踵の開いた足用衣料品に改善された踵支持をもたらす装置および方法
足用衣料物品は、足の自然な運動を見込むように湾曲されたプラットフォーム２１０を含む。物品は、また、幾何学的中心点１２９を有する踵パッド２１２と、プラットフォーム２１０に連結された、プラットフォーム２１０の前部で足を保持し、かつ足の踵が自由に動けるようにするように構成された保持覆い１１４とを含む。踵パッド２１２の幾何学的中心点１２９を通る線と保持覆い１１４の中心線との交点のところに、実質的角度２１８が作り出される。足用衣料物品は、足の実際の生理学により緊密に共形となり、着用時には足の踵を踵パッド２１２の中心にとどまらせる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、履物に関し、より詳細には踵の開いた足用衣料品に関する。
【背景技術】
【０００２】
サンダル、草履（ｆｌｉｐ−ｆｌｏｐｓ）、木靴など、踵の開いた、または踵部分が露出した（ｂａｃｋｌｅｓｓ）履物は、世界中の多くの地域ですべての年齢の人々によって着用される人気の高い衣類品目である。踵の開いた足用衣料品は、履物としては人気が高いが、足を受けるプラットフォームの踵パッドが踵の実際の接触領域と通常は精確に一致しないので、しばしば着用者に不快感を引き起こす。特に、歩行時など、足が上げられるときには、足を受けるプラットフォームは、足の外縁に向かって揺動する傾向にある。足を受けるプラットフォーム上に足が下りるとき、踵は、内縁の近くでプラットフォームに接触する傾向にあり、そのことが、足に最小限の支持しかもたらさず、しばしば、利用可能な踵パッドから中心がずれた、摩耗した踵接触領域を生み出す。
【０００３】
図１Ａ〜１Ｂは、現在市場で入手可能なものに類似した草履１００の一実施形態を示す。草履１００は、通常、拇趾と第２趾との間の鼻緒（ｔｈｏｎｇ）によって足に保持される、踵部分が露出したサンダルである。草履１００は、一般に、プラットフォーム１１０と、踵パッド１１２と、ストラップ１１４などの保持覆い１１４とを含む。
【０００４】
特定の実施形態では、プラットフォーム１１０は、ストラップ１１４が３つの接触点１１６のところで取り付けられた平らな気泡ゴムで作製され、全体的に足の輪郭に従うような形状である。代替的に、草履１００および／または踵の開いた足用衣料品を、革、木材、プラスチック、エラストマーなどの様々な材料から作製することもできる。踵部分が露出した一部のサンダルは、スパイクヒールおよび／または傾いたプラットフォーム１１０さえも含む。保持覆い１１４は、単一のストラップ１１４または複雑な基礎構造を含むことができる。草履１００および踵部分が露出した他の履物を様々な材料から構成できることが、当業者には認識されよう。加えて、プラットフォーム１１０、踵パッド１１２、および保持覆い１１４は、様々なスタイルおよび／または配置で構成することができる。
【０００５】
保持覆い１１４は、該保持覆い１１４内の領域をほぼ均等に分割する中心線１１８の画定を容易にすることができる。ここに描かれた実施形態では、中心線１１８は、接触点１１６ｂと１１６ｃとの間に位置する中点１２０から始まってプラットフォーム１１０のほぼ中心を通る。
【０００６】
踵パッド１１２は、プラットフォーム１１０の下部を含むことができる。踵パッド１１２について幾何学的中心点１２２を識別することができる。中心点１２２と中点１２０とを通る線１２４が、角度１２６の画定を容易にすることができる。特定の実施形態では、角度１２６は、足の自然な曲がりを表すことがある。一般に、角度１２６は、非実質的であり、約１８０度となることがある。
【０００７】
図１Ｂは、中心点１２９を有する実際の踵接触領域１２８を示す。踵接触領域１２８は、通常、草履１００の内縁１３０の近くに位置する。運動時にプラットフォーム１１０が揺動するとき、踵は、プラットフォーム１１０の縁部１３０の近くに接触し、そのことが踵への支持量の減少をまねく。内縁１３０は、外縁１３２よりも早く潰れて、高低のある傾斜したプラットフォーム１１０を作り出す傾向にある。ユーザは、通常、踵パッド１１２が不均一に摩耗するにつれて不快感を経験する。加えて、草履１００の外縁１３２は、通常、使用されていない過剰なプラットフォーム材料を有する。過剰な材料は、ユーザを苛立たせることがある。
【０００８】
踵保持デバイスもしくは踵部分（ｂａｃｋ）を有する靴または履物では、問題は、いくらか軽減される。そのような実施形態では、靴のプラットフォーム１１０および／または靴底は、一般に足に固定され、通常、踵の開いた履物で一般的であるようには揺動しない。その結果、足を受けるプラットフォーム１１０は、一般に、足、特に踵に一致したままである。それでも、踵の開いた履物の需要は、引き続き高いままである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
以上の議論から、足を受けるプラットフォームの揺動運動を見込み、足の踵が当たる可能性が最も高い場所に踵パッドの中心を位置決めする、踵の開いた足用衣料物品が必要とされていることが明らかなはずである。有益には、そのような足用衣料物品は、着用が快適で、長持ちする、人気の高い踵の開いた履物を提供する。足の踵が当たる可能性が最も高い場所に中心がおかれた踵パッドを提供することは、ユーザにより良好な踵支持をもたらし、足用衣料品の寿命を潜在的に延長する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、現在の技術水準に応えて、具体的には、現在利用可能な踵の開いた履物によってまだ完全には解決されていない当該技術分野における問題および必要に応えて開発された。したがって、本発明は、当該技術分野における前述の欠点の多くまたはすべてを克服する足用衣料物品を提供するために開発された。
【００１１】
装置は、一実施形態では、足の自然な運動を見込み、幾何学的中心点を有する踵パッドを含む、足を受ける湾曲したプラットフォームを提供するように構成される。装置は、プラットフォームの前部で足を保持し、足の踵が自由に動けるようにする、プラットフォームに連結された保持覆いをさらに含む。保持覆いは、中心線を有しており、踵パッドの幾何学的中心点を通る線と保持覆いの中心線との交点のところに実質的角度が作り出される。特定の諸実施形態では、実質的角度は、足の自然な曲がりよりも急激である。
【００１２】
また、足用衣料物品を製造する本発明の方法が提示される。一実施形態では、方法は、プラットフォームと、該プラットフォームに連結された中心線を有する保持覆いとを提供するステップを含む。方法は、また、踵接触領域を判定するステップと、踵パッドを踵接触領域の中心点と位置合わせするステップとを含んでおり、踵パッドの幾何学的中心点を通る線と中心線との交点のところに実質的角度が作り出される。
【００１３】
本明細書全体を通じた、特徴、利点、もしくは類似の文言への言及は、本発明によって実現できるすべての特徴および利点が、本発明のいずれか単一の実施形態にあるべき、または単一の実施形態にあることを意味するものではない。むしろ、特徴および利点に言及する文言は、一実施形態に関して記載される特定の特徴、利点、または特性が、本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味するものと理解される。ゆえに、本明細書全体を通じた、特徴および利点の議論、ならびに類似の文言は、同一の実施形態に言及することもあるが、必ずしもそうとは限らない。
【００１４】
さらに、ここに記載される本発明の特徴、利点、および特性は、１つもしくは複数の実施形態においていずれかの適切な方式で組み合わせることができる。特定の実施形態の具体的な特徴または利点のうちの１つもしくは複数なしに本発明を実施できることが、当業者には認識されよう。他の場合には、本発明のすべての実施形態には存在しないことのある追加の特徴および利点を、特定の実施形態では認めることができる。
【００１５】
本発明のこれらの特徴および利点は、以下の説明および添付の特許請求の範囲からより完全に明らかとなり、または以下で示される本発明の実行によって学ぶことができる。
本発明の利点が容易に理解されるように、添付図面に示される特定の諸実施形態を参照することによって、以上で簡潔に説明した本発明のより詳細な説明を提示する。これらの図面が本発明の典型的な諸実施形態を描くにすぎず、したがって本発明の範囲を限定するものと見なされるべきではないことを理解した上で、本発明について、添付図面を用いてさらなる特異性および詳細とともに記載かつ説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本明細書全体を通した「一実施形態（ｏｎｅ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ、ａｎ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」または類似の文言への言及は、その実施形態に関して記載される特定の特徴、構造、または特性が本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。ゆえに、本明細書全体を通した語句「一実施形態では（ｉｎ ｏｎｅ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ、ｉｎ ａｎ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」および類似の文言の出現は、すべて同一の実施形態に言及することもあるが、必ずしもそうとは限らない。
【００１７】
さらに、ここに記載される本発明の特徴、構造、または特性は、１つもしくは複数の実施形態においていずれかの適切な方式で組み合わせることができる。以下の説明では、本発明の諸実施形態の完全な理解をもたらすために多数の具体的詳細が提供される。ただし、具体的詳細のうちの１つもしくは複数なしに、または他の方法、コンポーネント、材料などを用いて本発明を実施できることが、当業者には認識されよう。他の場合には、本発明の諸態様を不明瞭にするのを避けるために、周知の構造、材料、または操作は、詳細には示されず、記載されない。
【００１８】
図２Ａは、本発明による草履２００の一実施形態を描く。草履２００は、図１Ａ〜１Ｂに示された草履１００に類似であるが、プラットフォーム２１０は、着用者の踵に改善された支持をもたらすような角度に向けられた踵パッド２１２を含む。特定の実施形態では、プラットフォーム２１０は、足の自然な湾曲および運動を見込むように湾曲させられる。
【００１９】
湾曲したプラットフォーム２１０は、一実施形態によれば、踵パッド２１２を予想される踵接触領域１２８に対して位置決めする。特定の実施形態では、踵接触領域１２８の中心点１２９は、踵パッド２１２のおおよその幾何学的中心点を構成する。踵パッド２１２を踵接触領域１２８と位置合わせすると、踵がすべての側部で実質的な支持を受けられるようになる。加えて、内縁１３０が外縁１３２とほぼ等しい摩耗を受けるので、踵パッド２１２は、より均一に摩耗する。したがって、踵接触領域１２８は、従来の踵パッド１１２を用いる場合よりも長持ちする。
【００２０】
ここで述べられるように、従来の踵パッド１１２は、図１Ａで角度１２６によって表される足の自然な湾曲と位置合わせすることができる。理論上、踵パッド１１２は、中央位置の支持を踵にもたらすはずである。しかし、足の運動および形状ならびに保持覆い１１４は、踵が実際にプラットフォーム１１０および２１０に接触する場所に影響を与える。
【００２１】
ここに描かれる諸実施形態では、ストラップ１１４は、足の両側に不均一な圧力を及ぼす。内側ストラップ１１４ａは、通常、特定の条件下では、足に対して外側ストラップ１１４ｂよりも小さな圧力を及ぼす。一実施形態では、足が下げられてプラットフォーム１１０に押し付けられ、かつ全体的にプラットフォーム１１０の形状と位置合わせされるときには、外側ストラップ１１４ｂは、足の対応する側部に対して張力を加えることによって足を保持する。対照的に、同一条件下の内側ストラップ１１４ａは、通常、比較的緩いままである。
【００２２】
しかし、着用者が自身の足を持ち上げるときには、張力は、一般に外側ストラップ１１４ｂから移動し、２本のストラップ１１４ａと１１４ｂとの間でより釣り合いが取れた状態になって、プラットフォーム１１０の踵パッド１１２を外側へ揺動させる。着用者が再び踏み下ろすときには、ストラップ１１４ａおよび１１４ｂの両方の張力が、図１Ｂで踵接触領域１２８が輪郭を点線で描かれた場所付近のオフセット位置で、踵をプラットフォームに接触させる。ストラップ１１４の構成を変更すると、足に加わる張力が変化するが、外側への運動および踵パッド１１２の不均一な摩耗の問題は、残ることになる。
【００２３】
図２Ａに戻ると、ストラップ１１４を変更するのではなく、ここに描かれる実施形態の草履２００は、問題を軽減するように踵パッド２１２を調節する。その結果、ユーザは、より大きな快適性および改善された踵支持を経験する。踵パッド２１２は、草履２００とともに足の運動と位置合わせされる。不均一な摩耗および関連した痛みは、最小限に抑えられ、余計なプラットフォーム材料をなくすことができる。
【００２４】
中心線１１８と幾何学的中心点１２９を通る線２１６との交点は、好ましくは実質的角度２１８を作り出す。保持覆い１１４を備えた草履２００の上部は、前述のように機能することができる。それでも、湾曲したプラットフォーム２１０は、着用者がプラットフォーム２１０上に踏み下ろすときに、踵にさらなる支持をもたらす。踵パッド２１２の湾曲は、特定の実施形態では外縁２２０が足の踵を越えて揺動するのを妨げる。
【００２５】
プラットフォーム２１０と踵パッド２１２とは、単一ユニットであっても単一ユニットでなくてもよい。踵パッド２１２は、特定の実施形態ではプラットフォーム２１０に取り付けることができる。一実施形態では、踵パッド２１２は、着用者個人用に調整され、踵の開いた既存品の履物に適用することができる。プラットフォーム２１０は、個々の着用者に適合するように変更することができる。一実施形態では、外縁１３２上の余分なプラットフォーム材料を除去することができ、その材料を使用して、内縁１３０にもたらされる支持を増大させて実質的角度２１８を作り出すことができる。他の実施形態では、踵接触領域１２８にもたらされる支持の量を増大させるために、追加の材料を既存の草履１００の内縁１３０に追加することができる。
【００２６】
ここに描かれる実施形態では、踵パッド２１２は、保持覆い１１４が穴１１６ｂおよび１１６ｃのところでプラットフォームに接触する場所の付近で湾曲する。特定の実施形態では、曲がりまたは角度２１８は、履物で一般的に模倣される、図１Ａに示された足の自然な曲がりよりも急激である。
【００２７】
図２Ｂは、従来の草履１００に対する、改善された草履２００を示す。角度２２２は、図１Ａに示された足の自然な曲がり１２６からの曲がり２１８の変化量を表すことができる。特定の実施形態では、曲がり２１８を、足の自然な曲がりよりも２０度を超えて急激なものとすることができ、約３０度の差が好ましい。
【００２８】
図３は、足を受けるプラットフォーム３１０と、踵パッド３１２と、保持覆い３１４と、接触点３１６と、中心線３１８と、中点３２０と、特定の実施形態では踵接触領域１２８の中心点１２９と位置合わせできる幾何学的中心点３２２とを備えた、踵部分が露出したサンダル３００の代替的な一実施形態を示す。保持覆い３１４および接触点３１６は、保持覆い３１４間の領域をほぼ均等に分割する中心線３１８の画定を容易にすることができる。
【００２９】
加えて、接触点３１６ａおよび３１６ｂは、特定の実施形態では中点３２０を画定することができる。代替的に、中点３２０は、接触点３１６ａおよび３１６ｂを通る線３２１の上方または下方に位置してもよい。中点３２０は、一実施形態では中心線３１８と線３２４の交点とによって画定されてよい。ここに描かれる実施形態では、線３２４は、幾何学的中心点３２２を通り、踵パッド３１２のおおよその中心線を画定する。踵パッド３１２は、前述のように踵接触領域１２８に対して位置決めすることができる。
【００３０】
特定の実施形態では、踵パッド３１２の幾何学的中心点３２２と、踵接触領域の中心点１２９とは、踵接触領域１２８内および／または踵パッド３１２の中央領域３２６内に含まれることがあり、また必ずしも直接位置合わせされるわけではない。参照される幾何学的点３２２、１２９など、明確に規定された点の精密な位置合わせなしでの本発明の利益が、当業者には認識されよう。ゆえに、幾何学的中心点３２２と踵接触中心点１２９とを含む投影された中央領域３２６は、本発明の範囲内にある。
【００３１】
保持覆い３１４は、当該技術分野で公知の様々な形状および形態を含むことができる。ここに描かれる実施形態では、保持覆い３１４は、プラットフォーム３１０に連結された単一ストラップ３１４を含む。足は、摺動することができ、プラットフォーム３１０は、前述のように位置を変えることができる。踵接触領域１２８を判定することができ、踵を支持し、かつ通常の動きを見込むように、踵パッド３１２を調整することができる。
【００３２】
図４は、踵部分が露出したサンダル４００の代替的な一実施形態を示す。ここに描かれるサンダル４００は、湾曲したプラットフォーム４１０と、踵パッド４１２と、保持覆い４１４と、接触点４１６と、中心線４１８と、中点４２０と、幾何学的中心点４２２とを含む。つま先ストラップ４１４ａと斜めストラップ４１４ｂとを含む保持覆い４１４は、中点４２０付近で線４２４と交差して実質的角度４２６を作り出す、おおよその中心線４１８を有する。
【００３３】
中点４２０は、特定の実施形態では、接触点４１６ａと４１６ｂとの間を延びるメインストラップ４１４ｂに対するものとすることができる。代替的に、中点４２０を、確立された中心線４１８およびプラットフォーム４１０に対するものとすることもできる。線４２４は、ここに描かれる実施形態では、決定された中点４２０と踵パッド４１２の幾何学的中心点４２２とを通る線を画定する。
【００３４】
サンダル４００のここに描かれるスタイルは、踵パッド４１２を踵接触領域１２８と実質的に位置合わせすることで利益を得る。踵パッド４１２の幾何学的中心点４２２は、したがって、保持覆い４１４の中心線４１８から実質的角度のところに位置する。角度を成した踵パッド４１２は、ユーザにより大きな快適性および支持をもたらす。
【００３５】
以下の概略的なフローチャート図は、全体的に、論理フローチャート図として示される。したがって、ここに描かれる順序および標示付きの諸ステップは、ここに提示される方法の一実施形態を示す。機能、論理、または１つもしくは複数のステップへの効果、あるいはそれらの一部分がここに示される方法と均等である他のステップおよび方法を考案することができる。さらに、使用される形式および記号は、方法の論理的ステップを説明するために与えられており、方法の範囲を限定しないものと理解される。様々な矢印のタイプおよび線のタイプがフローチャート図で使用されることがあるが、それらは、対応する方法の範囲を限定しないものと理解される。さらに、特定の方法が起こる順序は、ここに示される対応する諸ステップの順序に厳密に従っても従わなくてもよい。
【００３６】
図５は、踵の開いた履物に改善された踵支持をもたらす方法５００の一実施形態を示す。方法５００は、５０２から始まり、プラットフォームと保持覆いとを有する足用衣料物品を提供するステップ５０４と、実際の踵接触領域を判定するステップ５０６と、踵パッドを踵接触領域の中心と実質的に位置合わせするステップ５０８とを含む。次いで、方法５００は、５１０で終了する。
【００３７】
特定の実施形態では、踵の開いた足用衣料物品を、特定の足および／または歩行パターンに適合するようにカスタマイズすることができる。踵パッドは、踵パッドの幾何学的中心点を通る線と保持覆いの中心線との交点のところに実質的角度が作り出されるように、位置合わせすることができる。プラットフォームは、足用衣料物品に対する足の自然な運動を見込むように湾曲させることができる。
【００３８】
特定の実施形態では、踵パッドを踵接触領域の中心点と実質的に位置合わせ５０８するように、踵パッドをプラットフォームに取り付けることができる。他の実施形態では、プラットフォームを、踵パッドが踵接触領域の中心点と実質的に位置合わせ５０８された、単一ユニットとして形成することができる。一実施形態では、既存の踵パッドの支持を補うために、プラットフォーム材料をプラットフォームに取り付けることができる。
【００３９】
図６は、本発明の草履２００の湾曲を説明する他の方法を示す。この描写では、中心線１１９と幾何学的中心点１２９を通る線２１６との交点は、好ましくは実質的角度２１９を作り出す。特定の実施形態では、曲がりまたは角度２１９は、履物で一般的に模倣される、図１Ａに示された足の自然な曲がりよりも急激である。特定の実施形態では、曲がり２１９を、足の自然な曲がりよりも２０度を超えて急激なものとすることができる。一実施形態では、角度２１９は、約３０度である。
【００４０】
本発明は、その趣旨または本質的な特徴から逸脱することなく、他の特定の形態で具体化することができる。ここに記載の実施形態は、あらゆる点で、限定的なものではなく単なる説明と見なされるべきである。したがって、本発明の範囲は、以上の説明ではなく添付の特許請求の範囲によって示される。特許請求の範囲の均等物の意味および範囲内に入るすべての変更が、特許請求の範囲に含まれることになる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１Ａ】中央に配置された踵パッドを備える典型的な草履の一実施形態を示す平面図である。
【図１Ｂ】オフセットされた踵接触領域を備える典型的な草履の一実施形態を示す平面図である。
【図２Ａ】本発明による草履の一実施形態を示す平面図である。
【図２Ｂ】図１Ａ〜１Ｂに示された草履に対する、本発明による草履の一実施形態を示す平面図である。
【図３】本発明によるサンダルの一実施形態を示す平面図である。
【図４】本発明によるサンダルの他の実施形態を示す平面図である。
【図５】本発明による、踵の開いた足用衣料品に改善された支持をもたらす方法の一実施形態を示す概略フローチャート図である。
【図６】本発明によるサンダルの一実施形態を示す平面図である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、履物に関し、より詳細には踵の開いた足用衣料品に関する。
【背景技術】
【０００２】
サンダル、草履（ｆｌｉｐ−ｆｌｏｐｓ）、木靴など、踵の開いた、または踵部分が露出した（ｂａｃｋｌｅｓｓ）履物は、世界中の多くの地域ですべての年齢の人々によって着用される人気の高い衣類品目である。踵の開いた足用衣料品は、履物としては人気が高いが、足を受けるプラットフォームの踵パッドが踵の実際の接触領域と通常は精確に一致しないので、しばしば着用者に不快感を引き起こす。特に、歩行時など、足が上げられるときには、足を受けるプラットフォームは、足の外縁に向かって揺動する傾向にある。足を受けるプラットフォーム上に足が下りるとき、踵は、内縁の近くでプラットフォームに接触する傾向にあり、そのことが、足に最小限の支持しかもたらさず、しばしば、利用可能な踵パッドから中心がずれた、摩耗した踵接触領域を生み出す。
【０００３】
図１Ａ〜１Ｂは、現在市場で入手可能なものに類似した草履１００の一実施形態を示す。草履１００は、通常、拇趾と第２趾との間の鼻緒（ｔｈｏｎｇ）によって足に保持される、踵部分が露出したサンダルである。草履１００は、一般に、プラットフォーム１１０と、踵パッド１１２と、ストラップ１１４などの保持覆い１１４とを含む。
【０００４】
特定の実施形態では、プラットフォーム１１０は、ストラップ１１４が３つの接触点１１６のところで取り付けられた平らな気泡ゴムで作製され、全体的に足の輪郭に従うような形状である。代替的に、草履１００および／または踵の開いた足用衣料品を、革、木材、プラスチック、エラストマーなどの様々な材料から作製することもできる。踵部分が露出した一部のサンダルは、スパイクヒールおよび／または傾いたプラットフォーム１１０さえも含む。保持覆い１１４は、単一のストラップ１１４または複雑な基礎構造を含むことができる。草履１００および踵部分が露出した他の履物を様々な材料から構成できることが、当業者には認識されよう。加えて、プラットフォーム１１０、踵パッド１１２、および保持覆い１１４は、様々なスタイルおよび／または配置で構成することができる。
【０００５】
保持覆い１１４は、該保持覆い１１４内の領域をほぼ均等に分割する中心線１１８の画定を容易にすることができる。ここに描かれた実施形態では、中心線１１８は、接触点１１６ｂと１１６ｃとの間に位置する中点１２０から始まってプラットフォーム１１０のほぼ中心を通る。
【０００６】
踵パッド１１２は、プラットフォーム１１０の下部を含むことができる。踵パッド１１２について幾何学的中心点１２２を識別することができる。中心点１２２と中点１２０とを通る線１２４が、角度１２６の画定を容易にすることができる。特定の実施形態では、角度１２６は、足の自然な曲がりを表すことがある。一般に、角度１２６は、非実質的であり、約１８０度となることがある。
【０００７】
図１Ｂは、中心点１２９を有する実際の踵接触領域１２８を示す。踵接触領域１２８は、通常、草履１００の内縁１３０の近くに位置する。運動時にプラットフォーム１１０が揺動するとき、踵は、プラットフォーム１１０の縁部１３０の近くに接触し、そのことが踵への支持量の減少をまねく。内縁１３０は、外縁１３２よりも早く潰れて、高低のある傾斜したプラットフォーム１１０を作り出す傾向にある。ユーザは、通常、踵パッド１１２が不均一に摩耗するにつれて不快感を経験する。加えて、草履１００の外縁１３２は、通常、使用されていない過剰なプラットフォーム材料を有する。過剰な材料は、ユーザを苛立たせることがある。
【０００８】
踵保持デバイスもしくは踵部分（ｂａｃｋ）を有する靴または履物では、問題は、いくらか軽減される。そのような実施形態では、靴のプラットフォーム１１０および／または靴底は、一般に足に固定され、通常、踵の開いた履物で一般的であるようには揺動しない。その結果、足を受けるプラットフォーム１１０は、一般に、足、特に踵に一致したままである。それでも、踵の開いた履物の需要は、引き続き高いままである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
以上の議論から、足を受けるプラットフォームの揺動運動を見込み、足の踵が当たる可能性が最も高い場所に踵パッドの中心を位置決めする、踵の開いた足用衣料物品が必要とされていることが明らかなはずである。有益には、そのような足用衣料物品は、着用が快適で、長持ちする、人気の高い踵の開いた履物を提供する。足の踵が当たる可能性が最も高い場所に中心がおかれた踵パッドを提供することは、ユーザにより良好な踵支持をもたらし、足用衣料品の寿命を潜在的に延長する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、現在の技術水準に応えて、具体的には、現在利用可能な踵の開いた履物によってまだ完全には解決されていない当該技術分野における問題および必要に応えて開発された。したがって、本発明は、当該技術分野における前述の欠点の多くまたはすべてを克服する足用衣料物品を提供するために開発された。
【００１１】
装置は、一実施形態では、足の自然な運動を見込み、幾何学的中心点を有する踵パッドを含む、足を受ける湾曲したプラットフォームを提供するように構成される。装置は、プラットフォームの前部で足を保持し、足の踵が自由に動けるようにする、プラットフォームに連結された保持覆いをさらに含む。保持覆いは、中心線を有しており、踵パッドの幾何学的中心点を通る線と保持覆いの中心線との交点のところに実質的角度が作り出される。特定の諸実施形態では、実質的角度は、足の自然な曲がりよりも急激である。
【００１２】
また、足用衣料物品を製造する本発明の方法が提示される。一実施形態では、方法は、プラットフォームと、該プラットフォームに連結された中心線を有する保持覆いとを提供するステップを含む。方法は、また、踵接触領域を判定するステップと、踵パッドを踵接触領域の中心点と位置合わせするステップとを含んでおり、踵パッドの幾何学的中心点を通る線と中心線との交点のところに実質的角度が作り出される。
【００１３】
本明細書全体を通じた、特徴、利点、もしくは類似の文言への言及は、本発明によって実現できるすべての特徴および利点が、本発明のいずれか単一の実施形態にあるべき、または単一の実施形態にあることを意味するものではない。むしろ、特徴および利点に言及する文言は、一実施形態に関して記載される特定の特徴、利点、または特性が、本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味するものと理解される。ゆえに、本明細書全体を通じた、特徴および利点の議論、ならびに類似の文言は、同一の実施形態に言及することもあるが、必ずしもそうとは限らない。
【００１４】
さらに、ここに記載される本発明の特徴、利点、および特性は、１つもしくは複数の実施形態においていずれかの適切な方式で組み合わせることができる。特定の実施形態の具体的な特徴または利点のうちの１つもしくは複数なしに本発明を実施できることが、当業者には認識されよう。他の場合には、本発明のすべての実施形態には存在しないことのある追加の特徴および利点を、特定の実施形態では認めることができる。
【００１５】
本発明のこれらの特徴および利点は、以下の説明および添付の特許請求の範囲からより完全に明らかとなり、または以下で示される本発明の実行によって学ぶことができる。
本発明の利点が容易に理解されるように、添付図面に示される特定の諸実施形態を参照することによって、以上で簡潔に説明した本発明のより詳細な説明を提示する。これらの図面が本発明の典型的な諸実施形態を描くにすぎず、したがって本発明の範囲を限定するものと見なされるべきではないことを理解した上で、本発明について、添付図面を用いてさらなる特異性および詳細とともに記載かつ説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本明細書全体を通した「一実施形態（ｏｎｅ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ、ａｎ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」または類似の文言への言及は、その実施形態に関して記載される特定の特徴、構造、または特性が本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。ゆえに、本明細書全体を通した語句「一実施形態では（ｉｎ ｏｎｅ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ、ｉｎ ａｎ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」および類似の文言の出現は、すべて同一の実施形態に言及することもあるが、必ずしもそうとは限らない。
【００１７】
さらに、ここに記載される本発明の特徴、構造、または特性は、１つもしくは複数の実施形態においていずれかの適切な方式で組み合わせることができる。以下の説明では、本発明の諸実施形態の完全な理解をもたらすために多数の具体的詳細が提供される。ただし、具体的詳細のうちの１つもしくは複数なしに、または他の方法、コンポーネント、材料などを用いて本発明を実施できることが、当業者には認識されよう。他の場合には、本発明の諸態様を不明瞭にするのを避けるために、周知の構造、材料、または操作は、詳細には示されず、記載されない。
【００１８】
図２Ａは、本発明による草履２００の一実施形態を描く。草履２００は、図１Ａ〜１Ｂに示された草履１００に類似であるが、プラットフォーム２１０は、着用者の踵に改善された支持をもたらすような角度に向けられた踵パッド２１２を含む。特定の実施形態では、プラットフォーム２１０は、足の自然な湾曲および運動を見込むように湾曲させられる。
【００１９】
湾曲したプラットフォーム２１０は、一実施形態によれば、踵パッド２１２を予想される踵接触領域１２８に対して位置決めする。特定の実施形態では、踵接触領域１２８の中心点１２９は、踵パッド２１２のおおよその幾何学的中心点を構成する。踵パッド２１２を踵接触領域１２８と位置合わせすると、踵がすべての側部で実質的な支持を受けられるようになる。加えて、内縁１３０が外縁１３２とほぼ等しい摩耗を受けるので、踵パッド２１２は、より均一に摩耗する。したがって、踵接触領域１２８は、従来の踵パッド１１２を用いる場合よりも長持ちする。
【００２０】
ここで述べられるように、従来の踵パッド１１２は、図１Ａで角度１２６によって表される足の自然な湾曲と位置合わせすることができる。理論上、踵パッド１１２は、中央位置の支持を踵にもたらすはずである。しかし、足の運動および形状ならびに保持覆い１１４は、踵が実際にプラットフォーム１１０および２１０に接触する場所に影響を与える。
【００２１】
ここに描かれる諸実施形態では、ストラップ１１４は、足の両側に不均一な圧力を及ぼす。内側ストラップ１１４ａは、通常、特定の条件下では、足に対して外側ストラップ１１４ｂよりも小さな圧力を及ぼす。一実施形態では、足が下げられてプラットフォーム１１０に押し付けられ、かつ全体的にプラットフォーム１１０の形状と位置合わせされるときには、外側ストラップ１１４ｂは、足の対応する側部に対して張力を加えることによって足を保持する。対照的に、同一条件下の内側ストラップ１１４ａは、通常、比較的緩いままである。
【００２２】
しかし、着用者が自身の足を持ち上げるときには、張力は、一般に外側ストラップ１１４ｂから移動し、２本のストラップ１１４ａと１１４ｂとの間でより釣り合いが取れた状態になって、プラットフォーム１１０の踵パッド１１２を外側へ揺動させる。着用者が再び踏み下ろすときには、ストラップ１１４ａおよび１１４ｂの両方の張力が、図１Ｂで踵接触領域１２８が輪郭を点線で描かれた場所付近のオフセット位置で、踵をプラットフォームに接触させる。ストラップ１１４の構成を変更すると、足に加わる張力が変化するが、外側への運動および踵パッド１１２の不均一な摩耗の問題は、残ることになる。
【００２３】
図２Ａに戻ると、ストラップ１１４を変更するのではなく、ここに描かれる実施形態の草履２００は、問題を軽減するように踵パッド２１２を調節する。その結果、ユーザは、より大きな快適性および改善された踵支持を経験する。踵パッド２１２は、草履２００とともに足の運動と位置合わせされる。不均一な摩耗および関連した痛みは、最小限に抑えられ、余計なプラットフォーム材料をなくすことができる。
【００２４】
中心線１１８と幾何学的中心点１２９を通る線２１６との交点は、好ましくは実質的角度２１８を作り出す。保持覆い１１４を備えた草履２００の上部は、前述のように機能することができる。それでも、湾曲したプラットフォーム２１０は、着用者がプラットフォーム２１０上に踏み下ろすときに、踵にさらなる支持をもたらす。踵パッド２１２の湾曲は、特定の実施形態では外縁２２０が足の踵を越えて揺動するのを妨げる。
【００２５】
プラットフォーム２１０と踵パッド２１２とは、単一ユニットであっても単一ユニットでなくてもよい。踵パッド２１２は、特定の実施形態ではプラットフォーム２１０に取り付けることができる。一実施形態では、踵パッド２１２は、着用者個人用に調整され、踵の開いた既存品の履物に適用することができる。プラットフォーム２１０は、個々の着用者に適合するように変更することができる。一実施形態では、外縁１３２上の余分なプラットフォーム材料を除去することができ、その材料を使用して、内縁１３０にもたらされる支持を増大させて実質的角度２１８を作り出すことができる。他の実施形態では、踵接触領域１２８にもたらされる支持の量を増大させるために、追加の材料を既存の草履１００の内縁１３０に追加することができる。
【００２６】
ここに描かれる実施形態では、踵パッド２１２は、保持覆い１１４が穴１１６ｂおよび１１６ｃのところでプラットフォームに接触する場所の付近で湾曲する。特定の実施形態では、曲がりまたは角度２１８は、履物で一般的に模倣される、図１Ａに示された足の自然な曲がりよりも急激である。
【００２７】
図２Ｂは、従来の草履１００に対する、改善された草履２００を示す。角度２２２は、図１Ａに示された足の自然な曲がり１２６からの曲がり２１８の変化量を表すことができる。特定の実施形態では、曲がり２１８を、足の自然な曲がりよりも２０度を超えて急激なものとすることができ、約３０度の差が好ましい。
【００２８】
図３は、足を受けるプラットフォーム３１０と、踵パッド３１２と、保持覆い３１４と、接触点３１６と、中心線３１８と、中点３２０と、特定の実施形態では踵接触領域１２８の中心点１２９と位置合わせできる幾何学的中心点３２２とを備えた、踵部分が露出したサンダル３００の代替的な一実施形態を示す。保持覆い３１４および接触点３１６は、保持覆い３１４間の領域をほぼ均等に分割する中心線３１８の画定を容易にすることができる。
【００２９】
加えて、接触点３１６ａおよび３１６ｂは、特定の実施形態では中点３２０を画定することができる。代替的に、中点３２０は、接触点３１６ａおよび３１６ｂを通る線３２１の上方または下方に位置してもよい。中点３２０は、一実施形態では中心線３１８と線３２４の交点とによって画定されてよい。ここに描かれる実施形態では、線３２４は、幾何学的中心点３２２を通り、踵パッド３１２のおおよその中心線を画定する。踵パッド３１２は、前述のように踵接触領域１２８に対して位置決めすることができる。
【００３０】
特定の実施形態では、踵パッド３１２の幾何学的中心点３２２と、踵接触領域の中心点１２９とは、踵接触領域１２８内および／または踵パッド３１２の中央領域３２６内に含まれることがあり、また必ずしも直接位置合わせされるわけではない。参照される幾何学的点３２２、１２９など、明確に規定された点の精密な位置合わせなしでの本発明の利益が、当業者には認識されよう。ゆえに、幾何学的中心点３２２と踵接触中心点１２９とを含む投影された中央領域３２６は、本発明の範囲内にある。
【００３１】
保持覆い３１４は、当該技術分野で公知の様々な形状および形態を含むことができる。ここに描かれる実施形態では、保持覆い３１４は、プラットフォーム３１０に連結された単一ストラップ３１４を含む。足は、摺動することができ、プラットフォーム３１０は、前述のように位置を変えることができる。踵接触領域１２８を判定することができ、踵を支持し、かつ通常の動きを見込むように、踵パッド３１２を調整することができる。
【００３２】
図４は、踵部分が露出したサンダル４００の代替的な一実施形態を示す。ここに描かれるサンダル４００は、湾曲したプラットフォーム４１０と、踵パッド４１２と、保持覆い４１４と、接触点４１６と、中心線４１８と、中点４２０と、幾何学的中心点４２２とを含む。つま先ストラップ４１４ａと斜めストラップ４１４ｂとを含む保持覆い４１４は、中点４２０付近で線４２４と交差して実質的角度４２６を作り出す、おおよその中心線４１８を有する。
【００３３】
中点４２０は、特定の実施形態では、接触点４１６ａと４１６ｂとの間を延びるメインストラップ４１４ｂに対するものとすることができる。代替的に、中点４２０を、確立された中心線４１８およびプラットフォーム４１０に対するものとすることもできる。線４２４は、ここに描かれる実施形態では、決定された中点４２０と踵パッド４１２の幾何学的中心点４２２とを通る線を画定する。
【００３４】
サンダル４００のここに描かれるスタイルは、踵パッド４１２を踵接触領域１２８と実質的に位置合わせすることで利益を得る。踵パッド４１２の幾何学的中心点４２２は、したがって、保持覆い４１４の中心線４１８から実質的角度のところに位置する。角度を成した踵パッド４１２は、ユーザにより大きな快適性および支持をもたらす。
【００３５】
以下の概略的なフローチャート図は、全体的に、論理フローチャート図として示される。したがって、ここに描かれる順序および標示付きの諸ステップは、ここに提示される方法の一実施形態を示す。機能、論理、または１つもしくは複数のステップへの効果、あるいはそれらの一部分がここに示される方法と均等である他のステップおよび方法を考案することができる。さらに、使用される形式および記号は、方法の論理的ステップを説明するために与えられており、方法の範囲を限定しないものと理解される。様々な矢印のタイプおよび線のタイプがフローチャート図で使用されることがあるが、それらは、対応する方法の範囲を限定しないものと理解される。さらに、特定の方法が起こる順序は、ここに示される対応する諸ステップの順序に厳密に従っても従わなくてもよい。
【００３６】
図５は、踵の開いた履物に改善された踵支持をもたらす方法５００の一実施形態を示す。方法５００は、５０２から始まり、プラットフォームと保持覆いとを有する足用衣料物品を提供するステップ５０４と、実際の踵接触領域を判定するステップ５０６と、踵パッドを踵接触領域の中心と実質的に位置合わせするステップ５０８とを含む。次いで、方法５００は、５１０で終了する。
【００３７】
特定の実施形態では、踵の開いた足用衣料物品を、特定の足および／または歩行パターンに適合するようにカスタマイズすることができる。踵パッドは、踵パッドの幾何学的中心点を通る線と保持覆いの中心線との交点のところに実質的角度が作り出されるように、位置合わせすることができる。プラットフォームは、足用衣料物品に対する足の自然な運動を見込むように湾曲させることができる。
【００３８】
特定の実施形態では、踵パッドを踵接触領域の中心点と実質的に位置合わせ５０８するように、踵パッドをプラットフォームに取り付けることができる。他の実施形態では、プラットフォームを、踵パッドが踵接触領域の中心点と実質的に位置合わせ５０８された、単一ユニットとして形成することができる。一実施形態では、既存の踵パッドの支持を補うために、プラットフォーム材料をプラットフォームに取り付けることができる。
【００３９】
図６は、本発明の草履２００の湾曲を説明する他の方法を示す。この描写では、中心線１１９と幾何学的中心点１２９を通る線２１６との交点は、好ましくは実質的角度２１９を作り出す。特定の実施形態では、曲がりまたは角度２１９は、履物で一般的に模倣される、図１Ａに示された足の自然な曲がりよりも急激である。特定の実施形態では、曲がり２１９を、足の自然な曲がりよりも２０度を超えて急激なものとすることができる。一実施形態では、角度２１９は、約３０度である。
【００４０】
本発明は、その趣旨または本質的な特徴から逸脱することなく、他の特定の形態で具体化することができる。ここに記載の実施形態は、あらゆる点で、限定的なものではなく単なる説明と見なされるべきである。したがって、本発明の範囲は、以上の説明ではなく添付の特許請求の範囲によって示される。特許請求の範囲の均等物の意味および範囲内に入るすべての変更が、特許請求の範囲に含まれることになる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１Ａ】中央に配置された踵パッドを備える典型的な草履の一実施形態を示す平面図である。
【図１Ｂ】オフセットされた踵接触領域を備える典型的な草履の一実施形態を示す平面図である。
【図２Ａ】本発明による草履の一実施形態を示す平面図である。
【図２Ｂ】図１Ａ〜１Ｂに示された草履に対する、本発明による草履の一実施形態を示す平面図である。
【図３】本発明によるサンダルの一実施形態を示す平面図である。
【図４】本発明によるサンダルの他の実施形態を示す平面図である。
【図５】本発明による、踵の開いた足用衣料品に改善された支持をもたらす方法の一実施形態を示す概略フローチャート図である。
【図６】本発明によるサンダルの一実施形態を示す平面図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
足用衣料物品であって、
足を受けるプラットフォームを含んでおり、前記プラットフォームが、前記足の自然な運動を見込むように湾曲され、前方部分と幾何学的中心点を有する踵パッドとを含んでおり、前記物品がさらに、
前記プラットフォームに連結された、前記プラットフォームの前部で足を保持し、かつ前記足の踵が自由に動けるようにするように構成された保持覆いを含んでおり、
前記踵パッドと前記前方部分との間に実質的角度が作り出される物品。
【請求項２】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりよりも急激である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりから２０度を超えてオフセットしている、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりから３０度を超えてオフセットしている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記踵パッドの前記幾何学的中心点が、判定された踵接触領域の幾何学的中心点を構成する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記保持覆いが、前記プラットフォームに連結された１対のストラップを含んでおり、前記中心線が前記ストラップ間の領域をほぼ均等に分割する、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記ストラップが前記足の両側に不均一な圧力を及ぼす、請求項５に記載の装置。
【請求項８】
足用衣料物品であって、
足を受けるプラットフォームを含んでおり、前記プラットフォームが、前記足の自然な運動を見込むように湾曲され、幾何学的中心点を有する踵パッドを含んでおり、前記物品がさらに、
前記プラットフォームに連結された、前記プラットフォームの前部で足を保持し、かつ前記足の踵が自由に動けるようにするように構成された保持覆いを含んでおり、前記保持覆いが中心線を有しており、
前記踵パッドの前記幾何学的中心点を通る線と前記保持覆いの前記中心線との交点のところに実質的角度が作り出されており、
前記実質的角度が前記足の自然な曲がりよりも急激である物品。
【請求項９】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりから２０度を超えてオフセットしており、好ましいオフセット角度が３０度である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記踵パッドの前記幾何学的中心点が、判定された踵接触領域の幾何学的中心点を構成する、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記保持覆いが、前記プラットフォームに連結された１対のストラップを含んでおり、前記中心線が前記ストラップ間の領域をほぼ均等に分割する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記ストラップが前記足の両側に不均一な圧力を及ぼす、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
足用衣料物品を製造する方法であって、
足を受けるプラットフォームと、前記プラットフォームに連結された保持覆いとを提供するステップを含んでおり、前記保持覆いが、前記プラットフォームの前部で足を保持し、かつ前記足の踵が自由に動けるようにするように構成されており、前記方法がさらに、
運動中に前記踵が前記プラットフォームと繰り返し接触する踵接触領域を判定するステップと、
踵パッドを前記踵接触領域の中心点と実質的に位置合わせするステップとを含んでおり、前記踵パッドの幾何学的中心点を通る線と前記プラットフォームとの交点のところに実質的角度が作り出される方法。
【請求項１４】
前記プラットフォームが、前記足の自然な運動を見込むように湾曲している、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりよりも急激である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりから２０度を超えてオフセットしており、好ましいオフセット角度が３０度である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記プラットフォームと前記踵パッドとが単一ユニットである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
踵パッドを前記踵接触領域の中心点に位置合わせするステップが、前記踵パッドを前記プラットフォームに取り付ける工程をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
踵パッドを前記踵接触領域の中心点に位置合わせするステップが、前記足の自然な運動を見込むように前記プラットフォームを変更する工程をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
前記保持覆いが、前記プラットフォームに連結された１対のストラップを含んでおり、前記中心線が前記ストラップ間の領域をほぼ均等に分割する、請求項１３に記載の方法。
【請求項２１】
前記ストラップが前記足の両側に不均一な圧力を及ぼす、請求項２０に記載の方法。
【請求項１】
足用衣料物品であって、
足を受けるプラットフォームを含んでおり、前記プラットフォームが、前記足の自然な運動を見込むように湾曲され、前方部分と幾何学的中心点を有する踵パッドとを含んでおり、前記物品がさらに、
前記プラットフォームに連結された、前記プラットフォームの前部で足を保持し、かつ前記足の踵が自由に動けるようにするように構成された保持覆いを含んでおり、
前記踵パッドと前記前方部分との間に実質的角度が作り出される物品。
【請求項２】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりよりも急激である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりから２０度を超えてオフセットしている、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりから３０度を超えてオフセットしている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記踵パッドの前記幾何学的中心点が、判定された踵接触領域の幾何学的中心点を構成する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記保持覆いが、前記プラットフォームに連結された１対のストラップを含んでおり、前記中心線が前記ストラップ間の領域をほぼ均等に分割する、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記ストラップが前記足の両側に不均一な圧力を及ぼす、請求項５に記載の装置。
【請求項８】
足用衣料物品であって、
足を受けるプラットフォームを含んでおり、前記プラットフォームが、前記足の自然な運動を見込むように湾曲され、幾何学的中心点を有する踵パッドを含んでおり、前記物品がさらに、
前記プラットフォームに連結された、前記プラットフォームの前部で足を保持し、かつ前記足の踵が自由に動けるようにするように構成された保持覆いを含んでおり、前記保持覆いが中心線を有しており、
前記踵パッドの前記幾何学的中心点を通る線と前記保持覆いの前記中心線との交点のところに実質的角度が作り出されており、
前記実質的角度が前記足の自然な曲がりよりも急激である物品。
【請求項９】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりから２０度を超えてオフセットしており、好ましいオフセット角度が３０度である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記踵パッドの前記幾何学的中心点が、判定された踵接触領域の幾何学的中心点を構成する、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記保持覆いが、前記プラットフォームに連結された１対のストラップを含んでおり、前記中心線が前記ストラップ間の領域をほぼ均等に分割する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記ストラップが前記足の両側に不均一な圧力を及ぼす、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
足用衣料物品を製造する方法であって、
足を受けるプラットフォームと、前記プラットフォームに連結された保持覆いとを提供するステップを含んでおり、前記保持覆いが、前記プラットフォームの前部で足を保持し、かつ前記足の踵が自由に動けるようにするように構成されており、前記方法がさらに、
運動中に前記踵が前記プラットフォームと繰り返し接触する踵接触領域を判定するステップと、
踵パッドを前記踵接触領域の中心点と実質的に位置合わせするステップとを含んでおり、前記踵パッドの幾何学的中心点を通る線と前記プラットフォームとの交点のところに実質的角度が作り出される方法。
【請求項１４】
前記プラットフォームが、前記足の自然な運動を見込むように湾曲している、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりよりも急激である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記実質的角度が、前記足の自然な曲がりから２０度を超えてオフセットしており、好ましいオフセット角度が３０度である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記プラットフォームと前記踵パッドとが単一ユニットである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
踵パッドを前記踵接触領域の中心点に位置合わせするステップが、前記踵パッドを前記プラットフォームに取り付ける工程をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
踵パッドを前記踵接触領域の中心点に位置合わせするステップが、前記足の自然な運動を見込むように前記プラットフォームを変更する工程をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
前記保持覆いが、前記プラットフォームに連結された１対のストラップを含んでおり、前記中心線が前記ストラップ間の領域をほぼ均等に分割する、請求項１３に記載の方法。
【請求項２１】
前記ストラップが前記足の両側に不均一な圧力を及ぼす、請求項２０に記載の方法。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図１Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公表番号】特表２００９−５１９１１５（Ｐ２００９−５１９１１５Ａ）
【公表日】平成２１年５月１４日（２００９．５．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５４５９６５（Ｐ２００８−５４５９６５）
【出願日】平成１８年１２月１３日（２００６．１２．１３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００６／０６２０５４
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０７０８３９
【国際公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【出願人】（５０８１７８３１９）
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年５月１４日（２００９．５．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１２月１３日（２００６．１２．１３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００６／０６２０５４
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０７０８３９
【国際公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【出願人】（５０８１７８３１９）
【Ｆターム（参考）】
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