磁気転写装置および磁気記録媒体の製造方法
【課題】磁気記録媒体およびマスター情報担体を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付けることができ、歩留まりよく磁気記録媒体に磁気転写できる磁気転写装置を提供する。
【解決手段】情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体２０２の磁化を消磁する消磁手段１５と、マスター情報担体２０２と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体１とを密着させて、マスター情報担体２０２側から外部磁界を印加することにより、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写手段１４とを備える磁気転写装置とする。
【解決手段】情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体２０２の磁化を消磁する消磁手段１５と、マスター情報担体２０２と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体１とを密着させて、マスター情報担体２０２側から外部磁界を印加することにより、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写手段１４とを備える磁気転写装置とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気転写装置および磁気記録媒体の製造方法に関するものであり、より詳しくは、ハードディスク装置等の磁気記録再生装置に用いられる磁気記録媒体を製造する際に好適に用いられる磁気転写装置およびこれを用いた磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録媒体にサーボ信号等の情報信号の書き込みを行う方法として、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体を用い、このマスター情報担体に書き込まれた情報信号を磁気記録媒体に一括して磁気転写する方法が提案されている。
例えば、特許文献１には、基体の表面に情報信号に対応する凹凸形状が形成され、この凹凸形状の少なくとも凸部表面が強磁性材料により構成されるマスター情報坦体表面を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉塗布層が形成されたシート状もしくはディスク状磁気記録媒体の表面に接触させることにより、マスター情報坦体表面の凹凸形状に対応する磁化パターンを磁気記録媒体に記録する技術が記載されている。
【０００３】
マスター情報担体を用いて磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する場合、通常、磁気転写装置に、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付け、転写用のエネルギーとして外部から磁界を加え、マスター情報担体に書き込まれた情報信号を磁気記録媒体に磁気転写している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の磁気転写装置では、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付ける際に、磁気記録媒体および／またはマスター情報担体に傷が付いてしまう場合があった。
このため、磁気記録媒体およびマスター情報担体を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付けることができ、歩留まりよく磁気記録媒体に磁気転写できる磁気転写装置を提供することが要求されていた。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、磁気記録媒体およびマスター情報担体を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付けることができ、歩留まりよく磁気記録媒体に磁気転写できる磁気転写装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、磁気記録媒体およびマスター情報担体を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付けることができ、歩留まりよく製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付ける際に、磁気記録媒体および／またはマスター情報担体に傷が付く原因について、以下に示すように鋭意検討を行った。
磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付ける場合には、通常、マスター情報担体と磁気記録媒体とを対向配置させて、両者の間隔を徐々に近づけて密着させる。
【０００８】
磁気転写装置に取り付けられるマスター情報担体が磁化されているものである場合、両者の間隔を徐々に近づけていくことにより、対向配置されたマスター情報担体と磁気記録媒体との間に磁力に起因する吸引力が働くようになる。この吸引力は、徐々に近づけられていく両者の間隔を不安定とさせるものであるため、磁気記録媒体および／またはマスター情報担体が所定外に動いて、両者の間隔が十分に近づく前に一部のみ密着されてしまったり、マスター情報担体の一部と磁気記録媒体の一部とが衝突したりして、磁気記録媒体および／またはマスター情報担体に傷が付く場合があることが明らかとなった。
【０００９】
そこで、本発明者は、マスター情報担体の磁化に着目して鋭意検討を重ねた。その結果、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付ける前に、マスター情報担体の磁化を消磁して、マスター情報担体と磁気記録媒体との間に磁力に起因する吸引力が生じることを防止すればよいことを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は以下に関する。
【００１０】
（１）情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁手段と、前記マスター情報担体と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体とを密着させて、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加することにより、前記磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する磁気転写手段とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
（２）前記消磁手段が、前記マスター情報担体に近接配置される電磁石と、前記電磁石に電圧を印加する手段とを備えていることを特徴とする（１）に記載の磁気転写装置。
【００１１】
（３）情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁工程と、前記マスター情報担体と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体とを密着させて、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加することにより、前記磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する磁気転写工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（４）前記消磁工程が、前記マスター情報担体に電磁石を近接配置して、前記電磁石に電圧を印加することにより、前記マスター情報担体の磁化を消磁する工程であることを特徴とする（３）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の磁気転写装置は、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁手段を備えるものであるので、磁気記録媒体に情報信号を磁気転写するために、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させる前に、マスター情報担体の磁化を消磁することが可能なものとなる。したがって、本発明の磁気転写装置を用いて、磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する場合、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させる際に、マスター情報担体と磁気記録媒体との間に磁力に起因する吸引力が生じることを防止することができる。
【００１３】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁気記録媒体に情報信号を磁気転写するために、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させる前に、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁工程を備えているので、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させる際に、マスター情報担体と磁気記録媒体との間に磁力に起因する吸引力が生じることを防止することができる。
【００１４】
したがって、本発明の磁気転写装置および磁気記録媒体の製造方法によれば、磁気記録媒体およびマスター情報担体を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて容易に取り付けることができ、歩留まりよく磁気記録媒体に情報信号を磁気転写できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の磁気転写装置の一例を説明するための断面模式図である。
【図２】本発明の磁気転写装置を用いる本発明の磁気記録媒体の製造方法において磁気転写される磁気記録媒体の一例を示した断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の磁気転写装置および磁気記録媒体の製造方法を、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を模式的に示している場合があり、各部の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００１７】
「磁気転写装置」
図１は、本発明の磁気転写装置の一例を説明するための断面模式図である。図１は、磁気記録媒体１の両面に磁気転写を行う装置の例であり、固定ホルダ３０及び可動ホルダ４０に、それぞれマスター情報担体２００が取り付けられ、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２の表面に、磁気記録媒体１が取り付けられた状態を示している。また、磁気記録媒体１の片面のみに磁気転写を行う装置の場合は、マスター情報担体２００の一方を単なる押し板にし、または、稼働ホルダ４０およびそれに取り付けたマスター情報担体２００を省略することができる。
磁気記録媒体１は、非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成されたものである。また、マスター情報担体２００は、情報信号に対応するサーボ・パターン、セルフサーボ・パターンなどの転写パターンが形成されたものである。なお、セルフサーボ・パターンとは、ハードディスク装置がサーボ・パターンを生成するのに用いるパターンである。
【００１８】
図１に示す磁気転写装置は、消磁手段１５と、磁気転写手段１４とを備えている。
本実施形態の消磁手段１５は、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２の磁化を消磁するものである。なお、消磁手段１５は、２枚のマスター情報担体２００のうち、少なくとも磁気記録媒体１を保持する側のマスター情報担体２０２の磁化を消磁するものであればよく、本実施形態のように磁気記録媒体１を保持する側のマスター情報担体２０２の磁化のみを消磁するものであってもよいし、２枚のマスター情報担体２００の両方の磁化を消磁するものであってもよい。
消磁手段１５は、マスター情報担体２００に近接配置される電磁石（図示略）と、電磁石に電圧を印加する配線などからなる手段とを備えている。
【００１９】
また、本実施形態の磁気転写装置は、消磁手段１５を移動させる移動手段（図示略）を備えている。そして、移動手段によって、マスター情報担体２００の磁化を消磁する消磁工程を行う際に、マスター情報担体２００の表面に磁気記録媒体１を保持しない状態で、磁気転写手段１４の固定ホルダ３０と、固定ホルダ３０に対向して配置された可動ホルダ４０との間に消磁手段１５が移動されて、消磁手段１５の電磁石がマスター情報担体２００に近接配置できるようになっている。また、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写工程を行う際には、移動手段によって、消磁手段１５が移動されて、磁気転写手段１４から十分に離れた位置に消磁手段１５が退避されるようになっている。したがって、本実施形態の磁気転写装置においては、消磁手段１５が備えられていることによって磁気転写工程が妨げられないようになっている。
【００２０】
磁気転写手段１４は、マスター情報担体２００と磁気記録媒体１とを密着させて、マスター情報担体２００側から外部磁界を印加することにより、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写するものである。
【００２１】
図１に示す磁気転写手段１４は、図示しない基台に固定されている。磁気転写手段１４は、固定ホルダ３０と、固定ホルダ３０に対向して配置された可動ホルダ４０とを備えている。そして、図１に示すように、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２と、可動ホルダ４０に取り付けられたマスター情報担体２０１とは、互いに対向した状態で配置されている。
【００２２】
固定ホルダ３０は、マスター情報担体２０２を保持する記録体保持部３０ａと、記録体保持部３０ａを貫通して設けられた第１吸引路３１および第２吸引路３２とを備えている。また、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２には、２つの開口２００ａ、２００ｂが設けられている。
【００２３】
第１吸引路３１は、記録体保持部３０ａに磁気記録媒体１を保持するためのものであり、記録体保持部３０ａのマスター情報担体２０２が取り付けられる保持面３５におけるマスター情報担体２０２の取り付け位置に、開口を有するものである。図１に示すように、第１吸引路３１の開口は、固定ホルダ３０にマスター情報担体２０２が取り付けられた際に、マスター情報担体２０２の開口２００ａ、２００ｂと平面視で重なり合うように配置されている。
【００２４】
第２吸引路３２は、記録体保持部３０ａの保持面３５におけるマスター情報担体２０２の取り付け位置の外側に開口を備えている。第２吸引路３２は、磁気転写工程の際に固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間に形成される空間を真空にするためのものである。
また、固定ホルダ３０は、図１に示すように、記録体保持部３０ａの保持面３５の第２吸引路３２の開口よりも外側に、周方向に沿って取り付けられたＯリング３３を備えている。
【００２５】
可動ホルダ４０は、固定ホルダ３０と対向する側の面にマスター情報担体２０１を保持する記録体保持部４０ａと、記録体保持部４０ａの周縁を覆うように設けられた筒状体４０ｂとを備えている。また、可動ホルダ４０には、筒状体４０ｂの内周面に周方向に沿って取り付けられ、周方向にわたって記録体保持部４０ａの外周面に接触するＯリング４１が備えられている。
【００２６】
可動ホルダ４０を構成する記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂは、互いに独立して固定ホルダ３０に対して進退可能に取り付けられている。筒状体４０ｂの固定ホルダ３０と対向する側の端部は、筒状体４０ｂを移動させることにより、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に一周にわたって対向し且つ接触できるようになっている。
なお、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａには、固定ホルダ３０の第１吸引路３１のような吸引路は設けられていない。このため、記録体保持部４０ａに取り付けられたマスター情報担体２０１には、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２のように、第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂを設けておく必要はない。
【００２７】
また、固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａの保持面３５と反対側（−Ｚ方向側）の面３４には、第１磁石部材５０が配置されている。また、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａのマスター情報担体２０１が取り付けられる保持面と反対側（Ｚ方向側）の面には、第２磁石部材６０が配置されている。
第１磁石部材５０は、固定ホルダ３０に対向して配置される第１磁石５１と、第１磁石５１を保持する第１磁石保持部５２と、第１磁石保持部５２の背面側から伸びる棒状の第１回転軸５３とから構成されている。第１回転軸５３は、第１磁石保持部５２の中心部に接続されている。これにより、第１回転軸５３の回転に伴って第１磁石保持部５２に保持された第１磁石５１が回転するようになっている。
【００２８】
また、本実施形態においては、第１磁石部材５０の第１回転軸５３は、Ｚ方向に進退可能に支持されているものであることが好ましい。これにより、第１回転軸５３の進退に伴って第１磁石保持部５２に保持された第１磁石５１が進退するものとなる。その結果、後述する消磁工程を行う前に、第１磁石５１がマスター情報担体２０２の消磁に支障をきたすことがなく、しかも、マスター情報担体２０２を消磁することにより第１磁石５１に支障をきたすことがないように、図１に示すように、第１磁石部材５０を磁気転写用マスター２０２から十分に離間して配置しておくことができる。さらに、後述する磁気転写工程を行う際に、第１磁石部材５０をマスター情報担体２０２に十分に近づけることができる。
【００２９】
第２磁石部材６０は、可動ホルダ４０に対向配置される第２磁石６１と、第２磁石６１を保持する第２磁石保持部６２と、第２磁石保持部６２の背面側から伸びる棒状の第２回転軸６３とから構成されている。第２回転軸６３は、Ｚ方向に進退可能に支持されており、且つ第２磁石保持部６２に接続されている。これにより、第２回転軸６３の進退に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が進退するとともに、第２回転軸６３の回転に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が回転するようになっている。なお、本実施形態では、第１磁石５１および第２磁石６１が、同期して回転する一対の磁石部材として機能している。また、第１磁石５１および第２磁石６１としては、ＮｄＦｅＢ系焼結磁石を用いることが好ましい。
【００３０】
また、第１磁石部材５０において、第１磁石５１は、第１磁石保持部５２に対し、第１回転軸５３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第１磁石５１は、固定ホルダ３０と対向する側が一方の極性の磁極（例えばＮ極）となるように第１磁石保持部５２に保持されている。
一方、第２磁石部材６０において、第２磁石６１は、第２磁石保持部６２に対し、第２回転軸６３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第２磁石６１は、可動ホルダ４０と対向する側が他方の極性の磁極（例えばＳ極）となるように第２磁石保持部６２に保持されている。
【００３１】
「磁気記録媒体の製造方法」
次に、図１に示す磁気転写装置を用いて、マスター情報担体２０２の磁化を消磁する消磁工程と、２枚のマスター情報担体２００を用いて磁気記録媒体１の両面に情報信号を磁気転写する磁気転写工程とを含む磁気記録媒体１の製造方法について説明する。
まず、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法において磁気転写される磁気記録媒体１について図面を用いて説明する。
【００３２】
図２は、本発明の磁気転写装置を用いる本発明の磁気記録媒体の製造方法において磁気転写される磁気記録媒体１の一例を示した断面模式図である。図２においては、非磁性基板２１の一方の面上に積層された構造のみを示し、非磁性基板２１の他方の面上に積層された構造の記載を省略している。
図２に示す磁気記録媒体１は、非磁性基板２１の両面に、スペーサ層２２ｂにより反強磁性結合させた２層の軟磁性層２２ａを含む軟磁性下地層２２と、配向制御層２３と、垂直磁性層２４と、保護層２５と、潤滑剤膜２６とを順次積層した構造を有している。
【００３３】
垂直磁性層２４は、下層の磁性層２４ａと、中層の磁性層２４ｂと、上層の磁性層２４ｃとの３層を含み、磁性層２４ａと磁性層２４ｂとの間に非磁性層２７ａ（２７）を、磁性層２４ｂと磁性層２４ｃとの間に非磁性層２７ｂ（２７）を挟み込むことにより、これら磁性層２４ａ〜２４ｃと非磁性層２７ａ，２７ｂとが交互に積層された構造を有している。
【００３４】
非磁性基板２１としては、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えば、ガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００３５】
ガラス基板としては、例えば、アモルファスガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、アモルファスガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００３６】
非磁性基板２１は、その平均表面粗さ(Ｒａ)が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であることが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、表面の微小うねり(Ｗａ)が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下）であることが、磁気ヘッドを低浮上させた高密度記録に適している点から好ましい。なお、微少うねり(Ｗａ)は、例えば、表面荒粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００３７】
また、非磁性基板２１は、Ｃｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層２２と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。この場合、非磁性基板２１と軟磁性下地層２２の間に密着層を設けることが好ましい。これにより、腐食の進行を抑制できる。密着層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金などを適宜選択できる。また、密着層の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００３８】
軟磁性層２２ａ，２２ｃとしては、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いることが好ましい。また、透磁率や耐食性を高めるために、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒの中から選ばれる何れか１種を１〜８原子％の範囲で含有させることが好ましい。
スペーサ層２２ｂとしては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中で特にＲｕを用いることが好ましい。
【００３９】
配向制御層２３は、垂直磁性層２４の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するためのものである。配向制御層２３としては、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものを用いることが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金を用いることが好ましい。また、これらの合金を多層化してもよい。例えば、基板側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００４０】
ここで、配向制御層２３直上の垂直磁性層２４の初期部には、結晶成長の乱れが生じやすく、これがノイズの原因となる。この場合、配向制御層２３と垂直磁性層２４の間に非磁性下地層２８を設けることが好ましい。この初期部の乱れた部分を非磁性下地層２８に置き換えることで、ノイズの発生を抑制することができる。
【００４１】
非磁性下地層２８としては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料からなるものを用いることが好ましい。Ｃｒの含有量は、２５原子％以上、５０原子％以下とすることが好ましい。酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上、１８ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。
【００４２】
磁性層２４ａ，２４ｂ，２４ｃとしては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料を用いることが好ましく、この酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。また、下層の磁性層２４ａは、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００４３】
磁性層２４ａ、２４ｂ、２４ｃに適した材料としては、具体的には、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などの組成物を挙げることができる。
【００４４】
また、本発明では、上記垂直磁性層２４を４層以上の磁性層で構成することも可能である。例えば、上記磁性層２４ａ、２４ｂに加えて、グラニュラー構造の磁性層を３層で構成し、その上に、酸化物を含まない磁性層２４ｃを設けた構成とし、また、酸化物を含まない磁性層２４ｃを２層構造として、磁性層２４ａ、２４ｂの上に設けた構成とすることができる。
【００４５】
また、本発明では、垂直磁性層２４を構成する３層以上の磁性層間に非磁性層２７を設けることが好ましい。非磁性層２７を適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができる。その結果Ｓ／Ｎ比をより向上させることが可能である。
【００４６】
保護層２５は、垂直磁性層２４の腐食を防ぐと共に、磁気ヘッドが磁気記録媒体１に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐためのものである。保護層２５には、従来公知の材料を用いることができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２などを含むものを用いることが可能である。保護層２５の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが磁気ヘッドと磁気記録媒体１との距離を小さくできるので高記録密度の点から好ましい。
【００４７】
潤滑剤膜２６としては、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を保護層２５上に塗布することによって形成されたものなどが挙げられる。
【００４８】
図２に示す磁気記録媒体１は、図１に示す本実施形態の磁気転写装置を用いる本実施形態の磁気記録媒体の製造方法を用いて磁気転写される前に、ワイピング工程、バーニッシュ工程が行われたものであることが好ましい。
【００４９】
ワイピング工程は、布製のワイピングテープを磁気記録媒体１の表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロール又はパッドによってワイピングテープの表面を磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く拭く工程とすることができる。ワイピング工程を行うことにより、磁気記録媒体１の表面に付着したスパッタダスト等が除去されるので、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００５０】
ワイピング工程に用いられるワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物などが挙げられる。
【００５１】
バーニッシュ工程は、磁気記録媒体１の表面にある突起物を除去するために、研磨テープを用いて表面を研磨する工程とすることができる。バーニッシュ工程を行うことにより、ハードディスクドライブでの磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることができるとともに、磁気転写工程において磁気記録媒体１とマスター情報担体２０１、２０２との間に隙間が生じて転写パターンが不鮮明となり、マスター情報担体２０１、２０２が損傷を受けることを防止できる。
【００５２】
バーニッシュ工程は、研磨テープをゴム製のコンタクトロールにより磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く研磨する工程とすることができる。
バーニッシュ工程で用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、通常ポリエステル製のベースフィルム上に研磨材からなる研磨材層を形成してなるテープを使用する。
【００５３】
研磨材層を磁気記録媒体１の表面に接触させて摺動させることによって、媒体表面に付着した微小な塵埃が除去されると共に、媒体表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて、媒体表面が平滑化される。
研磨材としては、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が用いられる。
【００５４】
本実施形態においては、図２に示す磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する前に、磁気転写される磁気記録媒体１の信号記録面に対して初期磁化を行う。初期磁化は、面内磁気記録媒体の場合は、トラック方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行い、垂直磁気記録媒体の場合は、媒体表面に対して垂直な方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行う。
【００５５】
初期直流磁界は、永久磁石や電磁石を用いて印加することが可能である。また、永久磁石としては、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いることが好ましい。また、初期直流磁界の印加は、磁気記録媒体と非接触の状態で行うことが、磁気記録媒体の表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００５６】
「消磁工程」
次に、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写工程を行うために、図１に示す磁気転写装置の固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａおよび可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａに、それぞれマスター情報担体２００を保持させる。
次いで、磁気記録媒体１を保持する固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２の磁化を消磁する消磁工程を行う。
【００５７】
消磁工程においては、まず、マスター情報担体２０２に磁気記録媒体１が保持されていない状態で、移動手段（図示略）によって消磁手段１５を、磁気転写手段１４の固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間に移動し、消磁手段１５の電磁石をマスター情報担体２０２に近接配置させる。
次いで、消磁手段１５の電磁石に配線を介して例えば、５０Ｈｚ程度の交流電圧を流し、その後、この交流電圧を徐々に下げる。このことにより、例えば、マスター情報担体２０２が、別の磁気記録媒体１の磁気転写に用いられたことによって磁化されたものであったとしても、マスター情報担体２０２の磁化が消磁される。消磁手段１５の電磁石に交流電圧を流す時間である消磁時間は３秒程度であることが好ましい。
【００５８】
なお、第１磁石部材５０は、第１磁石５１がマスター情報担体２０２の消磁に支障をきたすことがなく、しかも、マスター情報担体２０２を消磁することにより第１磁石５１に支障をきたすことがないように、消磁工程を行う前に、磁気転写用マスター２０２から十分に離間して配置しておくことが好ましい。
また、本実施形態においては、消磁工程の終了後、後述する磁気転写工程を行う前に、消磁手段１５を移動手段によって移動させて、消磁手段１５を磁気転写手段１４から十分に離れた位置に退避させ、消磁手段１５が備えられていることによって磁気転写工程に支障をきたすことがないようにする。
【００５９】
「磁気転写工程」
次いで、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写工程を行う。
磁気転写工程においては、まず、固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２上に、第１吸引路３１を用いて吸引することにより、初期磁化された磁気記録媒体１を真空チャッキングする。
【００６０】
本実施形態においては、マスター情報担体２０２と磁気記録媒体１とを密着させる前に、消磁工程を行ってマスター情報担体２０２の磁化を消磁しているので、マスター情報担体２０２と磁気記録媒体１との間に磁力に起因する吸引力が生じにくいものとなっている。したがって、本実施形態においては、磁気記録媒体１を真空チャッキングするに際して、徐々に近づけられていく両者の間隔が安定したものとなり、両者の間隔が十分に近づく前に一部のみ密着されてしまったり、マスター情報担体の一部と磁気記録媒体の一部とが衝突したりして、磁気記録媒体１および／またはマスター情報担体２０２に傷が付くことが防止される。
【００６１】
その後、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂを固定ホルダ３０に近づく方向へと移動させる。
筒状体４０ｂは、筒状体４０ｂの周部端面が固定ホルダ３０に設けられたオーリング３３と接する位置まで移動されることにより停止される。このことにより、固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間には、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３と筒状体４０ｂに設けられたＯリング４１とを用いて、閉じられた空間が形成される。
【００６２】
また、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａは、筒状体４０ｂの移動が停止された後も固定ホルダ３０に近づく方向へと移動し続け、記録体保持部４０ａに保持されたマスター情報担体２０１が磁気記録媒体１と接する位置まで移動されることにより停止される。なお、記録体保持部４０ａの移動停止位置は、予め決められている。その結果、磁気記録媒体１と、その両面を挟むように配置された２枚のマスター情報担体２０１、２０２とには、予め設定された軽い荷重が加えられるようになっている。
【００６３】
次いで、第２吸引路３２を用いて吸引することにより、固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間の空間を減圧し、空間と大気圧との差圧により、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを所定の圧力で密着させる。
【００６４】
その後、第２磁石部材６０を移動させてマスター情報担体２０１に近づけるとともに、第１磁石部材５０を移動させてマスター情報担体２０２に近づける。
なお、第２磁石部材６０は、磁気記録媒体１の両面を挟むようにマスター情報担体２０１、２０２を配置した後に、マスター情報担体２０１に近づけてもよいが、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａとの間の間隔を所定の間隔に維持した状態で、第２磁石部材６０を記録体保持部４０ａとともに移動させてもよい。この場合、第２磁石部材６０と記録体保持部４０ａとの間の間隔は、磁気記録媒体１の両面を挟むようにマスター情報担体２０１、２０２を配置した段階で、第２磁石部材６０と磁気記録媒体１との間隔が磁気転写可能な間隔となるようにされていることが好ましい。
【００６５】
次いで、第１回転軸５３および第２回転軸６３を軸とし、第１磁石５１と第２磁石６１とを対向させた状態を維持しながら、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を少なくとも１回転以上同期回転させる。このことにより、マスター情報担体２０１、２０２側からマスター情報担体２０１、２０２および磁気記録媒体１に外部磁界を印加し、マスター情報担体２０１、２０２に形成されている情報信号を磁気記録媒体１の両面に磁気転写する。
【００６６】
より詳細には、第１磁石５１および第２磁石６１が１回転する間、２枚のマスター情報担体２０１、２０２に挟まれた磁気記録媒体１には、第１磁石５１および第２磁石６１により、初期磁化における磁界とは逆向きの直流磁界が周方向に順次印加される。
このことにより、磁気記録媒体１の固定ホルダ３０側のマスター情報担体２０２と接する側では、マスター情報担体２０２の凹部と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化後の状態が維持されるものの、凸部と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。
【００６７】
また、磁気記録媒体１の可動ホルダ４０側のマスター情報担体２０１と接する側では、マスター情報担体２０１の凹部と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化後の状態が維持されるものの、凸部と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。
このようにして、磁気記録媒体１の両面には、それぞれ、マスター情報担体２０１、２０２に設けられた凹凸の配列からなるサーボ・パターンが、磁化の向きの配列からなる情報信号として転写される。その結果、磁気記録媒体１は、位置決めデータ記憶領域にサーボ・パターンが記憶されたものとなる。
【００６８】
その後、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を移動させて、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０をマスター情報担体２０１、２０２から離す。また、第２吸引路３２を介した吸引を停止して固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間の空間を大気圧とする。次いで、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂを移動させて、磁気記録媒体１と記録体保持部４０ａに保持されたマスター情報担体２０１とを離間させる。これにより、固定ホルダ３０に保持された磁気記録媒体１は、外部に露出した状態となる。その後、第１吸引路３１を用いて、記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２上への磁気記録媒体１の真空チャッキングを解除し、磁気記録媒体１を取り出す。
【００６９】
本実施形態においては、１枚の磁気記録媒体１を製造する方法について説明したが、複数枚の磁気記録媒体を製造する場合には、上述した工程を繰り返し行えばよい。したがって、磁気転写工程を行う前に必ず消磁工程を行う。
【００７０】
本実施形態においては、磁気転写装置として、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体２０１、２０２の磁化を消磁する消磁手段１５と、マスター情報担体２０１、２０２と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体１とを密着させて、マスター情報担体２０１、２０２側から外部磁界を印加することにより、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写手段１４とを備えるものを用いている。このため、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写するために、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを密着させる前に、マスター情報担体２０１、２０２の磁化を消磁する消磁工程を行うことができる。
【００７１】
その結果、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写するために、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを密着させる際に、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１との間に磁力に起因する吸引力が生じることを防止することができる。
したがって、本実施形態によれば、磁気記録媒体１およびマスター情報担体２０１、２０２を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを密着させて容易に取り付けることができ、歩留まりよく磁気記録媒体１に磁気転写できる。
なお、以上の本願発明の説明は磁気記録媒体の両面にサーボ・パターンを磁気転写する例によって行ったが、本願発明は磁気記録媒体の片面のみに磁気転写を行う場合、また転写パターンとしてセルフサーボ・パターンを用いる場合においても同様に用いることができる。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施できる。
「実施例１」
以下に示す方法によって製造された磁気転写される磁気記録媒体に、以下に示す方法によって製造されたマスター情報担体を用いて、以下に示す方法により情報信号を磁気転写した。
【００７３】
＜磁気記録媒体の製造＞
洗浄済みのガラス基板（コニカミノルタ社製、外形２．５インチ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板の上に、６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの軟磁性層を成膜し、この上にＲｕ層を層厚０．７６ｎｍで成膜した後、さらに４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂの軟磁性層を層厚３４ｎｍ成膜して、これを軟磁性下地層とした。
【００７４】
次に、上記軟磁性下地層の上に、Ｎｉ−６Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲット、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ５ｎｍ、２０ｎｍの層厚で順に成膜し、これを配向制御層とした。
【００７５】
次に、配向制御層の上に、多層構造の磁性層として、Ｃｏ１２Ｃｒ１６Ｐｔ−１６ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ５Ｃｒ２２Ｐｔ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ（膜厚０．５ｎｍ）、Ｃｏ１５Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｂ（膜厚３ｎｍ）を積層した。
【００７６】
次に、ＣＶＤ法により層厚２．５ｎｍの炭素保護層を成膜し、磁気記録媒体を得た。
次に、この磁気記録媒体の表面に、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤膜を厚さ１５オングストロームで形成した。
【００７７】
次に、潤滑剤を塗布した磁気記録媒体に対して、ワイピング処理を施した。ワイピングテープには、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維を用いた。ワイピング処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、ワイピングテープの送り速度は１０ｍｍ／秒、ワイピングテープを磁気記録媒体に押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。
【００７８】
次に、ワイピング処理を施した磁気記録媒体に対してバーニッシュ加工を施した。バーニッシュテープには、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。バーニッシュ加工は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度を１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気ディスクに押し当てる際の押圧力を９８ｍＮ、処理時間を５秒間として行った。
【００７９】
次に、バーニッシュ加工を施した磁気記録媒体の信号記録面に対して１０ｋＯｅの磁界を加えながら初期磁化を行った。
【００８０】
＜マスター情報担体の製造＞
マスター情報担体には、２７１ｋトラック／インチのサーボ信号等の転写パターンが形成されたものを用いた。なお、このマスター情報担体は、そのトラックが幅１２０ｎｍ、そのトラック間隔が６０ｎｍ、セクター数は１周あたり２５５、転写パターンの段差が４５ｎｍである。
このマスター情報担体は、凸部及び凹部を有するＮｉ基材の上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚１０ｎｍのＲｕ膜と、磁性層として層厚２０ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金膜と、層厚１５ｎｍの８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜とを順次積層した後、その上に、保護層として層厚２０ｎｍのＣＶＤ炭素膜を形成することで作製されたものである。
【００８１】
＜磁気転写の方法＞
初期磁化された磁気記録媒体１に対して、図１に示す磁気転写装置を用いて、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写した。
まず、図１に示す磁気転写装置の固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａおよび可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａにそれぞれマスター情報担体２００を保持させた。
【００８２】
次に、第１磁石部材５０を、磁気転写用マスター２０２から十分に離間して配置した。
次いで、磁気記録媒体１を保持する固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２の磁化を消磁する消磁工程を行った。
消磁工程においては、まず、移動手段によって消磁手段１５を、磁気転写手段１４の固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間に移動して、消磁手段１５の電磁石をマスター情報担体２０２に近接配置させた。次いで、消磁手段１５の電磁石に、配線を介して５０Ｈｚ、２００Ｗ程度の交流電圧を流し、この交流電圧を徐々に下げた。なお、消磁手段１５の電磁石に交流電圧を流す時間である消磁時間は３秒であった。
【００８３】
消磁工程の終了後、消磁手段１５を移動手段によって移動させて、消磁手段１５を磁気転写手段１４から十分に離れた位置に退避させた。
次いで、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写工程を行った。まず、第１吸引路３１を用いて吸引することにより、固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２上に、初期磁化された磁気記録媒体１を真空チャッキングした。
【００８４】
その後、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂを固定ホルダ３０に近づく方向へと移動させて、筒状体４０ｂの周部端面と固定ホルダ３０に設けられたオーリング３３とを接触させた。このことにより、固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間に、閉じられた空間を形成した。
その後、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａを、さらに固定ホルダ３０に近づく方向へと移動させ、記録体保持部４０ａに保持されたマスター情報担体２０１と磁気記録媒体１とを接触させた。
【００８５】
次いで、第２吸引路３２を用いて吸引し、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを９８ｍＮの圧力で密着させた。
その後、第２磁石部材６０を移動させてマスター情報担体２０１に近づけるとともに、第１磁石部材５０を移動させてマスター情報担体２０２に近づけた。次いで、第１回転軸５３および第２回転軸６３を軸とし、第１磁石５１と第２磁石６１とを対向させた状態を維持しながら、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を２秒間同期回転させた。
【００８６】
このことにより、マスター情報担体２０１、２０２側からマスター情報担体２０１、２０２および磁気記録媒体１に７ｋＯｅの外部磁界を印加し、マスター情報担体２０１、２０２に形成されている情報信号を磁気記録媒体１の両面に磁気転写した。
【００８７】
その後、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０をマスター情報担体２０１、２０２から離し、第２吸引路３２を介した吸引を停止して固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間の空間を大気圧とした。次いで、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂを移動させて、磁気記録媒体１と記録体保持部４０ａに保持されたマスター情報担体２０１とを離間させた。その後、第１吸引路３１を用いて、記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２上への磁気記録媒体１の真空チャッキングを解除し、磁気記録媒体１を取り出した。
【００８８】
「比較例１」
消磁工程を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして、磁気記録媒体を得た。
【００８９】
実施例１の方法および比較例１の方法をそれぞれ繰り返し行うことにより、実施例および比較例の磁気記録媒体をそれぞれ１００００枚製造し、マスター情報担体２０２上に磁気記録媒体１を真空チャッキングする際に生じた傷で磁気転写不良が生じた磁気記録媒体の枚数を調べた。その結果、実施例１では０枚であり、比較例１では３５枚であった。
【００９０】
このように本発明の実施例１では、比較例１と比較して、傷により磁気転写不良が生じた磁気記録媒体の数が少ないことが確認できた。
【符号の説明】
【００９１】
１・・・磁気記録媒体、１５・・・消磁手段、１４・・・磁気転写手段、３０・・・固定ホルダ、３０ａ・・・記録体保持部、３１・・・第１吸引路、３２・・・第２吸引路、３３、４１・・・Ｏリング、３５・・・保持面、４０・・・可動ホルダ、４０ａ・・・記録体保持部、４０ｂ・・・筒状体、５０・・・第１磁石部材、６０・・・第２磁石部材、２００、２０１、２０２・・・マスター情報担体、２００ａ、２００ｂ・・・開口。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気転写装置および磁気記録媒体の製造方法に関するものであり、より詳しくは、ハードディスク装置等の磁気記録再生装置に用いられる磁気記録媒体を製造する際に好適に用いられる磁気転写装置およびこれを用いた磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録媒体にサーボ信号等の情報信号の書き込みを行う方法として、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体を用い、このマスター情報担体に書き込まれた情報信号を磁気記録媒体に一括して磁気転写する方法が提案されている。
例えば、特許文献１には、基体の表面に情報信号に対応する凹凸形状が形成され、この凹凸形状の少なくとも凸部表面が強磁性材料により構成されるマスター情報坦体表面を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉塗布層が形成されたシート状もしくはディスク状磁気記録媒体の表面に接触させることにより、マスター情報坦体表面の凹凸形状に対応する磁化パターンを磁気記録媒体に記録する技術が記載されている。
【０００３】
マスター情報担体を用いて磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する場合、通常、磁気転写装置に、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付け、転写用のエネルギーとして外部から磁界を加え、マスター情報担体に書き込まれた情報信号を磁気記録媒体に磁気転写している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の磁気転写装置では、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付ける際に、磁気記録媒体および／またはマスター情報担体に傷が付いてしまう場合があった。
このため、磁気記録媒体およびマスター情報担体を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付けることができ、歩留まりよく磁気記録媒体に磁気転写できる磁気転写装置を提供することが要求されていた。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、磁気記録媒体およびマスター情報担体を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付けることができ、歩留まりよく磁気記録媒体に磁気転写できる磁気転写装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、磁気記録媒体およびマスター情報担体を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付けることができ、歩留まりよく製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付ける際に、磁気記録媒体および／またはマスター情報担体に傷が付く原因について、以下に示すように鋭意検討を行った。
磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付ける場合には、通常、マスター情報担体と磁気記録媒体とを対向配置させて、両者の間隔を徐々に近づけて密着させる。
【０００８】
磁気転写装置に取り付けられるマスター情報担体が磁化されているものである場合、両者の間隔を徐々に近づけていくことにより、対向配置されたマスター情報担体と磁気記録媒体との間に磁力に起因する吸引力が働くようになる。この吸引力は、徐々に近づけられていく両者の間隔を不安定とさせるものであるため、磁気記録媒体および／またはマスター情報担体が所定外に動いて、両者の間隔が十分に近づく前に一部のみ密着されてしまったり、マスター情報担体の一部と磁気記録媒体の一部とが衝突したりして、磁気記録媒体および／またはマスター情報担体に傷が付く場合があることが明らかとなった。
【０００９】
そこで、本発明者は、マスター情報担体の磁化に着目して鋭意検討を重ねた。その結果、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて取り付ける前に、マスター情報担体の磁化を消磁して、マスター情報担体と磁気記録媒体との間に磁力に起因する吸引力が生じることを防止すればよいことを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は以下に関する。
【００１０】
（１）情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁手段と、前記マスター情報担体と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体とを密着させて、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加することにより、前記磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する磁気転写手段とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
（２）前記消磁手段が、前記マスター情報担体に近接配置される電磁石と、前記電磁石に電圧を印加する手段とを備えていることを特徴とする（１）に記載の磁気転写装置。
【００１１】
（３）情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁工程と、前記マスター情報担体と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体とを密着させて、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加することにより、前記磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する磁気転写工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（４）前記消磁工程が、前記マスター情報担体に電磁石を近接配置して、前記電磁石に電圧を印加することにより、前記マスター情報担体の磁化を消磁する工程であることを特徴とする（３）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の磁気転写装置は、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁手段を備えるものであるので、磁気記録媒体に情報信号を磁気転写するために、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させる前に、マスター情報担体の磁化を消磁することが可能なものとなる。したがって、本発明の磁気転写装置を用いて、磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する場合、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させる際に、マスター情報担体と磁気記録媒体との間に磁力に起因する吸引力が生じることを防止することができる。
【００１３】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁気記録媒体に情報信号を磁気転写するために、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させる前に、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁工程を備えているので、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させる際に、マスター情報担体と磁気記録媒体との間に磁力に起因する吸引力が生じることを防止することができる。
【００１４】
したがって、本発明の磁気転写装置および磁気記録媒体の製造方法によれば、磁気記録媒体およびマスター情報担体を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させて容易に取り付けることができ、歩留まりよく磁気記録媒体に情報信号を磁気転写できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の磁気転写装置の一例を説明するための断面模式図である。
【図２】本発明の磁気転写装置を用いる本発明の磁気記録媒体の製造方法において磁気転写される磁気記録媒体の一例を示した断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の磁気転写装置および磁気記録媒体の製造方法を、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を模式的に示している場合があり、各部の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００１７】
「磁気転写装置」
図１は、本発明の磁気転写装置の一例を説明するための断面模式図である。図１は、磁気記録媒体１の両面に磁気転写を行う装置の例であり、固定ホルダ３０及び可動ホルダ４０に、それぞれマスター情報担体２００が取り付けられ、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２の表面に、磁気記録媒体１が取り付けられた状態を示している。また、磁気記録媒体１の片面のみに磁気転写を行う装置の場合は、マスター情報担体２００の一方を単なる押し板にし、または、稼働ホルダ４０およびそれに取り付けたマスター情報担体２００を省略することができる。
磁気記録媒体１は、非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成されたものである。また、マスター情報担体２００は、情報信号に対応するサーボ・パターン、セルフサーボ・パターンなどの転写パターンが形成されたものである。なお、セルフサーボ・パターンとは、ハードディスク装置がサーボ・パターンを生成するのに用いるパターンである。
【００１８】
図１に示す磁気転写装置は、消磁手段１５と、磁気転写手段１４とを備えている。
本実施形態の消磁手段１５は、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２の磁化を消磁するものである。なお、消磁手段１５は、２枚のマスター情報担体２００のうち、少なくとも磁気記録媒体１を保持する側のマスター情報担体２０２の磁化を消磁するものであればよく、本実施形態のように磁気記録媒体１を保持する側のマスター情報担体２０２の磁化のみを消磁するものであってもよいし、２枚のマスター情報担体２００の両方の磁化を消磁するものであってもよい。
消磁手段１５は、マスター情報担体２００に近接配置される電磁石（図示略）と、電磁石に電圧を印加する配線などからなる手段とを備えている。
【００１９】
また、本実施形態の磁気転写装置は、消磁手段１５を移動させる移動手段（図示略）を備えている。そして、移動手段によって、マスター情報担体２００の磁化を消磁する消磁工程を行う際に、マスター情報担体２００の表面に磁気記録媒体１を保持しない状態で、磁気転写手段１４の固定ホルダ３０と、固定ホルダ３０に対向して配置された可動ホルダ４０との間に消磁手段１５が移動されて、消磁手段１５の電磁石がマスター情報担体２００に近接配置できるようになっている。また、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写工程を行う際には、移動手段によって、消磁手段１５が移動されて、磁気転写手段１４から十分に離れた位置に消磁手段１５が退避されるようになっている。したがって、本実施形態の磁気転写装置においては、消磁手段１５が備えられていることによって磁気転写工程が妨げられないようになっている。
【００２０】
磁気転写手段１４は、マスター情報担体２００と磁気記録媒体１とを密着させて、マスター情報担体２００側から外部磁界を印加することにより、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写するものである。
【００２１】
図１に示す磁気転写手段１４は、図示しない基台に固定されている。磁気転写手段１４は、固定ホルダ３０と、固定ホルダ３０に対向して配置された可動ホルダ４０とを備えている。そして、図１に示すように、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２と、可動ホルダ４０に取り付けられたマスター情報担体２０１とは、互いに対向した状態で配置されている。
【００２２】
固定ホルダ３０は、マスター情報担体２０２を保持する記録体保持部３０ａと、記録体保持部３０ａを貫通して設けられた第１吸引路３１および第２吸引路３２とを備えている。また、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２には、２つの開口２００ａ、２００ｂが設けられている。
【００２３】
第１吸引路３１は、記録体保持部３０ａに磁気記録媒体１を保持するためのものであり、記録体保持部３０ａのマスター情報担体２０２が取り付けられる保持面３５におけるマスター情報担体２０２の取り付け位置に、開口を有するものである。図１に示すように、第１吸引路３１の開口は、固定ホルダ３０にマスター情報担体２０２が取り付けられた際に、マスター情報担体２０２の開口２００ａ、２００ｂと平面視で重なり合うように配置されている。
【００２４】
第２吸引路３２は、記録体保持部３０ａの保持面３５におけるマスター情報担体２０２の取り付け位置の外側に開口を備えている。第２吸引路３２は、磁気転写工程の際に固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間に形成される空間を真空にするためのものである。
また、固定ホルダ３０は、図１に示すように、記録体保持部３０ａの保持面３５の第２吸引路３２の開口よりも外側に、周方向に沿って取り付けられたＯリング３３を備えている。
【００２５】
可動ホルダ４０は、固定ホルダ３０と対向する側の面にマスター情報担体２０１を保持する記録体保持部４０ａと、記録体保持部４０ａの周縁を覆うように設けられた筒状体４０ｂとを備えている。また、可動ホルダ４０には、筒状体４０ｂの内周面に周方向に沿って取り付けられ、周方向にわたって記録体保持部４０ａの外周面に接触するＯリング４１が備えられている。
【００２６】
可動ホルダ４０を構成する記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂは、互いに独立して固定ホルダ３０に対して進退可能に取り付けられている。筒状体４０ｂの固定ホルダ３０と対向する側の端部は、筒状体４０ｂを移動させることにより、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に一周にわたって対向し且つ接触できるようになっている。
なお、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａには、固定ホルダ３０の第１吸引路３１のような吸引路は設けられていない。このため、記録体保持部４０ａに取り付けられたマスター情報担体２０１には、固定ホルダ３０に取り付けられたマスター情報担体２０２のように、第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂを設けておく必要はない。
【００２７】
また、固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａの保持面３５と反対側（−Ｚ方向側）の面３４には、第１磁石部材５０が配置されている。また、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａのマスター情報担体２０１が取り付けられる保持面と反対側（Ｚ方向側）の面には、第２磁石部材６０が配置されている。
第１磁石部材５０は、固定ホルダ３０に対向して配置される第１磁石５１と、第１磁石５１を保持する第１磁石保持部５２と、第１磁石保持部５２の背面側から伸びる棒状の第１回転軸５３とから構成されている。第１回転軸５３は、第１磁石保持部５２の中心部に接続されている。これにより、第１回転軸５３の回転に伴って第１磁石保持部５２に保持された第１磁石５１が回転するようになっている。
【００２８】
また、本実施形態においては、第１磁石部材５０の第１回転軸５３は、Ｚ方向に進退可能に支持されているものであることが好ましい。これにより、第１回転軸５３の進退に伴って第１磁石保持部５２に保持された第１磁石５１が進退するものとなる。その結果、後述する消磁工程を行う前に、第１磁石５１がマスター情報担体２０２の消磁に支障をきたすことがなく、しかも、マスター情報担体２０２を消磁することにより第１磁石５１に支障をきたすことがないように、図１に示すように、第１磁石部材５０を磁気転写用マスター２０２から十分に離間して配置しておくことができる。さらに、後述する磁気転写工程を行う際に、第１磁石部材５０をマスター情報担体２０２に十分に近づけることができる。
【００２９】
第２磁石部材６０は、可動ホルダ４０に対向配置される第２磁石６１と、第２磁石６１を保持する第２磁石保持部６２と、第２磁石保持部６２の背面側から伸びる棒状の第２回転軸６３とから構成されている。第２回転軸６３は、Ｚ方向に進退可能に支持されており、且つ第２磁石保持部６２に接続されている。これにより、第２回転軸６３の進退に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が進退するとともに、第２回転軸６３の回転に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が回転するようになっている。なお、本実施形態では、第１磁石５１および第２磁石６１が、同期して回転する一対の磁石部材として機能している。また、第１磁石５１および第２磁石６１としては、ＮｄＦｅＢ系焼結磁石を用いることが好ましい。
【００３０】
また、第１磁石部材５０において、第１磁石５１は、第１磁石保持部５２に対し、第１回転軸５３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第１磁石５１は、固定ホルダ３０と対向する側が一方の極性の磁極（例えばＮ極）となるように第１磁石保持部５２に保持されている。
一方、第２磁石部材６０において、第２磁石６１は、第２磁石保持部６２に対し、第２回転軸６３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第２磁石６１は、可動ホルダ４０と対向する側が他方の極性の磁極（例えばＳ極）となるように第２磁石保持部６２に保持されている。
【００３１】
「磁気記録媒体の製造方法」
次に、図１に示す磁気転写装置を用いて、マスター情報担体２０２の磁化を消磁する消磁工程と、２枚のマスター情報担体２００を用いて磁気記録媒体１の両面に情報信号を磁気転写する磁気転写工程とを含む磁気記録媒体１の製造方法について説明する。
まず、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法において磁気転写される磁気記録媒体１について図面を用いて説明する。
【００３２】
図２は、本発明の磁気転写装置を用いる本発明の磁気記録媒体の製造方法において磁気転写される磁気記録媒体１の一例を示した断面模式図である。図２においては、非磁性基板２１の一方の面上に積層された構造のみを示し、非磁性基板２１の他方の面上に積層された構造の記載を省略している。
図２に示す磁気記録媒体１は、非磁性基板２１の両面に、スペーサ層２２ｂにより反強磁性結合させた２層の軟磁性層２２ａを含む軟磁性下地層２２と、配向制御層２３と、垂直磁性層２４と、保護層２５と、潤滑剤膜２６とを順次積層した構造を有している。
【００３３】
垂直磁性層２４は、下層の磁性層２４ａと、中層の磁性層２４ｂと、上層の磁性層２４ｃとの３層を含み、磁性層２４ａと磁性層２４ｂとの間に非磁性層２７ａ（２７）を、磁性層２４ｂと磁性層２４ｃとの間に非磁性層２７ｂ（２７）を挟み込むことにより、これら磁性層２４ａ〜２４ｃと非磁性層２７ａ，２７ｂとが交互に積層された構造を有している。
【００３４】
非磁性基板２１としては、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えば、ガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００３５】
ガラス基板としては、例えば、アモルファスガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、アモルファスガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００３６】
非磁性基板２１は、その平均表面粗さ(Ｒａ)が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であることが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、表面の微小うねり(Ｗａ)が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下）であることが、磁気ヘッドを低浮上させた高密度記録に適している点から好ましい。なお、微少うねり(Ｗａ)は、例えば、表面荒粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００３７】
また、非磁性基板２１は、Ｃｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層２２と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。この場合、非磁性基板２１と軟磁性下地層２２の間に密着層を設けることが好ましい。これにより、腐食の進行を抑制できる。密着層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金などを適宜選択できる。また、密着層の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００３８】
軟磁性層２２ａ，２２ｃとしては、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いることが好ましい。また、透磁率や耐食性を高めるために、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒの中から選ばれる何れか１種を１〜８原子％の範囲で含有させることが好ましい。
スペーサ層２２ｂとしては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中で特にＲｕを用いることが好ましい。
【００３９】
配向制御層２３は、垂直磁性層２４の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するためのものである。配向制御層２３としては、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものを用いることが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金を用いることが好ましい。また、これらの合金を多層化してもよい。例えば、基板側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００４０】
ここで、配向制御層２３直上の垂直磁性層２４の初期部には、結晶成長の乱れが生じやすく、これがノイズの原因となる。この場合、配向制御層２３と垂直磁性層２４の間に非磁性下地層２８を設けることが好ましい。この初期部の乱れた部分を非磁性下地層２８に置き換えることで、ノイズの発生を抑制することができる。
【００４１】
非磁性下地層２８としては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料からなるものを用いることが好ましい。Ｃｒの含有量は、２５原子％以上、５０原子％以下とすることが好ましい。酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上、１８ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。
【００４２】
磁性層２４ａ，２４ｂ，２４ｃとしては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料を用いることが好ましく、この酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。また、下層の磁性層２４ａは、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００４３】
磁性層２４ａ、２４ｂ、２４ｃに適した材料としては、具体的には、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などの組成物を挙げることができる。
【００４４】
また、本発明では、上記垂直磁性層２４を４層以上の磁性層で構成することも可能である。例えば、上記磁性層２４ａ、２４ｂに加えて、グラニュラー構造の磁性層を３層で構成し、その上に、酸化物を含まない磁性層２４ｃを設けた構成とし、また、酸化物を含まない磁性層２４ｃを２層構造として、磁性層２４ａ、２４ｂの上に設けた構成とすることができる。
【００４５】
また、本発明では、垂直磁性層２４を構成する３層以上の磁性層間に非磁性層２７を設けることが好ましい。非磁性層２７を適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができる。その結果Ｓ／Ｎ比をより向上させることが可能である。
【００４６】
保護層２５は、垂直磁性層２４の腐食を防ぐと共に、磁気ヘッドが磁気記録媒体１に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐためのものである。保護層２５には、従来公知の材料を用いることができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２などを含むものを用いることが可能である。保護層２５の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが磁気ヘッドと磁気記録媒体１との距離を小さくできるので高記録密度の点から好ましい。
【００４７】
潤滑剤膜２６としては、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を保護層２５上に塗布することによって形成されたものなどが挙げられる。
【００４８】
図２に示す磁気記録媒体１は、図１に示す本実施形態の磁気転写装置を用いる本実施形態の磁気記録媒体の製造方法を用いて磁気転写される前に、ワイピング工程、バーニッシュ工程が行われたものであることが好ましい。
【００４９】
ワイピング工程は、布製のワイピングテープを磁気記録媒体１の表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロール又はパッドによってワイピングテープの表面を磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く拭く工程とすることができる。ワイピング工程を行うことにより、磁気記録媒体１の表面に付着したスパッタダスト等が除去されるので、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００５０】
ワイピング工程に用いられるワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物などが挙げられる。
【００５１】
バーニッシュ工程は、磁気記録媒体１の表面にある突起物を除去するために、研磨テープを用いて表面を研磨する工程とすることができる。バーニッシュ工程を行うことにより、ハードディスクドライブでの磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることができるとともに、磁気転写工程において磁気記録媒体１とマスター情報担体２０１、２０２との間に隙間が生じて転写パターンが不鮮明となり、マスター情報担体２０１、２０２が損傷を受けることを防止できる。
【００５２】
バーニッシュ工程は、研磨テープをゴム製のコンタクトロールにより磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く研磨する工程とすることができる。
バーニッシュ工程で用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、通常ポリエステル製のベースフィルム上に研磨材からなる研磨材層を形成してなるテープを使用する。
【００５３】
研磨材層を磁気記録媒体１の表面に接触させて摺動させることによって、媒体表面に付着した微小な塵埃が除去されると共に、媒体表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて、媒体表面が平滑化される。
研磨材としては、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が用いられる。
【００５４】
本実施形態においては、図２に示す磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する前に、磁気転写される磁気記録媒体１の信号記録面に対して初期磁化を行う。初期磁化は、面内磁気記録媒体の場合は、トラック方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行い、垂直磁気記録媒体の場合は、媒体表面に対して垂直な方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行う。
【００５５】
初期直流磁界は、永久磁石や電磁石を用いて印加することが可能である。また、永久磁石としては、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いることが好ましい。また、初期直流磁界の印加は、磁気記録媒体と非接触の状態で行うことが、磁気記録媒体の表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００５６】
「消磁工程」
次に、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写工程を行うために、図１に示す磁気転写装置の固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａおよび可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａに、それぞれマスター情報担体２００を保持させる。
次いで、磁気記録媒体１を保持する固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２の磁化を消磁する消磁工程を行う。
【００５７】
消磁工程においては、まず、マスター情報担体２０２に磁気記録媒体１が保持されていない状態で、移動手段（図示略）によって消磁手段１５を、磁気転写手段１４の固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間に移動し、消磁手段１５の電磁石をマスター情報担体２０２に近接配置させる。
次いで、消磁手段１５の電磁石に配線を介して例えば、５０Ｈｚ程度の交流電圧を流し、その後、この交流電圧を徐々に下げる。このことにより、例えば、マスター情報担体２０２が、別の磁気記録媒体１の磁気転写に用いられたことによって磁化されたものであったとしても、マスター情報担体２０２の磁化が消磁される。消磁手段１５の電磁石に交流電圧を流す時間である消磁時間は３秒程度であることが好ましい。
【００５８】
なお、第１磁石部材５０は、第１磁石５１がマスター情報担体２０２の消磁に支障をきたすことがなく、しかも、マスター情報担体２０２を消磁することにより第１磁石５１に支障をきたすことがないように、消磁工程を行う前に、磁気転写用マスター２０２から十分に離間して配置しておくことが好ましい。
また、本実施形態においては、消磁工程の終了後、後述する磁気転写工程を行う前に、消磁手段１５を移動手段によって移動させて、消磁手段１５を磁気転写手段１４から十分に離れた位置に退避させ、消磁手段１５が備えられていることによって磁気転写工程に支障をきたすことがないようにする。
【００５９】
「磁気転写工程」
次いで、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写工程を行う。
磁気転写工程においては、まず、固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２上に、第１吸引路３１を用いて吸引することにより、初期磁化された磁気記録媒体１を真空チャッキングする。
【００６０】
本実施形態においては、マスター情報担体２０２と磁気記録媒体１とを密着させる前に、消磁工程を行ってマスター情報担体２０２の磁化を消磁しているので、マスター情報担体２０２と磁気記録媒体１との間に磁力に起因する吸引力が生じにくいものとなっている。したがって、本実施形態においては、磁気記録媒体１を真空チャッキングするに際して、徐々に近づけられていく両者の間隔が安定したものとなり、両者の間隔が十分に近づく前に一部のみ密着されてしまったり、マスター情報担体の一部と磁気記録媒体の一部とが衝突したりして、磁気記録媒体１および／またはマスター情報担体２０２に傷が付くことが防止される。
【００６１】
その後、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂを固定ホルダ３０に近づく方向へと移動させる。
筒状体４０ｂは、筒状体４０ｂの周部端面が固定ホルダ３０に設けられたオーリング３３と接する位置まで移動されることにより停止される。このことにより、固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間には、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３と筒状体４０ｂに設けられたＯリング４１とを用いて、閉じられた空間が形成される。
【００６２】
また、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａは、筒状体４０ｂの移動が停止された後も固定ホルダ３０に近づく方向へと移動し続け、記録体保持部４０ａに保持されたマスター情報担体２０１が磁気記録媒体１と接する位置まで移動されることにより停止される。なお、記録体保持部４０ａの移動停止位置は、予め決められている。その結果、磁気記録媒体１と、その両面を挟むように配置された２枚のマスター情報担体２０１、２０２とには、予め設定された軽い荷重が加えられるようになっている。
【００６３】
次いで、第２吸引路３２を用いて吸引することにより、固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間の空間を減圧し、空間と大気圧との差圧により、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを所定の圧力で密着させる。
【００６４】
その後、第２磁石部材６０を移動させてマスター情報担体２０１に近づけるとともに、第１磁石部材５０を移動させてマスター情報担体２０２に近づける。
なお、第２磁石部材６０は、磁気記録媒体１の両面を挟むようにマスター情報担体２０１、２０２を配置した後に、マスター情報担体２０１に近づけてもよいが、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａとの間の間隔を所定の間隔に維持した状態で、第２磁石部材６０を記録体保持部４０ａとともに移動させてもよい。この場合、第２磁石部材６０と記録体保持部４０ａとの間の間隔は、磁気記録媒体１の両面を挟むようにマスター情報担体２０１、２０２を配置した段階で、第２磁石部材６０と磁気記録媒体１との間隔が磁気転写可能な間隔となるようにされていることが好ましい。
【００６５】
次いで、第１回転軸５３および第２回転軸６３を軸とし、第１磁石５１と第２磁石６１とを対向させた状態を維持しながら、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を少なくとも１回転以上同期回転させる。このことにより、マスター情報担体２０１、２０２側からマスター情報担体２０１、２０２および磁気記録媒体１に外部磁界を印加し、マスター情報担体２０１、２０２に形成されている情報信号を磁気記録媒体１の両面に磁気転写する。
【００６６】
より詳細には、第１磁石５１および第２磁石６１が１回転する間、２枚のマスター情報担体２０１、２０２に挟まれた磁気記録媒体１には、第１磁石５１および第２磁石６１により、初期磁化における磁界とは逆向きの直流磁界が周方向に順次印加される。
このことにより、磁気記録媒体１の固定ホルダ３０側のマスター情報担体２０２と接する側では、マスター情報担体２０２の凹部と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化後の状態が維持されるものの、凸部と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。
【００６７】
また、磁気記録媒体１の可動ホルダ４０側のマスター情報担体２０１と接する側では、マスター情報担体２０１の凹部と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化後の状態が維持されるものの、凸部と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。
このようにして、磁気記録媒体１の両面には、それぞれ、マスター情報担体２０１、２０２に設けられた凹凸の配列からなるサーボ・パターンが、磁化の向きの配列からなる情報信号として転写される。その結果、磁気記録媒体１は、位置決めデータ記憶領域にサーボ・パターンが記憶されたものとなる。
【００６８】
その後、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を移動させて、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０をマスター情報担体２０１、２０２から離す。また、第２吸引路３２を介した吸引を停止して固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間の空間を大気圧とする。次いで、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂを移動させて、磁気記録媒体１と記録体保持部４０ａに保持されたマスター情報担体２０１とを離間させる。これにより、固定ホルダ３０に保持された磁気記録媒体１は、外部に露出した状態となる。その後、第１吸引路３１を用いて、記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２上への磁気記録媒体１の真空チャッキングを解除し、磁気記録媒体１を取り出す。
【００６９】
本実施形態においては、１枚の磁気記録媒体１を製造する方法について説明したが、複数枚の磁気記録媒体を製造する場合には、上述した工程を繰り返し行えばよい。したがって、磁気転写工程を行う前に必ず消磁工程を行う。
【００７０】
本実施形態においては、磁気転写装置として、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体２０１、２０２の磁化を消磁する消磁手段１５と、マスター情報担体２０１、２０２と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体１とを密着させて、マスター情報担体２０１、２０２側から外部磁界を印加することにより、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写手段１４とを備えるものを用いている。このため、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写するために、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを密着させる前に、マスター情報担体２０１、２０２の磁化を消磁する消磁工程を行うことができる。
【００７１】
その結果、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写するために、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを密着させる際に、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１との間に磁力に起因する吸引力が生じることを防止することができる。
したがって、本実施形態によれば、磁気記録媒体１およびマスター情報担体２０１、２０２を傷つけずに、磁気転写装置にマスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを密着させて容易に取り付けることができ、歩留まりよく磁気記録媒体１に磁気転写できる。
なお、以上の本願発明の説明は磁気記録媒体の両面にサーボ・パターンを磁気転写する例によって行ったが、本願発明は磁気記録媒体の片面のみに磁気転写を行う場合、また転写パターンとしてセルフサーボ・パターンを用いる場合においても同様に用いることができる。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施できる。
「実施例１」
以下に示す方法によって製造された磁気転写される磁気記録媒体に、以下に示す方法によって製造されたマスター情報担体を用いて、以下に示す方法により情報信号を磁気転写した。
【００７３】
＜磁気記録媒体の製造＞
洗浄済みのガラス基板（コニカミノルタ社製、外形２．５インチ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板の上に、６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの軟磁性層を成膜し、この上にＲｕ層を層厚０．７６ｎｍで成膜した後、さらに４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂの軟磁性層を層厚３４ｎｍ成膜して、これを軟磁性下地層とした。
【００７４】
次に、上記軟磁性下地層の上に、Ｎｉ−６Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲット、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ５ｎｍ、２０ｎｍの層厚で順に成膜し、これを配向制御層とした。
【００７５】
次に、配向制御層の上に、多層構造の磁性層として、Ｃｏ１２Ｃｒ１６Ｐｔ−１６ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ５Ｃｒ２２Ｐｔ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ（膜厚０．５ｎｍ）、Ｃｏ１５Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｂ（膜厚３ｎｍ）を積層した。
【００７６】
次に、ＣＶＤ法により層厚２．５ｎｍの炭素保護層を成膜し、磁気記録媒体を得た。
次に、この磁気記録媒体の表面に、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤膜を厚さ１５オングストロームで形成した。
【００７７】
次に、潤滑剤を塗布した磁気記録媒体に対して、ワイピング処理を施した。ワイピングテープには、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維を用いた。ワイピング処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、ワイピングテープの送り速度は１０ｍｍ／秒、ワイピングテープを磁気記録媒体に押し当てる際の押圧力は９８ｍＮ、処理時間は５秒間とした。
【００７８】
次に、ワイピング処理を施した磁気記録媒体に対してバーニッシュ加工を施した。バーニッシュテープには、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。バーニッシュ加工は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度を１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気ディスクに押し当てる際の押圧力を９８ｍＮ、処理時間を５秒間として行った。
【００７９】
次に、バーニッシュ加工を施した磁気記録媒体の信号記録面に対して１０ｋＯｅの磁界を加えながら初期磁化を行った。
【００８０】
＜マスター情報担体の製造＞
マスター情報担体には、２７１ｋトラック／インチのサーボ信号等の転写パターンが形成されたものを用いた。なお、このマスター情報担体は、そのトラックが幅１２０ｎｍ、そのトラック間隔が６０ｎｍ、セクター数は１周あたり２５５、転写パターンの段差が４５ｎｍである。
このマスター情報担体は、凸部及び凹部を有するＮｉ基材の上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚１０ｎｍのＲｕ膜と、磁性層として層厚２０ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金膜と、層厚１５ｎｍの８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜とを順次積層した後、その上に、保護層として層厚２０ｎｍのＣＶＤ炭素膜を形成することで作製されたものである。
【００８１】
＜磁気転写の方法＞
初期磁化された磁気記録媒体１に対して、図１に示す磁気転写装置を用いて、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写した。
まず、図１に示す磁気転写装置の固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａおよび可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａにそれぞれマスター情報担体２００を保持させた。
【００８２】
次に、第１磁石部材５０を、磁気転写用マスター２０２から十分に離間して配置した。
次いで、磁気記録媒体１を保持する固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２の磁化を消磁する消磁工程を行った。
消磁工程においては、まず、移動手段によって消磁手段１５を、磁気転写手段１４の固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間に移動して、消磁手段１５の電磁石をマスター情報担体２０２に近接配置させた。次いで、消磁手段１５の電磁石に、配線を介して５０Ｈｚ、２００Ｗ程度の交流電圧を流し、この交流電圧を徐々に下げた。なお、消磁手段１５の電磁石に交流電圧を流す時間である消磁時間は３秒であった。
【００８３】
消磁工程の終了後、消磁手段１５を移動手段によって移動させて、消磁手段１５を磁気転写手段１４から十分に離れた位置に退避させた。
次いで、磁気記録媒体１に情報信号を磁気転写する磁気転写工程を行った。まず、第１吸引路３１を用いて吸引することにより、固定ホルダ３０の記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２上に、初期磁化された磁気記録媒体１を真空チャッキングした。
【００８４】
その後、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂを固定ホルダ３０に近づく方向へと移動させて、筒状体４０ｂの周部端面と固定ホルダ３０に設けられたオーリング３３とを接触させた。このことにより、固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間に、閉じられた空間を形成した。
その後、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａを、さらに固定ホルダ３０に近づく方向へと移動させ、記録体保持部４０ａに保持されたマスター情報担体２０１と磁気記録媒体１とを接触させた。
【００８５】
次いで、第２吸引路３２を用いて吸引し、マスター情報担体２０１、２０２と磁気記録媒体１とを９８ｍＮの圧力で密着させた。
その後、第２磁石部材６０を移動させてマスター情報担体２０１に近づけるとともに、第１磁石部材５０を移動させてマスター情報担体２０２に近づけた。次いで、第１回転軸５３および第２回転軸６３を軸とし、第１磁石５１と第２磁石６１とを対向させた状態を維持しながら、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を２秒間同期回転させた。
【００８６】
このことにより、マスター情報担体２０１、２０２側からマスター情報担体２０１、２０２および磁気記録媒体１に７ｋＯｅの外部磁界を印加し、マスター情報担体２０１、２０２に形成されている情報信号を磁気記録媒体１の両面に磁気転写した。
【００８７】
その後、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０をマスター情報担体２０１、２０２から離し、第２吸引路３２を介した吸引を停止して固定ホルダ３０と可動ホルダ４０との間の空間を大気圧とした。次いで、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂを移動させて、磁気記録媒体１と記録体保持部４０ａに保持されたマスター情報担体２０１とを離間させた。その後、第１吸引路３１を用いて、記録体保持部３０ａに保持されたマスター情報担体２０２上への磁気記録媒体１の真空チャッキングを解除し、磁気記録媒体１を取り出した。
【００８８】
「比較例１」
消磁工程を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして、磁気記録媒体を得た。
【００８９】
実施例１の方法および比較例１の方法をそれぞれ繰り返し行うことにより、実施例および比較例の磁気記録媒体をそれぞれ１００００枚製造し、マスター情報担体２０２上に磁気記録媒体１を真空チャッキングする際に生じた傷で磁気転写不良が生じた磁気記録媒体の枚数を調べた。その結果、実施例１では０枚であり、比較例１では３５枚であった。
【００９０】
このように本発明の実施例１では、比較例１と比較して、傷により磁気転写不良が生じた磁気記録媒体の数が少ないことが確認できた。
【符号の説明】
【００９１】
１・・・磁気記録媒体、１５・・・消磁手段、１４・・・磁気転写手段、３０・・・固定ホルダ、３０ａ・・・記録体保持部、３１・・・第１吸引路、３２・・・第２吸引路、３３、４１・・・Ｏリング、３５・・・保持面、４０・・・可動ホルダ、４０ａ・・・記録体保持部、４０ｂ・・・筒状体、５０・・・第１磁石部材、６０・・・第２磁石部材、２００、２０１、２０２・・・マスター情報担体、２００ａ、２００ｂ・・・開口。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁手段と、前記マスター情報担体と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体とを密着させて、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加することにより、前記磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する磁気転写手段とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【請求項２】
前記消磁手段が、前記マスター情報担体に近接配置される電磁石と、前記電磁石に電圧を印加する手段とを備えていることを特徴とする請求項１に記載の磁気転写装置。
【請求項３】
情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁工程と、前記マスター情報担体と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体とを密着させて、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加することにより、前記磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する磁気転写工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記消磁工程が、前記マスター情報担体に電磁石を近接配置して、前記電磁石に電圧を印加することにより、前記マスター情報担体の磁化を消磁する工程であることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１】
情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁手段と、前記マスター情報担体と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体とを密着させて、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加することにより、前記磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する磁気転写手段とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【請求項２】
前記消磁手段が、前記マスター情報担体に近接配置される電磁石と、前記電磁石に電圧を印加する手段とを備えていることを特徴とする請求項１に記載の磁気転写装置。
【請求項３】
情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体の磁化を消磁する消磁工程と、前記マスター情報担体と非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体とを密着させて、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加することにより、前記磁気記録媒体に情報信号を磁気転写する磁気転写工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記消磁工程が、前記マスター情報担体に電磁石を近接配置して、前記電磁石に電圧を印加することにより、前記マスター情報担体の磁化を消磁する工程であることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１２−１０４１７３（Ｐ２０１２−１０４１７３Ａ）
【公開日】平成２４年５月３１日（２０１２．５．３１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２４９９８９（Ｐ２０１０−２４９９８９）
【出願日】平成２２年１１月８日（２０１０．１１．８）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【公開日】平成２４年５月３１日（２０１２．５．３１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月８日（２０１０．１１．８）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
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