造方法の製造工程フロー図である。
【図２】ポリカーボネート製造方法の他の製造工程フロー図である。
【図３】ポリカーボネートの製造装置例を示す図である。
【符号の説明】
【００７９】
２ａ…第１原料混合槽、２ｂ…第２原料混合槽、３ａ，３ｂ…アンカー型撹拌翼、４ａ…原料供給ポンプ、５ａ…触媒供給口、６ａ…第１竪型反応器、６ｂ…第２竪型反応器、６ｃ…第３竪型反応器、７ａ，７ｂ，７ｃ…マックスブレンド翼、８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ…留出管、９ａ…第４横型反応器、１０ａ…撹拌翼、９１ａ…第１蒸留塔、９１ｂ…第２蒸留塔、９１ｃ…第３蒸留塔、９１ｄ…第４蒸留塔
【技術分野】
【０００１】
本発明は炭酸ジエステル組成物等に関し、より詳しくは、ポリカーボネート樹脂の製造に使用する炭酸ジエステル組成物等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、芳香族ポリカーボネート樹脂の製造方法としては、ビスフェノール類とホスゲンとを直接反応させる界面法と、ビスフェノール類と炭酸ジエステルとをエステル交換反応により重縮合反応させる溶融法が知られている。中でも、エステル交換反応による溶融法は、界面法と比較して安価に芳香族ポリカーボネート樹脂を製造することができるという利点を有している。
【０００３】
溶融法においては、ビスフェノール類と炭酸ジエステルとのエステル交換反応の際に、フェノール等の副生物が多量に生じる。また、未反応炭酸ジエステルも、所定の操作により回収する必要が生じる。このため、特許文献１では、未反応炭酸ジエステルを高純度で回収する方法について報告されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２２６５７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、溶融法においては、副生フェノールの他に、例えば、イソプロペニルフェノール等のアルキルフェノールも副生物として生じる。このようなイソプロペニルフェノールは、ポリカーボネート樹脂の色調を悪化させる原因となりやすいため、低減する必要がある。
また、未反応炭酸ジエステルは、ポリカーボネート樹脂の製造工程において副生フェノールと同伴して留出することから、効率よく精製し、ポリカーボネート樹脂の製造工程に循環供給する必要がある。
【０００６】
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、ポリカーボネート樹脂の製造工程における未反応炭酸ジエステルを効率よくリサイクルし、原料の消費と廃棄物とを低減し、且つ、色調良好なポリカーボネート樹脂を得るポリカーボネート樹脂の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
かくして本発明によれば、以下の（１）〜（１３）が提供される。
（１） 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程において、前記ポリカーボネート製造工程から、主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留により分離し、且つ、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする炭酸ジエステル組成物。
（２） 前記アルキルフェノールがイソプロペニルフェノールであることを特徴とする前記（１）に記載の炭酸ジエステル組成物。
【０００８】
（３） 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によりポリカーボネートを製造するポリカーボネート製造工程と、前記ポリカーボネート製造工程において副生する主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留する副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程と、を有し、前記副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程において前記留出液から分離し、且つ炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを前記ポリカーボネート製造工程にリサイクルすることを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
（４） 前記ポリカーボネート製造工程にリサイクルする前記炭酸ジエステルの組成物と、モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を用いて製造する炭酸ジエステルと、の混合物を、当該ポリカーボネート製造工程の原料として使用することを特徴とする前記（３）に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
（５） 前記混合物は、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が３０重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする前記（４）に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
【０００９】
（６） 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程と、前記ポリカーボネート製造工程において副生する主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留する副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程と、を有し、前記副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程は、前記副生モノヒドロキシ化合物を蒸留する第一蒸留工程と、前記第一蒸留工程で得られる蒸留残渣中に含まれる炭酸ジエステルを留出する第二蒸留工程とを、有し、前記第二蒸留工程において、前記第一蒸留工程で得られる前記蒸留残渣量の９０重量％分を蒸留塔頂から留出することを特徴とする炭酸ジエステルの精製方法。
（７） 前記第二蒸留工程において、前記第一蒸留工程の前記蒸留残渣量の５重量％分を蒸留塔頂より抜き出し、且つ、１０重量％分を蒸留塔底から抜き出し、残りを精製物とすることを特徴とする前記（６）に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
（８） 前記第二蒸留工程において塩基性物質を添加することを特徴とする前記（６）に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【００１０】
（９） 前記塩基性物質は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及び／又はこれらの酸化物、水酸化物、炭酸塩から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする前記（８）に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
（１０） 前記塩基性物質は、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムであることを特徴とする前記（８）又は前記（９）に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
（１１） 前記芳香族ジヒドロキシ化合物がビスフェノール類であることを特徴とする前記（６）乃至前記（１０）のいずれか１項に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【００１１】
（１２） 前記（６）乃至前記（１１）のいずれか１つに記載の炭酸ジエステルの精製方法で得られる炭酸ジエステルを、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程にリサイクルすることを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
（１３）前記（６）乃至前記（１１）のいずれか１つに記載の炭酸ジエステルの精製方法で得られる炭酸ジエステルとモノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物から製造される炭酸ジエステルとの混合物を、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程の原料として使用することを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ポリカーボネート樹脂の製造工程における未反応炭酸ジエステルを効率よくリサイクルし、原料の消費と廃棄物とを低減し、色調良好なポリカーボネート樹脂が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。また、使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。
【００１４】
（ポリカーボネート樹脂）
本実施の形態において使用するポリカーボネート樹脂は、ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応により製造する。
ここで、ジヒドロキシ化合物としては、芳香族ジヒドロキシ化合物が好ましい化合物として挙げられる。また、ポリカーボネート樹脂としては、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応に基づく溶融重縮合により製造する芳香族ポリカーボネート樹脂が好ましい。
以下、原料として芳香族ジヒドロキシ化合物及び炭酸ジエステルを用い、エステル交換触媒の存在下、連続的に溶融重縮合反応を行うことにより、芳香族ポリカーボネート樹脂を製造する方法（溶融法）について説明する。
【００１５】
（芳香族ジヒドロキシ化合物）
本実施の形態において使用する芳香族ジヒドロキシ化合物としては、下記一般式（１）で示される化合物が挙げられる。
【００１６】
【化１】
【００１７】
ここで、一般式（１）において、Ａは、単結合または置換されていてもよい炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状若しくは環状の２価の炭化水素基、又は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−若しくは−ＳＯ２−で示される２価の基である。Ｘ及びＹは、ハロゲン原子又は炭素数１〜６の炭化水素基である。ｐ及びｑは、０又は１の整数である。尚、ＸとＹ及びｐとｑは、それぞれ、同一でも相互に異なるものでもよい。
【００１８】
芳香族ジヒドロキシ化合物の具体例としては、例えば、ビス（４−ヒドロキシジフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビスフェノール類；４，４’−ジヒドロキシビフェニル、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニル等のビフェノ−ル類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。
これらの中でも、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（「ビスフェノールＡ」、以下、ＢＰＡと略記することがある。）が好ましい。これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は、単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。
【００１９】
（炭酸ジエステル）
本実施の形態において使用する炭酸ジエステルとしては、下記一般式（２）で示される化合物が挙げられる。
【００２０】
【化２】
【００２１】
ここで、一般式（２）中、Ａ’は、置換されていてもよい炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の１価の炭化水素基である。２つのＡ’は、同一でも相互に異なるものでもよい。
なお、Ａ’上の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜炭素数１０のアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、アミド基、ニトロ基等が例示される。
【００２２】
炭酸ジエステルの具体例としては、例えば、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネート等の置換ジフェニルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｔ−ブチルカーボネート等のジアルキルカーボネートが挙げられる。
これらの中でも、ジフェニルカーボネート（以下、ＤＰＣと略記することがある。）、置換ジフェニルカーボネートが好ましい。これらの炭酸ジエステルは、単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。
【００２３】
また、上記の炭酸ジエステルは、好ましくはその５０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以下の量を、ジカルボン酸又はジカルボン酸エステルで置換してもよい。
代表的なジカルボン酸又はジカルボン酸エステルとしては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニル等が挙げられる。このようなジカルボン酸又はジカルボン酸エステルで置換した場合には、ポリエステルカーボネートが得られる。
【００２４】
これら炭酸ジエステル（上記の置換したジカルボン酸又はジカルボン酸エステルを含む。以下同じ。）は、芳香族ジヒドロキシ化合物に対して過剰に用いられる。
即ち、芳香族ジヒドロキシ化合物に対して、通常、炭酸ジエステル１．０１〜１．３０、好ましくは１．０２〜１．２０のモル比で用いられる。モル比が過度に小さいと、得られる芳香族ポリカーボネートの末端ＯＨ基が多くなり、樹脂の熱安定性が悪化する傾向となる。また、モル比が過度に大きいと、エステル交換の反応速度が低下し、所望の分子量を有する芳香族ポリカーボネートの生産が困難となる傾向となる他、樹脂中の炭酸ジエステルの残存量が多くなり、成形加工時や成形品としたときの臭気の原因となることがあり、好ましくない。
【００２５】
（炭酸ジエステルの製造工程）
上述した炭酸ジエステルは、通常、フェノール等の芳香族モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を原料としてアルカリ系触媒の存在下の合成反応により製造する。
カルボニル化合物としては、炭酸ジエステルのカルボニル基を形成するものであれば特に限定されず、例えば、塩化カルボニル（ホスゲン）、一酸化炭素、炭酸ジアルキル等が挙げられる。中でも塩化カルボニル（ホスゲン）が好ましい。
また、アルカリ系触媒としては、ピリジン等が挙げられる。
【００２６】
合成反応の条件は特に限定されないが、芳香族モノヒドロキシ化合物としてフェノールを使用する場合は、常圧下でフェノールが溶融状態にある５０℃〜１８０℃が好ましい。また、芳香族モノヒドロキシ化合物とカルボニル化合物との混合比（モル比）は、芳香族モノヒドロキシ化合物１モルに対して、通常、カルボニル化合物０．４０モル〜０．４９モルが好ましい。
本実施の形態で使用する炭酸ジエステルは、上述したように芳香族モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を原料としてアルカリ系触媒存在下の合成反応を行う反応工程後、反応液を脱塩酸処理及び除去しきれない塩酸をアルカリ性水溶液により中和処理して水洗する洗浄工程と、さらに、蒸留工程を経て製造する。
【００２７】
（エステル交換触媒）
本実施の形態において使用するエステル交換触媒としては、通常、エステル交換法によりポリカーボネートを製造する際に用いられる触媒が挙げられ、特に限定されない。一般的には、例えば、アルカリ金属化合物、ベリリウム化合物又はマグネシウム化合物、アルカリ土類金属化合物、塩基性ホウ素化合物、塩基性リン化合物、塩基性アンモニウム化合物又はアミン系化合物等の塩基性化合物が挙げられる。
これらのエステル交換触媒の中でも、実用的にはアルカリ金属化合物が望ましい。これらのエステル交換触媒は、単独で使用してもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
エステル交換触媒の使用量は、通常、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して１×１０−９〜１×１０−１モル、好ましくは１×１０−７〜１×１０−２モルの範囲で用いられる。
【００２８】
アルカリ金属化合物としては、アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素化合物等の無機アルカリ金属化合物；アルカリ金属のアルコール類、フェノール類、有機カルボン酸類との塩等の有機アルカリ金属化合物等が挙げられる。ここで、アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムが挙げられる。
これらのアルカリ金属化合物の中でも、セシウム化合物が好ましく、特に、炭酸セシウム、炭酸水素セシウム、水酸化セシウムが好ましい。
【００２９】
ベリリウム化合物又はマグネシウム化合物としては、例えば、ベリリウム又はマグネシウムの水酸化物、炭酸塩等の無機化合物；ベリリウム又はマグネシウムのアルコール類、フェノール類、有機カルボン酸類との塩等が挙げられる。
【００３０】
アルカリ土類金属化合物としては、例えば、アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等の無機アルカリ土類金属化合物；アルカリ土類金属のアルコール類、フェノール類、有機カルボン酸類との塩等が挙げられる。ここで、アルカリ土類金属としては、カルシウム、ストロンチウム、バリウムが挙げられる。
【００３１】
塩基性ホウ素化合物としては、ホウ素化合物のナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩、ストロンチウム塩等が挙げられる。ここで、ホウ素化合物としては、例えば、テトラメチルホウ素、テトラエチルホウ素、テトラプロピルホウ素、テトラブチルホウ素、トリメチルエチルホウ素、トリメチルベンジルホウ素、トリメチルフェニルホウ素、トリエチルメチルホウ素、トリエチルベンジルホウ素、トリエチルフェニルホウ素、トリブチルベンジルホウ素、トリブチルフェニルホウ素、テトラフェニルホウ素、ベンジルトリフェニルホウ素、メチルトリフェニルホウ素、ブチルトリフェニルホウ素等が挙げられる。
【００３２】
塩基性リン化合物としては、例えば、トリエチルホスフィン、トリ−ｎ−プロピルホスフィン、トリイソプロピルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等の３価のリン化合物、又はこれらの化合物から誘導される４級ホスホニウム塩等が挙げられる。
【００３３】
塩基性アンモニウム化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルメチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリブチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリブチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、テトラフェニルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリフェニルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリフェニルアンモニウムヒドロキシド、ブチルトリフェニルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。
【００３４】
アミン系化合物としては、例えば、４−アミノピリジン、２−アミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、４−ジエチルアミノピリジン、２−ヒドロキシピリジン、２−メトキシピリジン、４−メトキシピリジン、２−ジメチルアミノイミダゾール、２−メトキシイミダゾール、イミダゾール、２−メルカプトイミダゾール、２−メチルイミダゾール、アミノキノリン等が挙げられる。
【００３５】
（芳香族ポリカーボネートの製造方法）
次に、本実施の形態が適用されるポリカーボネートの製造方法について、芳香族ポリカーボネートの製造方法を例に挙げて説明する。
図１は、ポリカーボネート製造方法の製造工程フロー図である。ここでは、ポリカーボネート樹脂を製造するポリカーボネート製造工程と原料の炭酸ジエステルを製造する炭酸ジエステル製造工程とが併設されている場合の工程フローについて説明する。
【００３６】
図１に示すように、所定の芳香族ジヒドロキシ化合物製造工程において、芳香族ポリカーボネートの原料として使用する芳香族ジヒドロキシ化合物を製造する（ステップ１０１：図１では、Ｓ１０１と表示する。以下、同様。）。また、本実施の形態では、所定の炭酸ジエステル製造工程により炭酸ジエステル化合物を製造し（ステップ１０２）、所定の炭酸ジエステル精製工程を経て精製する（ステップ１０３）。
次に、これらの原料を用いて芳香族ポリカーボネートを製造する（ポリカーボネート製造工程：ステップ１０４）。
【００３７】
芳香族ポリカーボネートの製造は、原料である芳香族ジヒドロキシ化合物及び炭酸ジエステル化合物の原料混合溶融液を調製し（原調工程）、これらの化合物を、エステル交換反応触媒の存在下、溶融状態で複数の反応器を用いて多段階で重縮合反応をさせる（重縮合工程）ことにより行う。反応方式は、バッチ式、連続式、又はバッチ式と連続式の組合せのいずれでもよい。反応器は、複数基の竪型撹拌反応器及びこれに続く少なくとも１基の横型撹拌反応器を用いる。通常、これらの反応器を直列に設置し、連続的に処理を行う。
重縮合工程後、反応を停止し、重合反応液中の未反応原料や反応副生物を脱揮除去する工程や、熱安定剤、離型剤、色剤等を添加する工程、芳香族ポリカーボネートを所定の粒径のペレットに形成する工程等を適宜追加してもよい。
次に、ポリカーボネート製造工程の各工程について説明する。
【００３８】
（原調工程）
芳香族ポリカーボネートの原料として使用する芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとは、通常、窒素、アルゴン等の不活性ガスの雰囲気下、バッチ式、半回分式または連続式の撹拌槽型の装置を用いて、原料混合溶融液として調製する。溶融混合の温度は、例えば、芳香族ジヒドロキシ化合物としてビスフェノールＡを用い、炭酸ジエステルとしてジフェニルカーボネートを用いる場合は、通常２０℃〜１８０℃、好ましくは１２５℃〜１６０℃の範囲から選択する。
この際、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの割合は、炭酸ジエステルが過剰になるように調整し、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、炭酸ジエステルは通常１．０１モル〜１．３０モル、好ましくは１．０２モル〜１．２０モルの割合になるように調整する。
【００３９】
（重縮合工程）
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステル化合物とのエステル交換反応による重縮合は、通常、２段階以上、好ましくは３段〜７段の多段方式で連続的に行う。具体的な反応条件としては、温度：１５０℃〜３２０℃、圧力：常圧〜０．０１Ｔｏｒｒ（１．３Ｐａ）、平均滞留時間：５分〜１５０分の範囲である。
多段方式の各反応器においては、重縮合反応の進行とともに副生するフェノールをより効果的に系外に除去するために、上記の反応条件内で、段階的により高温、より高真空に設定する。尚、製造する芳香族ポリカーボネートの色相等の品質低下を防止するためには、できるだけ低温、短滞留時間の設定が好ましい。
【００４０】
重縮合工程を多段方式で行う場合は、通常、竪型撹拌反応器を含む複数基の反応器を設けて、ポリカーボネート樹脂の平均分子量を増大させる。反応器は通常３基〜６基、好ましくは４基〜５基設置する。
ここで、反応器としては、例えば、撹拌槽型反応器、薄膜反応器、遠心式薄膜蒸発反応器、表面更新型二軸混練反応器、二軸横型撹拌反応器、濡れ壁式反応器、自由落下させながら重合する多孔板型反応器、ワイヤーに沿わせて落下させながら重合するワイヤー付き多孔板型反応器等を用いる。
【００４１】
竪型撹拌反応器の撹拌翼の形式としては、例えば、タービン翼、パドル翼、ファウドラー翼、アンカー翼、フルゾーン翼（神鋼パンテック（株）製）、サンメラー翼（三菱重工業（株）製）、マックスブレンド翼（住友重機械工業（株）製）、ヘリカルリボン翼、ねじり格子翼（日立製作所（株）製）等が挙げられる。
【００４２】
また、横型撹拌反応器とは、撹拌翼の回転軸が横型（水平方向）であるものをいう。横型撹拌反応器の撹拌翼としては、例えば、円板型、パドル型等の一軸タイプの撹拌翼やＨＶＲ、ＳＣＲ、Ｎ−ＳＣＲ（三菱重工業（株）製）、バイボラック（住友重機械工業（株）製）、あるいはメガネ翼、格子翼（日立製作所（株）製）等の二軸タイプの撹拌翼が挙げられる。
【００４３】
尚、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステル化合物との重縮合に使用するエステル交換触媒は、通常、予め水溶液として準備する。触媒水溶液の濃度は特に限定されず、触媒の水に対する溶解度に応じて任意の濃度に調整する。また、水に代えて、アセトン、アルコール、トルエン、フェノール等の他の溶媒を選択することもできる。
触媒の溶解に使用する水の性状は、含有する不純物の種類ならびに濃度が一定であれば特に限定されないが、通常、蒸留水や脱イオン水等が好ましい。
【００４４】
（副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程）
次に、副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程について説明する。
上述したポリカーボネート製造工程における重縮合反応の進行とともに、副生モノヒドロキシ化合物を系外に除去する。
本実施の形態において、副生モノヒドロキシ化合物は、先ず、第一蒸留工程（ステップ１０５）で、主留のモノヒドロキシ化合物を蒸留塔の塔頂から抜き出し炭酸ジエステル製造工程及び／又は芳香族ジヒドロキシ化合物製造工程にリサイクルする（ステップ１０６）。また、モノヒドロキシ化合物と分離した高沸分を蒸留塔釜残留成分として抜き出し、第二蒸留工程に送る。
第二蒸留工程（ステップ１０７）では、先ず、第一蒸留工程で分離された高沸分の５重量％未満（初留）を抜き出す。続いて、高沸分の５重量％〜９０重量％を蒸留し、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを蒸留塔の塔頂から抜き出す。また、残りは蒸留残渣として処理する。尚、この蒸留工程は回分式でも連続式でもよい。
【００４５】
第二蒸留工程で得た炭酸ジエステルは、炭酸ジエステル精製工程に循環供給し（炭酸ジエステルリサイクル工程：ステップ１０８）、所定の蒸留操作を経てポリカーボネート製造工程の原料として使用する。
ここで、第一蒸留工程の条件は特に限定されないが、通常、炭酸ジエステルがジフェニルカーボネートである場合、塔頂温度１００℃〜１５０℃、圧力１００Ｔｏｒｒ〜３００Ｔｏｒｒである。また、第二蒸留工程の条件は特に限定されないが、通常、塔頂温度８０℃〜１２０℃、圧力３０Ｔｏｒｒ〜８０Ｔｏｒｒである。
【００４６】
このように、第二蒸留工程で５重量％未満の留出分を除去することにより、第一蒸留工程で得られる高沸物中に含まれる炭酸ジエステル以外の成分の大部分を除去することができる。
第一蒸留工程で得られる高沸物中に含まれる炭酸ジエステル以外の成分としては、例えば、フェノールや炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールが挙げられる。アルキルフェノールの具体的としては、イソプロペニルフェノール等が挙げられる。
【００４７】
本実施の形態では、上述した蒸留操作により、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が、１００重量ｐｐｍ以下、好ましくは５０重量ｐｐｍ以下、さらに好ましくは３０重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを得ることができる。
特に、イソプロペニルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下に低減した炭酸ジエステルをポリカーボネート製造工程における原料として使用することにより、得られるポリカーボネート樹脂の色調低下を防止することができる。
【００４８】
次に、ポリカーボネート製造工程と炭酸ジエステル製造工程とが併設されていない場合の工程フローについて説明する。
図２は、ポリカーボネート製造方法の他の製造工程フロー図である。図２に示すように、芳香族ジヒドロキシ化合物は、前述したように所定の製造工程（芳香族ジヒドロキシ化合物製造工程）において製造する（ステップ２０１：図２では、Ｓ２０１と表示する。以下、同様。）。又、本実施の形態では、炭酸ジエステル化合物は、他炭酸ジエステル製造工程により製造する（ステップ２０２）。次に、これらの原料を用いて芳香族ポリカーボネートを製造する（ポリカーボネート製造工程：ステップ２０３）。
一方、重縮合反応の進行とともに副生モノヒドロキシ化合物を系外に除去する。副生モノヒドロキシ化合物は、副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程において、第一蒸留工程（ステップ２０４）で、モノヒドロキシ化合物を蒸留塔の塔頂から抜き出し芳香族ジヒドロキシ化合物製造工程及び／又は他炭酸ジエステル製造工程にリサイクルする（ステップ２０５）。また、モノヒドロキシ化合物と分離した高沸分を第二蒸留工程に送る。
第二蒸留工程（ステップ２０６）では、先ず、第一蒸留工程で分離された高沸分の５重量％未満（初留）を抜き出す。続いて、高沸分の５重量％〜９０重量％を蒸留し、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを蒸留塔の塔頂から抜き出す。尚、残りは蒸留残渣として処理する。尚、この蒸留工程は回分式でも連続式でもよい。
【００４９】
本実施の形態において、第二蒸留工程で蒸留塔の塔頂から抜き出した炭酸ジエステルは、前述したポリカーボネート製造工程における原料として循環供給する（炭酸ジエステルリサイクル工程：ステップ２０７）。
このようなリサイクルする炭酸ジエステルと、予め他炭酸ジエステル製造工程で製造した合成炭酸ジエステルとの混合物は、炭酸ジエステル以外の成分の含有量が大幅に低減された原料としてポリカーボネート製造工程で使用することができる。
このとき、また、ポリカーボネート製造工程に用いるリサイクル炭酸ジエステルと、予め他炭酸ジエステル製造工程で製造した合成炭酸ジエステルとの混合物中に含まれるアルキルフェノールの含有量は特に限定されないが、炭酸ジエステルに対し３０重量ｐｐｍ以下、好ましくは２０重量ｐｐｍ以下である。
特に、イソプロペニルフェノールの含有量が３０重量ｐｐｍ以下に低減した炭酸ジエステル混合物を原料として使用することにより、ポリカーボネートの色調低下を防止することができる。
【００５０】
本実施の形態では、副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程において塩基性物質を添加し、副生モノヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを分離することが好ましい。
ここで、塩基性物質としては特に限定されないが、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及びこれらの酸化物、水酸化物、炭酸塩等が挙げられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。これらの塩基性物質は、それぞれ単独で使用することができ、また、複数の塩基性物質を用いることができる。
副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程における塩基性物質の添加量は、特に限定されないが、通常０．１重量ｐｐｍ〜１重量％、好ましくは、１重量ｐｐｍ〜１０００重量ｐｐｍ、より好ましくは、１０重量ｐｐｍ〜２００重量ｐｐｍである。
【００５１】
（製造装置）
次に、図面に基づき、本実施の形態が適用される芳香族ポリカーボネートの製造方法の一例を具体的に説明する。
図３は、芳香族ポリカーボネートの製造装置の一例を示す図である。図３に示す製造装置において、芳香族ポリカーボネートは、原料の芳香族ジヒドロキシ化合物及び炭酸ジエステル化合物を調製する原調工程と、これらの原料を溶融状態で複数の反応器を用いて重縮合反応する重縮合工程とを経て製造する。
その後、反応を停止させ重合反応液中の未反応原料や反応副生物を脱揮除去する工程（図示せず）や、熱安定剤、離型剤、色剤等を添加する工程（図示せず）、芳香族ポリカーボネートを所定の粒径のペレットに形成する工程（図示せず）を経て、芳香族ポリカーボネートのペレットを成形する。
【００５２】
原調工程においては、直列に接続した第１原料混合槽２ａ及び第２原料混合槽２ｂと、調製した原料を重縮合工程に供給するための原料供給ポンプ４ａとを設けている。第１原料混合槽２ａと第２原料混合槽２ｂとには、例えばアンカー型撹拌翼３ａ，３ｂをそれぞれ設けている。
また、第１原料混合槽２ａには、ＤＰＣ供給口１ａ−１から、炭酸ジエステルであるジフェニルカーボネート（以下、ＤＰＣと記載することがある。）を溶融状態で供給し、ＢＰＡ供給口１ｂからは、芳香族ジヒドロキシ化合物であるビスフェノールＡ（以下、ＢＰＡと記載することがある。）を粉末状態で供給し、溶融したジフェニルカーボネートにビスフェノールＡを溶解する。
【００５３】
次に、重縮合工程においては、直列に接続した第１竪型反応器６ａ、第２竪型反応器６ｂ及び第３竪型反応器６ｃと、第３竪型反応器６ｃの後段に直列に接続した第４横型反応器９ａとを設けている。第１竪型反応器６ａ、第２竪型反応器６ｂ及び第３竪型反応器６ｃには、マックスブレンド翼７ａ，７ｂ，７ｃがそれぞれ設け、また、第４横型反応器９ａには、撹拌翼１０ａを設けている。
また、４基の反応器には、それぞれ重縮合反応により生成する副生物等を排出するための留出管８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを取り付けている。
さらに、留出管８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄを経由して留出した副生フェノール等を精製するための、第１蒸留塔９１ａと第２蒸留塔９１ｂ、及び、第２蒸留塔９１ｂの蒸留塔釜残留成分を蒸留する第３蒸留塔９１ｃが設けている。
【００５４】
図３に示す芳香族ポリカーボネートの製造装置において、窒素ガス雰囲気下、所定の温度で調製したＤＰＣ溶融液と、窒素ガス雰囲気下で計量したＢＰＡ粉末とを、それぞれＤＰＣ供給口１ａ−１とＢＰＡ供給口１ｂから第１原料混合槽２ａに連続的に供給する。第１原料混合槽２ａの液面が移送配管中の最高位と同じ高さを超えると、原料混合物が第２原料混合槽２ｂに移送される。
【００５５】
次に、原料混合物を、原料供給ポンプ４ａを経由して第１竪型反応器６ａに連続的に供給する。また触媒として、水溶液状の炭酸セシウムを、原料混合物の移送配管途中の触媒供給口５ａから連続的に供給する。
第１竪型反応器６ａでは、窒素雰囲気下、例えば、温度２２０℃、圧力１３．３３ｋＰａ（１００Ｔｏｒｒ）、撹拌翼の回転数を１６０ｒｐｍに保持し、副生したフェノールを留出管８ａから留出させながら平均滞留時間６０分になるように液面レベルを一定に保ち、重縮合反応を行う。
【００５６】
次に、第１竪型反応器６ａより排出した重合反応液を、引き続き、第２竪型反応器６ｂ、第３竪型反応器６ｃ、第４横型反応器９ａに順次連続供給し、重縮合反応を進行させる。各反応器における反応条件は、重縮合反応の進行とともに高温、高真空、低撹拌速度となるようにそれぞれ設定する。重縮合反応の間、各反応器における平均滞留時間は、例えば、６０分程度になるように液面レベルを制御する。また各反応器においては、副生するフェノールが留出管８ｂ，８ｃ，８ｄから留出する。
【００５７】
本実施の形態においては、第１竪型反応器６ａ〜第４横型反応器９ａにそれぞれ取り付けた留出管８ｂ，８ｃ，８ｄから、重縮合反応において副生するフェノールが留出する。
副生フェノールは、第一蒸留工程において、２基の蒸留塔（第１蒸留塔９１ａ，第２蒸留塔９１ｂ）を使用して主留（フェノール）と高沸分（略、ＤＰＣ）とを分離する。即ち、副生フェノールは、先ず、第１蒸留塔９１ａにて塔頂配管９２ａから初留を抜き出す。次に、第１蒸留塔９１ａで所流を抜き出した残りの留分は、塔底配管９３ａを介して引き続き第２蒸留塔９１ｂに送られ、第２蒸留塔９１ｂの塔頂配管９２ｂから主留（フェノール）を抜き出し、塔底配管９３ｂから高沸分（略、ＤＰＣ）を蒸留塔釜残留成分として抜き出す。
【００５８】
次に、第二蒸留工程において、２基の蒸留塔（第３蒸留塔９１ｃ，第４蒸留塔９１ｄ）を使用して炭酸ジエステル（ＤＰＣ）を蒸留する。即ち、先ず、第３蒸留塔９１ｃで、第２蒸留塔９１ｂの塔底配管９３ｂから抜き出した高沸分（略、ＤＰＣ）の５重量％未満（初留）を塔頂配管９２ｃから抜き出す。
続いて、第４蒸留塔９１ｄで、塔底配管９３ｃを介して送られた高沸分の５重量％〜９０重量％を蒸留し、塔頂配管９２ｄから、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを抜き出す。尚、残りは塔底配管９３ｄから蒸留残渣として排出する。第４蒸留塔９１ｄの塔頂から留出した炭酸ジエステル（ＤＰＣ）は、塔頂配管９２ｄにより、ＤＰＣ供給口１ａ−１を経て、第１原料混合槽２ａに循環供給する。
【実施例】
【００５９】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例に限定されるものではない。尚、得られるポリカーボネート樹脂の物性は、下記の方法により測定する。
（１）粘度平均分子量（Ｍｖ）
ポリカーボネート樹脂をジクロロメタンに溶解し、濃度（Ｃ）６００ｇ／Ｌの溶液を調製する。次に、ウベローデ型毛細管粘度計を用いて、温度２０℃に設定する恒温水槽中で、溶媒（ジクロロメタン）の流下速度（ｔ０）と試料溶液の流下速度（ｔ）を測定し、以下の式に従い、粘度平均分子量（Ｍｖ）を求める。
ηｓｐ＝（ｔ／ｔ０）−１
ａ＝０．２８×ηｓｐ＋１
ｂ＝１０×（ηｓｐ／Ｃ）
［η］＝ｂ／ａ
Ｍｖ＝５１４００×［η］ｅｘｐ１．２０５
【００６０】
（２）初期色相（ＹＩ）の測定
ポリカーボネート樹脂を窒素雰囲気下、１２０℃で６時間の乾燥後、射出成形機（株式会社日本製鋼所製Ｊ−１００）により３６０℃で調製した３ｍｍ厚の射出成形片について、カラーテスター（スガ試験機株式会社製ＳＣ−１−ＣＨ）を用いてＹＩ値を測定する。ＹＩ値が大きいほど着色していることを示す。
【００６１】
（３）イソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）量
ジフェニルカーボネート組成物に含まれるイソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）量は、液体クロマトグラフィーで定量分析し、ジフェニルカーボネート組成物に対する重量比で表す。
【００６２】
（４）ポリカーボネート樹脂製造装置の運転
図３に示す製造装置において、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）とビスフェノールＡ（ＢＰＡ）とを窒素ガス雰囲気下、（ＤＰＣ／ＢＰＡ）０．９７７重量比で溶融混合し原料混合物を得る。次に、この原料混合物を窒素雰囲気下、２１０℃、１００Ｔｏｒｒに制御した第１縦型反応器６ａ内に連続供給し、平均滞留時間が６０分になるように槽底部のポリマー排出ラインに設けられたバルブ開度を制御しつつ液面レベルを一定に保つ。
また、第１縦型反応器６ａ内に原料混合物の供給を開始すると同時に、触媒として炭酸セシウム水溶液をビスフェノールＡ１モルに対し、０．５×１０−６モルの流量で連続供給する。
【００６３】
第１縦型反応器６ａの槽底から排出した重合反応液を、引き続き第２縦型反応器６ｂ、第３縦型反応器６ｃ並びに第４横型反応器９ａに逐次連続供給する。重合反応の間、各反応器の平均滞留時間が６０分になるように液面レベルを制御し、また同時に副生するフェノールの留去も行う。
反応器より蒸発するガスは、それぞれ多段凝縮器で凝縮液化され、一部を各反応器に還流し、残りを副生フェノールタンクに回収する。各反応器の重合条件は以下の通りである。
（第１縦型反応器６ａ）２１０℃、１００Ｔｏｒｒ
（第２縦型反応器６ｂ）２４０℃、１５Ｔｏｒｒ
（第３縦型反応器６ｃ）２６０℃、０．５Ｔｏｒｒ
（第４横型反応器９ａ）２８０℃、０．５Ｔｏｒｒ
【００６４】
第４横型反応器９ａの槽底から抜き出した溶融状態のポリマーを２軸の押出機（株式会社神戸製鋼所製、スクリュー径０．０４６ｍ、Ｌ／Ｄ＝４０．２）に導入し、ポリカーボネート当たり５重量ｐｐｍ相当のｐ−トルエンスルホン酸ブチルを連続的に添加しながらペレット化する。
得られたポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量Ｍｖは２１，０００であり、初期ＹＩは１．７である。
【００６５】
上述したポリカーボネート樹脂の製造工程にて回収する副生フェノールを第１蒸留塔９１ａ（塔頂温度１４０℃、圧力２００Ｔｏｒｒ）にて低沸点成分（主として水分）を除いた後、第２蒸留塔９１ｂ（塔頂温度１０５℃、圧力５０Ｔｏｒｒ）にてフェノールを塔頂から抜き出し、蒸留塔釜残留成分を得る。
この蒸留塔釜残留成分の組成は、フェノール１．９重量％、ビスフェノールＡ１．３重量％、ジフェニルカーボネート９０．４重量％、その他６．４重量％である。
【００６６】
（実施例１）
上述したポリカーボネート樹脂の製造工程において、第２蒸留塔９１ｂにて得られた蒸留塔釜残留成分約５，３００ｇを、スルーザーパッキング（住友重機工業株式会社製）を充填した理論段数８段の蒸留塔釜部に仕込み、バッチ式で蒸留精製を行う。
蒸留精製は、真空度２０Ｔｏｒｒ〜１５Ｔｏｒｒ、還流比１の条件で徐々に熱媒温度を上昇させる。初期留出分から全重量の３０％（１，５００ｇ）を分取する。
この分取した留出分中のジフェニルカーボネート純度は８７．４４％であり、イソプロペニルフェノールは３６重量ｐｐｍである。
【００６７】
前述の留出分（ジフェニルカーボネート８７．４４％、イソプロペニルフェノール３６重量ｐｐｍ）とジフェニルカーボネート・フレーク（三菱化学株式会社製）とを混合し、重量比が４５／５５であるＤＰＣ混合物を調製する。このＤＰＣ混合物３０．７ｍｏｌと、炭酸セシウム水溶液（触媒：炭酸セシウム０．５（μｍｏｌ／ビスフェノールＡ−ｍｏｌ））とを、１００℃に制御した４０Ｌ第１反応器に供給し、次いで、ビスフェノールＡ（三菱化学株式会社製）２９．３ｍｏｌを供給する。
４０Ｌ第１反応器内を１０ｔｏｒｒにし、次いで、窒素で大気圧にする操作を５回繰り返し、内部を窒素置換する。次に、温度２３０℃の熱媒を通じて昇温し、前述のＤＰＣ混合物を溶解させた後、３００ｒｐｍで撹拌し、内温を２２０℃に保ちながら、４０分間かけて４０Ｌ第１反応器内の圧力を７６０ｔｏｒｒから１００ｔｏｒｒに減圧する。
【００６８】
続いて、４０Ｌ第１反応器内の圧力を１００ｔｏｒｒに保持したまま、フェノールを留去させながら８０分オリゴマー化反応を行う。オリゴマー化終了後、系内を窒素で０．２ＭＰａに復圧し、このオリゴマーを、３００℃に制御した４０Ｌ第２反応器（大気圧）に圧送する。
続いて、この４０Ｌ第２反応器内を大気圧にまで放圧し、３８ｒｐｍで撹拌しながら、系内を減圧にする。４０Ｌ第２反応器内の圧力が０．５ｔｏｒｒに到達後、０．５ｔｏｒｒを保持したまま９０分間縮合反応を行い、重合反応を行う。４０Ｌ第２反応器内の最終的な内部温度は２８０℃である。
重合反応終了後、４０Ｌ第２反応器内を窒素で復圧し、槽底からポリカーボネートポリマーをストランド状で抜き出し、回転式カッターでペレット化する。
得られるポリカーボネートの粘度平均分子量Ｍｖは２０，７００であり、初期ＹＩは１．８３である。
【００６９】
（実施例２）
実施例１において、釜残留成分のバッチ式蒸留精製を行い、初期留出分から全重量の３０％〜８５％を分取し、それ以外は実施例１と同様の条件で操作を行い、ポリカーボネートを製造する。
【００７０】
（実施例３）
実施例１において、全還流状態で、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１３ｍＬを蒸留塔頂に供給し、それ以外は実施例１と同様の操作を行って蒸留塔釜残留成分のバッチ式蒸留精製を行い、初期留出分から全重量の３０％（１，５００ｇ）までの留出分を分取する。
この分取した留出分のジフェニルカーボネート純度は８７．０１％であり、イソプロペニルフェノールは未検出である。このジフェニルカーボネートを用いて、実施例１と同様の方法でポリカーボネートを製造する。
得られるポリカーボネートの粘度平均分子量Ｍｖは２１，４００、ＹＩは１．７６である。
【００７１】
（実施例４）
実施例１において、全還流状態で、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１３ｍＬを蒸留塔頂に供給し、それ以外は実施例１と同様の操作を行って蒸留塔釜残留成分のバッチ式蒸留精製を行い、初期留出分から全重量の８７％までの留出分を分取し、それ以外は実施例１と同様の条件で操作を行い、ポリカーボネートを製造する。
実施例１〜実施例４の結果の中、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）中のイソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）量を表１に示す。
【００７２】
【表１】
【００７３】
表１に示す結果から、副生フェノールから分離され、イソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）の含有量が１００重量ｐｐｍ以下であるジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）を原料として得られるポリカーボネート樹脂は、初期色相（ＹＩ）値が小さく、色調が良好であることが分かる。
【００７４】
（比較例１〜比較例６）
実施例１において、全還流状態で、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を供給せず、それ以外は実施例１と同様の操作を行って蒸留塔釜残留成分のバッチ式蒸留精製を行い、初期留出分から表２に示す留出分をそれぞれ分取する。
このジフェニルカーボネートと予め他のジフェニルカーボネート精製工程により得られたジフェニルカーボネートとを、表２に示す割合で混合し、それ以外は、実施例１と同様の方法でポリカーボネートを製造する。
比較例１〜比較例６にけるジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）中のイソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）量を表２に示す。
【００７５】
【表２】
【００７６】
表２に示す結果から、副生フェノールから分離され、イソプロペニルフェノール（ＩＰＰ）の含有量が１００重量ｐｐｍを超えるジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）と、予め他のジフェニルカーボネート精製工程により得られたジフェニルカーボネートとの混合物を原料として得られるポリカーボネート樹脂は、初期色相（ＹＩ）値が大きく、色調が劣ることが分かる。
【００７７】
以上詳述したように、本実施の形態では、未反応炭酸ジエステルを効率よくリサイクルし、且つ、色調良好なポリカーボネート樹脂が得られることが分かる。
本実施の形態において得られるポリカーボネート樹脂は、例えば、光ディスク基板、ＩＣやＬＥＤの精密電子部材の搬送容器、電子機器のハウジング等に使用する樹脂剤として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】ポリカーボネート製造方法の製造工程フロー図である。
【図２】ポリカーボネート製造方法の他の製造工程フロー図である。
【図３】ポリカーボネートの製造装置例を示す図である。
【符号の説明】
【００７９】
２ａ…第１原料混合槽、２ｂ…第２原料混合槽、３ａ，３ｂ…アンカー型撹拌翼、４ａ…原料供給ポンプ、５ａ…触媒供給口、６ａ…第１竪型反応器、６ｂ…第２竪型反応器、６ｃ…第３竪型反応器、７ａ，７ｂ，７ｃ…マックスブレンド翼、８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ…留出管、９ａ…第４横型反応器、１０ａ…撹拌翼、９１ａ…第１蒸留塔、９１ｂ…第２蒸留塔、９１ｃ…第３蒸留塔、９１ｄ…第４蒸留塔
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程において、
前記ポリカーボネート製造工程から、主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留により分離し、且つ、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする炭酸ジエステル組成物。
【請求項２】
前記アルキルフェノールがイソプロペニルフェノールであることを特徴とする請求項１に記載の炭酸ジエステル組成物。
【請求項３】
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によりポリカーボネートを製造するポリカーボネート製造工程と、
前記ポリカーボネート製造工程において副生する主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留する副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程と、を有し、
前記副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程において前記留出液から分離し、且つ炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを前記ポリカーボネート製造工程にリサイクルする
ことを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
【請求項４】
前記ポリカーボネート製造工程にリサイクルする前記炭酸ジエステルの組成物と、モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を用いて製造する炭酸ジエステルと、の混合物を、当該ポリカーボネート製造工程の原料として使用することを特徴とする請求項３に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
【請求項５】
前記混合物は、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が３０重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項４に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
【請求項６】
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程と、
前記ポリカーボネート製造工程において副生する主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留する副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程と、を有し、
前記副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程は、
前記副生モノヒドロキシ化合物を蒸留する第一蒸留工程と、
前記第一蒸留工程で得られる蒸留残渣中に含まれる炭酸ジエステルを留出する第二蒸留工程とを、有し、
前記第二蒸留工程において、前記第一蒸留工程で得られる前記蒸留残渣量の９０重量％分を蒸留塔頂から留出する
ことを特徴とする炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項７】
前記第二蒸留工程において、前記第一蒸留工程の前記蒸留残渣量の５重量％分を蒸留塔頂より抜き出し、且つ、１０重量％分を蒸留塔底から抜き出し、残りを精製物とすることを特徴とする請求項６に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項８】
前記第二蒸留工程において塩基性物質を添加することを特徴とする請求項６に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項９】
前記塩基性物質は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及び／又はこれらの酸化物、水酸化物、炭酸塩から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項８に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項１０】
前記塩基性物質は、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムであることを特徴とする請求項８又は９に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項１１】
前記芳香族ジヒドロキシ化合物がビスフェノール類であることを特徴とする請求項６乃至１０のいずれか１項に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項１２】
請求項６乃至１１のいずれか１項に記載の炭酸ジエステルの精製方法で得られる炭酸ジエステルを、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程にリサイクルすることを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
【請求項１３】
請求項６乃至１１のいずれか１項に記載の炭酸ジエステルの精製方法で得られる炭酸ジエステルとモノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物から製造される炭酸ジエステルとの混合物を、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程の原料として使用することを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
【請求項１】
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程において、
前記ポリカーボネート製造工程から、主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留により分離し、且つ、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする炭酸ジエステル組成物。
【請求項２】
前記アルキルフェノールがイソプロペニルフェノールであることを特徴とする請求項１に記載の炭酸ジエステル組成物。
【請求項３】
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によりポリカーボネートを製造するポリカーボネート製造工程と、
前記ポリカーボネート製造工程において副生する主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留する副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程と、を有し、
前記副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程において前記留出液から分離し、且つ炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が１００重量ｐｐｍ以下である炭酸ジエステルを前記ポリカーボネート製造工程にリサイクルする
ことを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
【請求項４】
前記ポリカーボネート製造工程にリサイクルする前記炭酸ジエステルの組成物と、モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を用いて製造する炭酸ジエステルと、の混合物を、当該ポリカーボネート製造工程の原料として使用することを特徴とする請求項３に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
【請求項５】
前記混合物は、炭素数１〜炭素数５のアルキル基を有するアルキルフェノールの含有量が３０重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項４に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
【請求項６】
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程と、
前記ポリカーボネート製造工程において副生する主に副生モノヒドロキシ化合物を含有する留出液を蒸留する副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程と、を有し、
前記副生モノヒドロキシ化合物蒸留工程は、
前記副生モノヒドロキシ化合物を蒸留する第一蒸留工程と、
前記第一蒸留工程で得られる蒸留残渣中に含まれる炭酸ジエステルを留出する第二蒸留工程とを、有し、
前記第二蒸留工程において、前記第一蒸留工程で得られる前記蒸留残渣量の９０重量％分を蒸留塔頂から留出する
ことを特徴とする炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項７】
前記第二蒸留工程において、前記第一蒸留工程の前記蒸留残渣量の５重量％分を蒸留塔頂より抜き出し、且つ、１０重量％分を蒸留塔底から抜き出し、残りを精製物とすることを特徴とする請求項６に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項８】
前記第二蒸留工程において塩基性物質を添加することを特徴とする請求項６に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項９】
前記塩基性物質は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及び／又はこれらの酸化物、水酸化物、炭酸塩から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項８に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項１０】
前記塩基性物質は、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムであることを特徴とする請求項８又は９に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項１１】
前記芳香族ジヒドロキシ化合物がビスフェノール類であることを特徴とする請求項６乃至１０のいずれか１項に記載の炭酸ジエステルの精製方法。
【請求項１２】
請求項６乃至１１のいずれか１項に記載の炭酸ジエステルの精製方法で得られる炭酸ジエステルを、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程にリサイクルすることを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
【請求項１３】
請求項６乃至１１のいずれか１項に記載の炭酸ジエステルの精製方法で得られる炭酸ジエステルとモノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物から製造される炭酸ジエステルとの混合物を、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換反応によるポリカーボネート製造工程の原料として使用することを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００８−２３９６５０（Ｐ２００８−２３９６５０Ａ）
【公開日】平成２０年１０月９日（２００８．１０．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−７７８２９（Ｐ２００７−７７８２９）
【出願日】平成１９年３月２３日（２００７．３．２３）
【出願人】（０００００５９６８）三菱化学株式会社 (4,356)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１０月９日（２００８．１０．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年３月２３日（２００７．３．２３）
【出願人】（０００００５９６８）三菱化学株式会社 (4,356)
【Ｆターム（参考）】
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