配向フィルムおよびその製造方法、ならびに位相差フィルムおよびその製造方法
【課題】プロセスステップを削減しつつ、フィルム基材の寸法を安定させることの可能な配向フィルムおよびその製造方法ならびに位相差フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応するパターンを転写する。これにより、基材フィルムの内部に、面内方向の成形歪みを残留させずに、凹凸を形成する。
【解決手段】ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応するパターンを転写する。これにより、基材フィルムの内部に、面内方向の成形歪みを残留させずに、凹凸を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、液晶性モノマーなどを配向させる配向フィルムおよびその製造方法に関する。また、本技術は、光の偏光状態を変化させる位相差フィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、偏光眼鏡を用いるタイプの立体映像表示装置として、左目用画素と右目用画素とで異なる偏光状態の光を射出させるものがある。このような表示装置では、視聴者が偏光眼鏡をかけた上で、左目用画素からの射出光を左目のみに入射させ、右目用画素からの射出光を右目のみに入射させることにより、立体映像の観察を可能とするものである。
【０００３】
例えば、特許文献１では、左目用画素と右目用画素とで異なる偏光状態の光を射出させるために位相差フィルムが用いられている。この位相差フィルムでは、一の方向に遅相軸を有する位相差領域が左目用画素に対応して設けられ、上記位相差領域とは異なる方向に遅相軸を有する位相差領域が右目用画素に対応して設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３３６０７８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の位相差フィルムは、例えば、以下のようにして形成することが可能である。まず、フィルム基材の表面に、易接着層を介して紫外線硬化樹脂を塗布し、塗布した紫外線硬化樹脂に形状を転写することにより、フィルム基材上に配向膜を有する配向フィルムを形成する。次に、その配向フィルムの上に液晶性モノマーを塗布し、それを加熱し、硬化させることにより、配向フィルム上に位相差層を有する位相差フィルムを形成する。このように、位相差フィルムの形成には多くのプロセスステップが必要である。
【０００６】
近年、プロセスステップを削減するために、例えば、溶融押出法により、フィルム基材に直接、配向機能を有する形状を付与する試みが行われている。しかし、溶融押出法では、冷却時の成形歪みがフィルム基材の内部に在留するので、成形後、時間の経過とともにフィルム基材が寸法収縮を起こす。寸法収縮の長期的な進行は、位相差フィルムが表示装置に搭載されてからも、位相差領域と画素との相対的な位置関係が変化することを意味しており、立体視性能を著しく阻害し、商品性を損ねる危険性を孕んでいる。従って、少なくとも、位相差フィルムの表示装置への搭載後には、フィルム基材の寸法が安定していることが求められる。このように、溶融押出法では、プロセスステップを削減することができるものの、フィルム基材の寸法が安定していないという問題があった。
【０００７】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、プロセスステップを削減しつつ、フィルム基材の寸法を安定させることの可能な配向フィルムの製造方法および位相差フィルムの製造方法を提供することにある。また、第２の目的は、そのような方法で形成された配向フィルムおよび位相差フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本技術による配向フィルムの製造方法は、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧し、それにより、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応するパターンを転写するステップを含むものである。
【０００９】
本技術による位相差フィルムの製造方法は、以下の２つのステップを含むものである。
（Ａ１）ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応する第１パターンが転写された配向フィルムを形成する第１ステップ
（Ａ２）前記配向フィルムの表面に直接、液晶性モノマーを含む溶液を配置して、液晶性モノマーを配向させたのち、配向した後の液晶性モノマーを重合させる第２ステップ
【００１０】
本技術による配向フィルムの製造方法および本技術による位相差フィルムの製造方法では、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤が、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧される。これにより、基材フィルムの内部に、面内方向の成形歪みを残留させずに、凹凸を形成することが可能となる。また、基材フィルムに配向膜を形成する場合よりも少ないプロセスステップで配向フィルムを形成することができる。
【００１１】
本技術による配向フィルムは、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を基材フィルムの表面に有している。上記の凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである。
【００１２】
本技術による位相差フィルムは、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する配向フィルムと、配向フィルムの表面に直接、接するとともに、配向フィルムの凹凸に応じた遅相軸を有する位相差層とを備えている。上記の凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである。
【００１３】
本技術による配向フィルムおよび本技術による位相差フィルムでは、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより配向フィルムが形成されている。そのため、配向フィルムの内部に、面内方向の成形歪みがほとんど残留していない。また、本技術では、凹凸が基材フィルムの表面に直接、形成されている。そのため、基材フィルム上に配向膜を形成する場合よりも少ないプロセスステップで配向フィルムが形成されている。
【発明の効果】
【００１４】
本技術による配向フィルムの製造方法および本技術による位相差フィルムの製造方法によれば、基材フィルムの内部に、面内方向の成形歪みをほとんど残留させずに、凹凸を形成するとともに、少ないプロセスステップで配向フィルムを形成することができるようにしたので、プロセスステップを削減しつつ、フィルム基材の寸法を安定させることができる。また、上記の方法を用いることにより、従来よりも少ないプロセスステップでフィルム基材の寸法の安定した配向フィルムおよび位相差フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本技術による一実施の形態に係る表示装置の構成の一例を偏光眼鏡と共に表す斜視図である。
【図２】図１の表示装置の内部構成の一例を表す断面図である。
【図３】図２の位相差フィルムの構成の一例を表す斜視図である。
【図４】基材フィルムの塑性変形量の計測方法について説明するための図である。
【図５】実施例に係る基材フィルムの塑性変形量の一例を表す図である。
【図６】比較例に係る基材フィルムの塑性変形量の一例を表す図である。
【図７】図３の配向フィルムの構成の一例を表す斜視図である。
【図８】図３の位相差層の遅相軸の一例を表す図である。
【図９】図３の右目用位相差領域および左目用位相差領域の遅相軸の一例を他の光学部材の遅相軸または透過軸と共に表す概念図である。
【図１０】図１の偏光眼鏡の右目用光学素子および左目用光学素子の構成の一例を表す斜視図である。
【図１１】図７の配向フィルムの製造方法の一例を表す図である。
【図１２】図３の位相差フィルムの製造方法の一例を表す図である。
【図１３】図１の表示装置の映像を右目で観察する際の透過軸および遅相軸の一例について説明するための概念図である。
【図１４】図１の表示装置の映像を右目で観察する際の透過軸および遅相軸の他の例について説明するための概念図である。
【図１５】図１の表示装置の映像を左目で観察する際の透過軸および遅相軸の一例について説明するための概念図である。
【図１６】図１の表示装置の映像を左目で観察する際の透過軸および遅相軸の他の例について説明するための概念図である。
【図１７】実施例および比較例に係る配向フィルムの寸法変化率の一例を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、発明を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態
１．１ 表示装置の構成
１．２ 偏光眼鏡の構成
１．３ 製造方法
１．４ 基本動作
１．５ 効果
２．変形例
【００１７】
＜１．実施の形態＞
[１．１ 表示装置１の構成]
図１は、本技術による一実施の形態に係る表示装置１を、後述する偏光眼鏡２とともに斜視的に表したものである。図２は、図１の表示装置１の断面構成の一例を表したものである。表示装置１は、偏光眼鏡２を眼球の前に装着した観察者（図示せず）に対して立体映像を表示する偏光眼鏡方式の表示装置である。この表示装置１は、バックライトユニット１０、液晶表示パネル２０および位相差フィルム３０をこの順に積層して構成されたものである。この表示装置１において、位相差フィルム３０の表面が映像表示面１Ａとなっており、観察者側に向けられている。
【００１８】
なお、本実施の形態では、映像表示面１Ａが垂直面（鉛直面）と平行となるように表示装置１が配置されている。映像表示面１Ａは、例えば長方形状となっており、映像表示面１Ａの長手方向が、例えば水平方向（図中のｙ軸方向）と平行となっている。観察者は偏光眼鏡２を眼球の前に装着した上で、映像表示面１Ａを観察するものとする。偏光眼鏡２は円偏光タイプであり、表示装置１は円偏光眼鏡用の表示装置である。
【００１９】
（バックライトユニット１０）
バックライトユニット１０は、液晶表示パネル２０を背後から照明するものであり、例えば、反射板、光源および光学シート（いずれも図示せず）を有している。反射板は、光源からの射出光を光学シート側に戻すものであり、反射、散乱、拡散などの機能を有している。光源は、例えば、複数の線状光源が等間隔で並列配置されたり、複数の点状光源が２次元配列されたりしたものである。なお、線状光源としては、例えば、熱陰極管(ＨＣＦＬ；Hot Cathode Fluorescent Lamp)、冷陰極管（ＣＣＦＬ；Cold Cathode Fluorescent Lamp）などが挙げられる。点状光源としては、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ；Light Emitting Diode）などが挙げられる。光学シートは、光源からの光の面内輝度分布を均一化したり、光源からの光の発散角や偏光状態を所望の範囲内に調整したりするものであり、例えば、拡散板、拡散シート、プリズムシート、反射型偏光素子、位相差板などを含んで構成されている。なお、光源は、エッジライト方式のものでもよく、その場合には、必要に応じて導光板や導光フィルムが用いられる。
【００２０】
（液晶表示パネル２０）
液晶表示パネル２０は、複数の画素が２次元配列された透過型の表示パネルであり、映像信号に応じて各画素を駆動することによって画像を表示するものである。液晶表示パネル２０は、例えば、図２に示したように、バックライトユニット１０側から順に、偏光子２１Ａ、透明基板２２、画素電極２３、配向膜２４、液晶層２５、配向膜２６、共通電極２７、カラーフィルタ２８、透明基板２９および偏光子２１Ｂを有している。
【００２１】
ここで、偏光子２１Ａは、液晶表示パネル２０の光入射側に配置された偏光板であり、偏光子２１Ｂは液晶表示パネル２０の光射出側に配置された偏光板である。偏光子２１Ａ，２１Ｂは、光学シャッタの一種であり、ある一定の振動方向の光（偏光）のみを通過させる。偏光子２１Ａ，２１Ｂはそれぞれ、例えば、偏光軸が互いに所定の角度だけ（例えば９０度）異なるように配置されており、これによりバックライトユニット１０からの射出光が液晶層を介して透過し、あるいは遮断されるようになっている。なお、偏光板は、板状に限定されない。
【００２２】
偏光子２１Ａの透過軸の向きは、バックライトユニット１０から射出された光を透過可能な範囲内に設定される。例えば、バックライトユニット１０から射出される光の偏光軸が垂直方向となっている場合には、偏光子２１Ａの透過軸も垂直方向を向いており、バックライトユニット１０から射出される光の偏光軸が水平方向となっている場合には、偏光子２１Ａの透過軸も水平方向を向いている。なお、バックライトユニット１０から射出される光は直線偏光光である場合に限られるものではなく、円偏光や、楕円偏光、無偏光であってもよい。
【００２３】
偏光子２１Ｂの偏光軸の向きは、液晶表示パネル２０を透過した光を透過可能な範囲内に設定される。例えば、偏光子２１Ａの偏光軸の向きが水平方向となっている場合には、偏光子２１Ｂの偏光軸は偏光子２１Ａの偏光軸と直交する方向（垂直方向）を向いている。また、例えば、偏光子２１Ａの偏光軸の向きが垂直方向となっている場合には、偏光子２１Ｂの偏光軸は偏光子２１Ａの偏光軸と直交する方向（水平方向）を向いている。なお、上記の偏光軸と、上記の透過軸とは互いに同義である。
【００２４】
透明基板２２，２９は、一般に、可視光に対して透明な基板である。なお、バックライトユニット１０側の透明基板２２には、例えば、画素電極２３に電気的に接続された駆動素子としてのＴＦＴ（Thin Film Transistor；薄膜トランジスタ）および配線などを含むアクティブ型の駆動回路が形成されている。画素電極２３は、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ；Indium Tin Oxide）からなり、画素ごとの電極として機能する。配向膜２４，２６は、例えばポリイミドなどの高分子材料からなり、液晶に対して配向処理を行う。液晶層２５は、例えばＶＡ（Vertical Alignment）モード、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＴＮ（Twisted Nematic）モードまたはＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モードの液晶からなる。液晶層２５は、図示しない駆動回路からの印加電圧により、バックライトユニット１０からの射出光を画素ごとに透過または遮断する機能を有している。共通電極２７は、例えばＩＴＯからなり、各画素電極２３に対する共通の対向電極として機能する。
【００２５】
カラーフィルタ２８は、画素電極２３に対応して配置された複数のフィルタ部２８Ａと、画素電極２３の周辺領域に対応して配置されたブラックマトリクス部２８Ｂとを有している。フィルタ部２８Ａは、光透過性を有しており、かつ、バックライトユニット１０からの光を、例えば、赤、緑または青に色分離するようになっている。ブラックマトリクス部２８Ｂは、遮光性を有している。液晶表示パネル２０において、フィルタ部２８Ａと対向する部分が液晶表示パネル２０の画素２０Ａを構成しており、画素２０Ａ内において、フィルタ部２８Ａは、映像表示面１Ａ側に配置されている。
【００２６】
（位相差フィルム３０）
次に、位相差フィルム３０について説明する。図３は、位相差フィルム３０の構成の一例を斜視的に表したものである。位相差フィルム３０は、液晶表示パネル２０の偏光子２１Ｂを透過した光の偏光状態を変化させるものである。位相差フィルム３０は、液晶表示パネル２０の光射出側の表面（偏光子２１Ｂ）に粘着剤（図示せず）などによって貼り付けられている。位相差フィルム３０は、例えば、図２、図３に示したように、映像表示面１Ａ側から順に、配向フィルム３１および位相差層３２を有している。なお、図示しないが、配向フィルム３１および位相差層３２は、液晶表示パネル２０側からこの順に配置されていてもよい。
【００２７】
配向フィルム３１は、所定の特性を有する樹脂フィルムで構成されており、例えば、所定の特性を有する単層の樹脂フィルムであってもよいし、所定の特性を有する樹脂層を最表面に有する積層の樹脂フィルムであってもよい。ここで、「所定の特性」とは、面角が１３６度のダイヤモンド格子を、基材フィルム（単層の樹脂フィルムまたは樹脂層を最表面に有する積層の樹脂フィルム）の表層の塑性変形領域に達する程度の力で、基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式（１）を満たす特性を指している。なお、上記の「所定の特性」の計測は、配向フィルム３１表面の凹凸を形成する前のフィルム（後述の基材フィルム３１Ｄ）に対して行われる。ここで、「塑性変形領域に達する程度の力」は、例えば、１ｍＮ以上である。
【００２８】
Ｄｐ≧０．２５×Ｄｍａｘ…（１）
Ｄｐ：押し込み力を解除したときに基材フィルム３１Ｄに残存する塑性変形量
Ｄｍａｘ：ダイヤモンド格子を１ｍＮの力で基材フィルム３１Ｄの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
【００２９】
上記の式（１）中のＤｐ、Ｄｍａｘは、ビッカース硬度計によって計測することが可能である。例えば、図４に示したように、押し込み力をゼロ（図中のＡ）から徐々に上昇させ、押し込み力が１ｍＮに達したら（図中のＢ）、押し込み力をゼロ（図中のＣ）になるまで徐々に減少させ、その間ずっと塑性変形量（変位量）を計測する。上記の式（１）のＤｍａｘは、押し込み力が１ｍＮに達した図中のＢの時点での変位量を計測することにより得られる値である。また、上記の式（１）のＤｐは、押し込み力が解除され０ｍＮとなった図中のＣの時点での変位量を計測することにより得られる値である。
【００３０】
上記の式（１）を満たす材料としては、例えば、図５（Ａ）〜（Ｃ）に示したように、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）やＣＯＣ（シクロオレフィンコポリマー）等のシクロオレフィン系樹脂や、ＰＣ（ポリカーボネート）等の熱可塑性樹脂が挙げられる。上記の式（１）を満たさない材料としては、例えば、図６（Ａ）〜（Ｃ）に示したように、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）などが挙げられる。
【００３１】
配向フィルム３１は、非加熱押接転写法または低温加熱押接転写法により形成されたものである。ここで、「非加熱」とは、転写時にヒータなどで意図的な加熱を行わないことを意味している。また、「低温加熱」とは、転写時に基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低い温度で加熱を行うことを意味している。「押接転写法」とは、基材フィルムの表面に直接、原盤の凹凸を押圧し、塑性変形により、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応するパターンを転写する方法を指している。なお、非加熱押接転写法および低温加熱押接転写法についての説明は、後に詳述するものとする。
【００３２】
配向フィルム３１は、液晶などの配向性材料を特定の方向に配向させる機能を有している。配向フィルム３１は、位相差層３２側の表面に、例えば、図３、図７（Ａ）に示したように、配向方向が互いに異なる２種類の配向領域（右目用配向領域３１Ａ，左目用配向領域３１Ｂ）を有している。右目用配向領域３１Ａおよび左目用配向領域３１Ｂは、例えば、共通する一の方向（水平方向）に延在する帯状の形状となっており、右目用配向領域３１Ａおよび左目用配向領域３１Ｂの短手方向（垂直方向）に交互に配置されている。右目用配向領域３１Ａおよび左目用配向領域３１Ｂは、液晶表示パネル２０の画素に対応して配置されており、例えば、液晶表示パネル２０の短手方向（垂直方向）の画素ピッチに対応するピッチで配置されている。
【００３３】
右目用配向領域３１Ａは、例えば、図７（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と４５°で交差する方向に延在する複数の溝Ｖ１を有している。一方、左目用配向領域３１Ｂは、例えば、図７（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と４５°で交差する方向であって、かつ溝Ｖ１の延在方向と直交する方向に延在する複数の溝Ｖ２を有している。溝Ｖ１，Ｖ２はそれぞれ、例えば、図７（Ｂ）に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が垂直方向または水平方向を向いている場合には斜め４５°方向に延在している。また、図示しないが、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が斜め４５°方向を向いている場合には、溝Ｖ１が例えば水平方向に延在しており、溝Ｖ２が例えば垂直方向に延在している。
【００３４】
各溝Ｖ１，Ｖ２は、一の方向に直線状に延在していてもよいし、例えば、揺らぎながら（蛇行しながら）一の方向に延在していてもよい。各溝Ｖ１，Ｖ２の断面形状は、例えばＶ字状となっている。各溝Ｖ１，Ｖ２のピッチは小さい方が好ましく、ナノメーターオーダー（１μｍ未満）であることが好ましい。各溝Ｖ１，Ｖ２の深さは、ピッチの１／５以上であることが好ましい。ただし、製造のしやすさを考えると、各溝Ｖ１，Ｖ２のピッチが５０ｎｍ以上１μｍ未満であることが好ましく、各溝Ｖ１，Ｖ２の深さは、１０ｎｍ以上２５０ｎｍ未満となっていることが好ましい。各溝Ｖ１，Ｖ２の深さがピッチの１／５未満の場合には、製造過程において液晶性モノマーを正しく配向させることが困難となり、各溝Ｖ１，Ｖ２の深さが１μｍ以上となる場合には、基材フィルムと液晶層の屈折率の差により、若干ヘーズが生じてしまう傾向がある。
【００３５】
位相差層３２は、光学異方性を有する薄い層である。位相差層３２は、配向フィルム３１（右目用配向領域３１Ａおよび左目用配向領域３１Ｂ）の表面に直接、接して形成されている。位相差層３２は、配向フィルム３１の凹凸に応じた遅相軸を有している。位相差層３２は、例えば、図３に示したように、遅相軸の向きが互いに異なる２種類の位相差領域（右目用位相差領域３２Ａ，左目用位相差領域３２Ｂ）を有している。右目用位相差領域３２Ａは、右目用配向領域３１Ａに直接、接して形成されており、左目用位相差領域３２Ｂは、左目用配向領域３１Ｂに直接、接して形成されている。
【００３６】
右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂは、例えば、図３に示したように、共通する一の方向（水平方向）に延在する帯状の形状となっており、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂの短手方向（垂直方向）に交互に配置されている。右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂは、液晶表示パネル２０の画素に対応して配置されており、例えば、液晶表示パネル２０の短手方向（垂直方向）の画素ピッチに対応するピッチで配置されている。
【００３７】
右目用位相差領域３２Ａは、例えば、図３、図８に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と４５°で交差する方向に遅相軸ＡＸ１を有している。一方、左目用位相差領域３２Ｂは、例えば、図３、図８に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と４５°で交差する方向であって、かつ遅相軸ＡＸ１と直交する方向に遅相軸ＡＸ２を有している。遅相軸ＡＸ１，ＡＸ２はそれぞれ、例えば、図８に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が垂直方向または水平方向を向いている場合には斜め４５°方向を向いている。また、図示しないが、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が斜め４５°方向を向いている場合には、遅相軸ＡＸ１が例えば水平方向に延在しており、遅相軸ＡＸ２が例えば垂直方向を向いている。遅相軸ＡＸ１は、溝Ｖ１の延在方向を向いており、遅相軸ＡＸ２は、溝Ｖ２の延在方向を向いている。
【００３８】
さらに、遅相軸ＡＸ１は、例えば、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光眼鏡２の右目用位相差板４１Ａ（後述）の遅相軸ＡＸ４の向きと同一の方向を向いており、偏光眼鏡２の左目用位相差板４２Ａ（後述）の遅相軸ＡＸ５の向きと異なる方向を向いている。一方、遅相軸ＡＸ２は、例えば、遅相軸ＡＸ５の向きと同一の方向を向いており、遅相軸ＡＸ４の向きと異なる方向を向いている。
【００３９】
位相差層３２は、例えば、重合した高分子液晶材料を含んで構成されている。すなわち、位相差層３２では、液晶分子の配向状態が固定されている。高分子液晶材料としては、相転移温度（液晶相−等方相）、液晶材料の屈折率波長分散特性、粘性特性、プロセス温度などに応じて選定された材料が用いられる。
【００４０】
位相差層３２において、溝Ｖ１と右目用位相差領域３２Ａとの界面付近では、液晶分子の長軸が、溝Ｖ１の延在方向に沿うように配列しており、溝Ｖ２と左目用位相差領域３２Ｂとの界面付近では、液晶分子の長軸が、溝Ｖ２の延在方向に沿うように配列している。すなわち、溝Ｖ１および溝Ｖ２の形状および延在方向により、液晶分子の配向が制御され、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂの光学軸が設定される。
【００４１】
また、位相差層３２において、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂの構成材料や厚みを調整することにより、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂのリタデーション値が設定される。このリタデーション値は、基材３１が位相差を有する場合には、基材３１の位相差をも考慮して設定されることが好ましい。なお、本実施の形態では、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂは互いに同一の材料および厚みにより構成され、これにより、リタデーションの絶対値が互いに等しくなっている。
【００４２】
[１．２ 偏光眼鏡２]
次に、図１、図１０を参照しつつ、偏光眼鏡２について説明する。偏光眼鏡２は、観察者（図示せず）の眼球の前に装着されるものであり、表示装置１の映像表示面１Ａに映し出される映像を観察する際に観察者によって用いられるものである。この偏光眼鏡２は、例えば、円偏光眼鏡であり、例えば、図１に示したように、右目用光学素子４１、左目用光学素子４２、およびフレーム４３を有している。
【００４３】
フレーム４３は、右目用光学素子４１および左目用光学素子４２を支持するものである。フレーム４３の形状は、特に限られるものではないが、例えば、図１に示したように、観察者（図示せず）の鼻および耳にひっかける形状となっている。右目用光学素子４１および左目用光学素子４２は、表示装置１の映像表示面１Ａと対向した状態で用いられる。右目用光学素子４１および左目用光学素子４２は、図１に示したように、できるだけ一の水平面内に配置した状態で用いられることが好ましいが、多少傾いた平坦面内に配置した状態で用いられてもよい。
【００４４】
右目用光学素子４１は、例えば、図１０に示したように、右目用位相差板４１Ａおよび偏光板４１Ｂを有している。右目用位相差板４１Ａおよび偏光板４１Ｂは、表示装置１側から順に配置されている。一方、左目用光学素子４２は、例えば、図１０に示したように、左目用位相差板４２Ａおよび偏光板４２Ｂを有している。左目用位相差板４２Ａおよび偏光板４２Ｂは、表示装置１側から順に配置されている。
【００４５】
右目用光学素子４１および左目用光学素子４２は、上で例示したもの以外の部材を有していてもよい。例えば、右目用光学素子４１および左目用光学素子４２の光射出側（観察者側）の面に、偏光板４１Ｂ，４２Ｂが破損したときに破損片が観察者の眼球に飛散するのを防止する保護フィルム（図示せず）や保護のためのコーティング層（図示せず）が設けられていてもよい。また、右目用光学素子４１および左目用光学素子４２は、例えば、図１０に示したように、平坦な板状の形状となっていてもよいし、図示しないが、光入射側に突出した湾曲形状となっていてもよい。
【００４６】
偏光板４１Ｂ，４２Ｂは、ある一定の振動方向の光（偏光）のみを通過させるようになっている。例えば、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光板４１Ｂ，４２Ｂの偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７はそれぞれ、表示装置１の偏光板２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と直交する方向を向いている。偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７はそれぞれ、例えば、図９（Ａ）に示したように、偏光板２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が垂直方向を向いている場合には水平方向を向いており、例えば、図９（Ｂ）に示したように、偏光板２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が水平方向を向いている場合には垂直方向を向いている。また、図示しないが、偏光板２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が斜め４５°方向を向いている場合には、偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７は、それと直交する方向（−４５°）を向いている。
【００４７】
右目用位相差板４１Ａおよび左目用位相差板４２Ａは、光学異方性を有する薄い層またはフィルムである。右目用位相差板４１Ａの遅相軸ＡＸ４は、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光軸ＡＸ６と４５°で交差する方向を向いている。また、左目用位相差板４２Ａの遅相軸ＡＸ５は、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光軸ＡＸ７と４５°で交差する方向を向いており、かつ遅相軸ＡＸ４と直交する方向を向いている。遅相軸ＡＸ４，ＡＸ５はそれぞれ、例えば、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７が水平方向または垂直方向を向いている場合には、水平方向および垂直方向のいずれの方向とも交差する方向を向いている。また、図示しないが、偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７が斜め４５°方向を向いている場合には、遅相軸ＡＸ４が例えば水平方向を向いており、遅相軸ＡＸ５が例えば垂直方向を向いている。
【００４８】
また、遅相軸ＡＸ４は、右目用位相差領域３２Ａの遅相軸ＡＸ１の向きと同一の方向を向いており、左目用位相差領域３２Ｂの遅相軸ＡＸ２の向きと異なる方向を向いている。一方、遅相軸ＡＸ５は、遅相軸ＡＸ２と同一の方向を向いており、遅相軸ＡＸ１の向きと異なる方向を向いている。
【００４９】
［１．３ 製造方法］
次に、位相差フィルム３０の製造方法の一例について説明する。なお、以下では、まず、位相差フィルム３０の基材に相当する配向フィルム３１の製造方法の一例について説明する。その後、配向フィルム３１を用いて位相差フィルム３０を製造する方法の一例について説明する。
【００５０】
（配向フィルム３１の製造方法）
図１１は、配向フィルム３１の製造方法の一例を表したものである。図１１に示した製造装置１００は、互いに対向する型ロール１１０およびニップロール１２０を備えている。製造装置１００は、さらに、基材フィルム３１Ｄを巻き出すロール１３０と、製造後の配向フィルム３１を巻き取るロール１４０とを備えている。
【００５１】
ここで、型ロール１１０は、配向フィルム３１の表面の凹凸に対応するパターンを表面に有している。具体的には、型ロール１１０は、第１方向に延在した凹凸を含む複数の第１領域と、第１方向と交差する第２方向に延在した凹凸を含む複数の第２領域とを表面に有している。そして、第１領域および第２領域は、それぞれ帯状となっており、かつ型ロール１１０の表面において交互に配置されている。第１領域は、右目用配向領域３１Ａの凹凸の反転パターンとなっており、第２領域は、左目用配向領域３１Ｂの凹凸の反転パターンとなっている。つまり、型ロール１１０は、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有している。型ロール１１０とニップロール１２０との間には、配向フィルム３１表面の凹凸を形成する前のフィルムである基材フィルム３１Ｄが挿通される。
【００５２】
型ロール１１０およびニップロール１２０は、例えば、一般構造用炭素鋼、ＳＵＳ、または、高圧プレス用のベアリング鋼などの一般的なプレス用材料で構成されている。ニップロール１２０の表面は、例えば、フッ素樹脂、シリコーン、ナイロン、ポリエチレンなどの樹脂で数十ｎｍの厚さでコーティングされていてもよい。そのようなコーティングがなされている場合には、ニップロール１２０の幅方向の押圧力の均一化が容易になる。
【００５３】
基材フィルム３１Ｄは、上述の「所定の特性」を有する樹脂フィルムで構成されている。基材フィルム３１Ｄは、例えば、「所定の特性」を有する単層の樹脂フィルムであってもよいし、「所定の特性」を有する樹脂層を最表面に有する積層の樹脂フィルムであってもよい。基材フィルム３１Ｄは、配向フィルム３１の表面に形成されたパターンの深さよりも十分に厚くなっており、例えば、配向フィルム３１の表面に形成されたパターンの深さの１０倍以上の厚さとなっている。例えば、配向フィルム３１の表面に形成されたパターンの深さが２５０ｎｍ未満となっている場合、基材フィルム３１Ｄが、配向フィルム３１の表面に形成されたパターンの深さの約４００倍に相当する１００μｍとなっていてもよい。
【００５４】
ここで、「非加熱押接転写法」を用いる場合には、型ロール１１０およびニップロール１２０のいずれにも、ヒータなどによる意図的な加熱がなされない。従って、この場合には、型ロール１１０およびニップロール１２０の温度は、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低くなっている。また、「低温加熱押接転写法」を用いる場合には、型ロール１１０およびニップロール１２０の少なくとも一方に対して、ヒータなどによる意図的な加熱がなされる。しかし、型ロール１１０およびニップロール１２０の温度は、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低くなっている。以上のことから、いずれの方法を採った場合であっても、型ロール１１０およびニップロール１２０の温度は、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低くなっている。
【００５５】
まず、製造装置１００は、ロール１３０から基材フィルム３１Ｄを巻き出して、型ロール１１０とニップロール１２０との間に挿通する。次に、製造装置１００は、基材フィルム３１Ｄを、型ロール１１０とニップロール１２０とで挟み込むことで、型ロール１１０の表面の凹凸を基材フィルム３１Ｄの表面に直接、押圧する。このとき、製造装置１００は、型ロール１１０の凹凸を、基材フィルム３１Ｄの表面に対して、２００〜５００ｋｇｆ／ｃｍ以上の線圧で押圧する。さらに、製造装置１００は、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低い温度で、押圧を実行する。
【００５６】
ここで、基材フィルム３１Ｄには、上記の式（１）を満たす樹脂フィルムまたは樹脂層が用いられている。そのため、基材フィルム３１Ｄがガラス転移温度以上の温度で加熱されていなくても、上記の線圧以上の線圧で型ロール１１０の凹凸を基材フィルム３１Ｄの表面に押圧し、基材フィルム３１Ｄの表面を塑性変形させることにより、製造装置１００は、型ロール１１０の凹凸に対応するパターンを基材フィルム３１Ｄの表面に転写することができる。このようにして、配向フィルム３１が製造される。その後、製造装置１００は、製造された配向フィルム３１をロール１４０に巻き取る。
【００５７】
（位相差フィルム３０の製造方法）
図１２は、位相差フィルム３０の製造方法の一例を表したものである。図１２に示した製造装置２００は、液晶を滴下する吐出機２１０と、滴下した液晶を加熱し、配向させるヒータ２２０と、配向した液晶を硬化させる紫外線照射機２３０とを備えている。製造装置２００は、さらに、配向フィルム３１を巻き出すロール２４０と、製造後の位相差フィルム３０を巻き取るロール２５０とを備えている。
【００５８】
まず、製造装置２００は、ロール２４０から配向フィルム３１を巻き出す。次に、製造装置２００は、巻き出した配向フィルム３１の表面に、液晶性モノマーを含む液晶２１０Ａを吐出機２１０から滴下して、液晶層３２Ｄを形成する。続いて、製造装置２００は、ヒータ２２０を用いて、配向フィルム３１の表面に塗布された液晶層３２Ｄの液晶性モノマーの配向処理（加熱処理）を行った後、液晶層３２Ｄを相転移温度よりも少し低い温度まで徐冷する。これにより、液晶性モノマーは、配向フィルム３１の表面に形成された複数の溝Ｖ１，Ｖ２のパターンに応じて配向する。すなわち、液晶性モノマーが複数の溝Ｖ１，Ｖ２の延在方向に沿って配向する。
【００５９】
次に、製造装置２００は、紫外線照射機２３０から、配向処理後の液晶層３２Ｄに対して、紫外線を照射して、液晶層３２Ｄ内の液晶性モノマーを重合させる。なお、このとき、処理温度は、一般に室温付近であることが多いが、リタデーション値を調整するために温度を相転移温度以下の温度まで上げてもよい。これにより、複数の溝Ｖ１，Ｖ２の延在方向に沿って液晶分子の配向状態が固定され、位相差層３２（右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂ）が形成される。以上により、位相差フィルム３０が完成する。その後、製造装置２００は、位相差フィルム３０をロール２５０に巻き取る。
【００６０】
なお、上記では、ロールを用いて配向フィルム３１や位相差フィルム３０を製造する場合が例示されていたが、配向フィルム３１や位相差フィルム３０を枚葉式で（つまり、板状の原盤を用いて）製造することももちろん可能である。
【００６１】
[１．４ 基本動作]
次に、本実施の形態の表示装置１において画像を表示する際の基本動作の一例について、図１３（Ａ），（Ｂ）〜図１６（Ａ），（Ｂ）等を参照しつつ説明する。
【００６２】
まず、バックライトユニット１０から照射された光が液晶表示パネル２０に入射している状態で、映像信号として右目用画像および左目用画像を含む視差信号が液晶表示パネル２０に入力される。すると、奇数行の画素から右目用画像光Ｌ１が出力され（図１３（Ａ），（Ｂ）または図１４（Ａ），（Ｂ））、偶数行の画素から左目用画像光Ｌ２が出力される（図１５（Ａ），（Ｂ）または図１６（Ａ），（Ｂ））。なお、実際には、右目用画像光Ｌ１および左目用画像光Ｌ２は、混在した状態で出力されるが、図１３（Ａ），（Ｂ）〜図１６（Ａ），（Ｂ）では、説明の便宜上、右目用画像光Ｌ１と左目用画像光Ｌ２が別個に分けて記述されている。
【００６３】
その後、右目用画像光Ｌ１および左目用画像光Ｌ２は、位相差フィルム３０の右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂによって楕円偏光に変換され、位相差フィルム３０の配向フィルム３１を透過したのち、表示装置１の画像表示面から外部に出力される。
【００６４】
その後、表示装置１の外部に出力された光は、偏光眼鏡２に入射し、右目用位相差板４１Ａおよび左目用位相差板４２Ａによって楕円偏光から直線偏光に戻されたのち、偏光眼鏡２の偏光板４１Ｂ，４２Ｂに入射する。
【００６５】
このとき、偏光板４１Ｂ，４２Ｂへの入射光のうち右目用画像光Ｌ１に対応する光の偏光軸は、偏光板４１Ｂの偏光軸ＡＸ６と平行となっており（図１３（Ａ）、図１４（Ａ））、偏光板４２Ｂの偏光軸ＡＸ７と直交している（図１３（Ｂ）、図１４（Ｂ））。従って、偏光板４１Ｂ，４２Ｂへの入射光のうち右目用画像光Ｌ１に対応する光は、偏光板４１Ｂだけを透過して、観察者の右目に到達する（図１３（Ａ），（Ｂ）または図１４（Ａ），（Ｂ））。
【００６６】
一方、偏光板４１Ｂ，４２Ｂへの入射光のうち左目用画像光Ｌ２に対応する光の偏光軸は、偏光板４１Ｂの偏光軸ＡＸ６と直交しており（図１５（Ａ）、図１６（Ａ））、偏光板４２Ｂの偏光軸ＡＸ７と平行となっている（図１５（Ｂ）、図１６（Ｂ））。従って、偏光板４１Ｂ，４２Ｂへの入射光のうち左目用画像光Ｌ２に対応する光は、偏光板４２Ｂだけを透過して、観察者の左目に到達する（図１５（Ａ），（Ｂ）または図１６（Ａ），（Ｂ））。
【００６７】
このようにして、右目用画像光Ｌ１に対応する光が観察者の右目に到達し、左目用画像光Ｌ２に対応する光が観察者の左目に到達した結果、観察者は表示装置１の映像表示面に立体画像が表示されているかのように認識することができる。
【００６８】
[１．５ 効果]
次に、本実施の形態の表示装置１の効果について説明する。
【００６９】
従来では、まず、フィルム基材の表面に、易接着層を介して紫外線硬化樹脂を塗布し、塗布した紫外線硬化樹脂に形状を転写することにより、フィルム基材上に配向膜を有する配向フィルムが形成される。次に、その配向フィルムの上に液晶性モノマーを塗布し、それを加熱し、硬化させることにより、配向フィルム上に位相差層を有する位相差フィルムが形成される。このように、従来の方法では、位相差フィルムの形成には多くのプロセスステップが必要である。
【００７０】
近年、プロセスステップを削減するために、例えば、溶融押出法により、フィルム基材に直接、配向機能を有する形状を付与する試みが行われている。しかし、溶融押出法では、冷却時の成形歪みがフィルム基材の内部に在留するので、成形後、時間の経過とともにフィルム基材が寸法収縮を起こす。例えば、図１７に示したように、溶融押出法では、転写後の初期の段階で寸法収縮が激しく起こり、その後、時間の経過とともに、ゆるやかに寸法収縮が起こっている。なお、図１７の例では、初期の段階の寸法変化率は、約１．２％である。
【００７１】
寸法収縮の長期的な進行は、位相差フィルムが表示装置に搭載されてからも、位相差領域と画素との相対的な位置関係が変化することを意味しており、立体視性能を著しく阻害し、商品性を損ねる危険性を孕んでいる。従って、少なくとも、位相差フィルムの表示装置への搭載後には、フィルム基材の寸法が安定していることが求められる。このように、溶融押出法では、プロセスステップを削減することができるものの、フィルム基材の寸法が安定していないという問題があった。
【００７２】
一方、本実施の形態では、配向フィルム３１の製造過程において、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する型ロール１１０が、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルム３１Ｄの表面に直接、押圧される。これにより、基材フィルム３１Ｄの内部に、面内方向の成形歪みをほとんど残留させずに、凹凸を形成することが可能となる。例えば、図１７に示したように、押接転写法では、転写後の初期の段階でわずかに寸法が変化しているが、その後、時間が経過しても、寸法変化は全く行っていない。なお、図１７の例では、初期の段階の寸法変化率は、溶融押出法における初期の段階の寸法変化率の約１／８であり、わずか０．１５％である。従って、押接転写法を用いることにより、配向フィルム３１の寸法を安定させることができる。また、基材フィルムに配向膜を形成する従来の方法よりも、少ないプロセスステップで配向フィルム３１を形成することができ、さらに、使用材料の種類も削減することができる。従って、本実施の形態では、プロセスステップを削減しつつ、配向フィルム３１の寸法を安定させることができる。
【００７３】
＜２．変形例＞
上記実施の形態では、位相差フィルム３０の位相差領域（右目用位相差領域３２Ａ，左目用位相差領域３２Ｂ）が水平方向に延在している場合が例示されていたが、それ以外の方向に延在していてもかまわない。例えば、図示しないが、位相差フィルム３０の位相差領域（右目用位相差領域３２Ａ，左目用位相差領域３２Ｂ）が垂直方向に延在していていてもよい。ただし、その場合には、上記実施の形態の説明において、「垂直方向」を「水平方向」に読み替え、「水平方向」を「垂直方向」に読み替えることが必要である。
【００７４】
また、上記実施の形態では、位相差フィルム３０には、遅相軸の向きが互いに異なる２種類の位相差領域（右目用領域３２Ａ，左目用領域３２Ｂ）が設けられていたが、遅相軸の向きが互いに異なる３種類以上の位相差領域が設けられていてもよい。
【００７５】
また、上記実施の形態では、位相差フィルム３０を液晶表示パネル２０に貼り合わせた場合が例示されていたが、他のディスプレイパネルに貼り合わせることはもちろん可能である。
【００７６】
以上では、偏光眼鏡２が円偏光タイプであり、表示装置１としては円偏光眼鏡用の表示装置である場合について説明をしたが、本技術は、偏光眼鏡２が直線偏光タイプであり、表示装置１として直線偏光眼鏡用の表示装置である場合についても適用可能である。
【００７７】
なお、本明細書において、「等しい」、「同一」、「平行」、「直交」、「垂直」、「水平」という場合には、本技術の効果を損なわない限度において、それぞれが、略等しい、略同一、略平行、略直交、略垂直、略水平の場合を含むものとする。例えば、製造誤差、バラツキ等の諸要因に起因する誤差を含んでもよいものとする。
【００７８】
また、例えば、本技術は以下のような構成を取ることができる。
（１）
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧し、それにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する
配向フィルムの製造方法。
（２）
前記基材フィルムは、単層または積層の樹脂フィルムである
（１）に記載の配向フィルムの製造方法。
（３）
前記基材フィルムは、面角が１３６度のダイヤモンド格子を、当該基材フィルムの表層の塑性変形領域に達する程度の力で当該基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式を満たす材料からなる
（１）または（２）に記載の配向フィルムの製造方法。
Ｄｐ≧０．２５×Ｄｍａｘ
Ｄｐ：押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量
Ｄｍａｘ：前記ダイヤモンド格子を１ｍＮの力で前記基材フィルムの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
（４）
前記原盤の凹凸は、第１方向に延在した第１凹凸を含む複数の第１領域と、前記第１方向と交差する第２方向に延在した第２凹凸を含む複数の第２領域とを有し、
前記第１領域および前記第２領域は、それぞれ帯状となっており、かつ交互に配置されている
（１）ないし（３）のいずれか１つに記載の配向フィルムの製造方法。
（５）
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する第１ステップと、
前記パターンを有する基材フィルムの表面に直接、液晶性モノマーを含む溶液を配置して、液晶性モノマーを配向させたのち、配向した後の液晶性モノマーを重合させる第２ステップと
を含む位相差フィルムの製造方法。
（６）
前記基材フィルムは、単層または積層の樹脂フィルムである
（５）に記載の位相差フィルムの製造方法。
（７）
前記基材フィルムは、面角が１３６度のダイヤモンド格子を、当該基材フィルムの表層の塑性変形領域に達する程度の力で当該基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式を満たす材料からなる
（５）または（６）に記載の位相差フィルムの製造方法。
Ｄｐ≧０．２５×Ｄｍａｘ
Ｄｐ：押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量
Ｄｍａｘ：前記ダイヤモンド格子を１ｍＮの力で前記基材フィルムの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
（８）
前記原盤の凹凸は、第１方向に延在した第１凹凸を含む複数の第１領域と、前記第１方向と交差する第２方向に延在した第２凹凸を含む複数の第２領域とを有し、
前記第１領域および前記第２領域は、それぞれ帯状となっており、かつ交互に配置されている
（５）ないし（７）のいずれか１つに記載の位相差フィルムの製造方法。
（９）
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を基材フィルムの表面に有し、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
配向フィルム。
（１０）
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する基材フィルムと、
前記基材フィルムの表面に直接、接するとともに、前記基材フィルムの凹凸に応じた遅相軸を有する位相差層と
を備え、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
位相差フィルム。
【符号の説明】
【００７９】
１…表示装置、１Ａ…映像表示面、２…偏光眼鏡、１０…バックライトユニット、２０…液晶表示パネル、２０Ａ…画素、２１Ａ，２１Ｂ…偏光板、２２，２９…透明基板、２３…画素電極、２４，２６…配向膜、２５…液晶層、２７…共通電極、２８…カラーフィルタ、２８Ａ…フィルタ部、２８Ｂ…ブラックマトリクス部、３０…位相差フィルム、３１…配向フィルム、３１Ａ…右目用配向領域、３１Ｂ…左目用配向領域、３２…位相差層、３２Ａ…右目用位相差領域、３２Ｂ…左目用位相差領域、４１…右目用光学素子、４１Ａ…右目用位相差領域、４１Ｂ，４２Ｂ…偏光板、４２…左目用光学素子、４２Ａ…左目用位相差板、４３…フレーム、ＡＸ３，ＡＸ６，ＡＸ７…偏光軸、ＡＸ１，ＡＸ２，ＡＸ４，ＡＸ５…遅相軸、Ｌ１…右目用画像光、Ｌ２…左目用画像光、Ｖ１，Ｖ２…溝。
【技術分野】
【０００１】
本技術は、液晶性モノマーなどを配向させる配向フィルムおよびその製造方法に関する。また、本技術は、光の偏光状態を変化させる位相差フィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、偏光眼鏡を用いるタイプの立体映像表示装置として、左目用画素と右目用画素とで異なる偏光状態の光を射出させるものがある。このような表示装置では、視聴者が偏光眼鏡をかけた上で、左目用画素からの射出光を左目のみに入射させ、右目用画素からの射出光を右目のみに入射させることにより、立体映像の観察を可能とするものである。
【０００３】
例えば、特許文献１では、左目用画素と右目用画素とで異なる偏光状態の光を射出させるために位相差フィルムが用いられている。この位相差フィルムでは、一の方向に遅相軸を有する位相差領域が左目用画素に対応して設けられ、上記位相差領域とは異なる方向に遅相軸を有する位相差領域が右目用画素に対応して設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３３６０７８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の位相差フィルムは、例えば、以下のようにして形成することが可能である。まず、フィルム基材の表面に、易接着層を介して紫外線硬化樹脂を塗布し、塗布した紫外線硬化樹脂に形状を転写することにより、フィルム基材上に配向膜を有する配向フィルムを形成する。次に、その配向フィルムの上に液晶性モノマーを塗布し、それを加熱し、硬化させることにより、配向フィルム上に位相差層を有する位相差フィルムを形成する。このように、位相差フィルムの形成には多くのプロセスステップが必要である。
【０００６】
近年、プロセスステップを削減するために、例えば、溶融押出法により、フィルム基材に直接、配向機能を有する形状を付与する試みが行われている。しかし、溶融押出法では、冷却時の成形歪みがフィルム基材の内部に在留するので、成形後、時間の経過とともにフィルム基材が寸法収縮を起こす。寸法収縮の長期的な進行は、位相差フィルムが表示装置に搭載されてからも、位相差領域と画素との相対的な位置関係が変化することを意味しており、立体視性能を著しく阻害し、商品性を損ねる危険性を孕んでいる。従って、少なくとも、位相差フィルムの表示装置への搭載後には、フィルム基材の寸法が安定していることが求められる。このように、溶融押出法では、プロセスステップを削減することができるものの、フィルム基材の寸法が安定していないという問題があった。
【０００７】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、プロセスステップを削減しつつ、フィルム基材の寸法を安定させることの可能な配向フィルムの製造方法および位相差フィルムの製造方法を提供することにある。また、第２の目的は、そのような方法で形成された配向フィルムおよび位相差フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本技術による配向フィルムの製造方法は、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧し、それにより、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応するパターンを転写するステップを含むものである。
【０００９】
本技術による位相差フィルムの製造方法は、以下の２つのステップを含むものである。
（Ａ１）ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応する第１パターンが転写された配向フィルムを形成する第１ステップ
（Ａ２）前記配向フィルムの表面に直接、液晶性モノマーを含む溶液を配置して、液晶性モノマーを配向させたのち、配向した後の液晶性モノマーを重合させる第２ステップ
【００１０】
本技術による配向フィルムの製造方法および本技術による位相差フィルムの製造方法では、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤が、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧される。これにより、基材フィルムの内部に、面内方向の成形歪みを残留させずに、凹凸を形成することが可能となる。また、基材フィルムに配向膜を形成する場合よりも少ないプロセスステップで配向フィルムを形成することができる。
【００１１】
本技術による配向フィルムは、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を基材フィルムの表面に有している。上記の凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである。
【００１２】
本技術による位相差フィルムは、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する配向フィルムと、配向フィルムの表面に直接、接するとともに、配向フィルムの凹凸に応じた遅相軸を有する位相差層とを備えている。上記の凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである。
【００１３】
本技術による配向フィルムおよび本技術による位相差フィルムでは、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルムの表面に直接、押圧することにより配向フィルムが形成されている。そのため、配向フィルムの内部に、面内方向の成形歪みがほとんど残留していない。また、本技術では、凹凸が基材フィルムの表面に直接、形成されている。そのため、基材フィルム上に配向膜を形成する場合よりも少ないプロセスステップで配向フィルムが形成されている。
【発明の効果】
【００１４】
本技術による配向フィルムの製造方法および本技術による位相差フィルムの製造方法によれば、基材フィルムの内部に、面内方向の成形歪みをほとんど残留させずに、凹凸を形成するとともに、少ないプロセスステップで配向フィルムを形成することができるようにしたので、プロセスステップを削減しつつ、フィルム基材の寸法を安定させることができる。また、上記の方法を用いることにより、従来よりも少ないプロセスステップでフィルム基材の寸法の安定した配向フィルムおよび位相差フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本技術による一実施の形態に係る表示装置の構成の一例を偏光眼鏡と共に表す斜視図である。
【図２】図１の表示装置の内部構成の一例を表す断面図である。
【図３】図２の位相差フィルムの構成の一例を表す斜視図である。
【図４】基材フィルムの塑性変形量の計測方法について説明するための図である。
【図５】実施例に係る基材フィルムの塑性変形量の一例を表す図である。
【図６】比較例に係る基材フィルムの塑性変形量の一例を表す図である。
【図７】図３の配向フィルムの構成の一例を表す斜視図である。
【図８】図３の位相差層の遅相軸の一例を表す図である。
【図９】図３の右目用位相差領域および左目用位相差領域の遅相軸の一例を他の光学部材の遅相軸または透過軸と共に表す概念図である。
【図１０】図１の偏光眼鏡の右目用光学素子および左目用光学素子の構成の一例を表す斜視図である。
【図１１】図７の配向フィルムの製造方法の一例を表す図である。
【図１２】図３の位相差フィルムの製造方法の一例を表す図である。
【図１３】図１の表示装置の映像を右目で観察する際の透過軸および遅相軸の一例について説明するための概念図である。
【図１４】図１の表示装置の映像を右目で観察する際の透過軸および遅相軸の他の例について説明するための概念図である。
【図１５】図１の表示装置の映像を左目で観察する際の透過軸および遅相軸の一例について説明するための概念図である。
【図１６】図１の表示装置の映像を左目で観察する際の透過軸および遅相軸の他の例について説明するための概念図である。
【図１７】実施例および比較例に係る配向フィルムの寸法変化率の一例を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、発明を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態
１．１ 表示装置の構成
１．２ 偏光眼鏡の構成
１．３ 製造方法
１．４ 基本動作
１．５ 効果
２．変形例
【００１７】
＜１．実施の形態＞
[１．１ 表示装置１の構成]
図１は、本技術による一実施の形態に係る表示装置１を、後述する偏光眼鏡２とともに斜視的に表したものである。図２は、図１の表示装置１の断面構成の一例を表したものである。表示装置１は、偏光眼鏡２を眼球の前に装着した観察者（図示せず）に対して立体映像を表示する偏光眼鏡方式の表示装置である。この表示装置１は、バックライトユニット１０、液晶表示パネル２０および位相差フィルム３０をこの順に積層して構成されたものである。この表示装置１において、位相差フィルム３０の表面が映像表示面１Ａとなっており、観察者側に向けられている。
【００１８】
なお、本実施の形態では、映像表示面１Ａが垂直面（鉛直面）と平行となるように表示装置１が配置されている。映像表示面１Ａは、例えば長方形状となっており、映像表示面１Ａの長手方向が、例えば水平方向（図中のｙ軸方向）と平行となっている。観察者は偏光眼鏡２を眼球の前に装着した上で、映像表示面１Ａを観察するものとする。偏光眼鏡２は円偏光タイプであり、表示装置１は円偏光眼鏡用の表示装置である。
【００１９】
（バックライトユニット１０）
バックライトユニット１０は、液晶表示パネル２０を背後から照明するものであり、例えば、反射板、光源および光学シート（いずれも図示せず）を有している。反射板は、光源からの射出光を光学シート側に戻すものであり、反射、散乱、拡散などの機能を有している。光源は、例えば、複数の線状光源が等間隔で並列配置されたり、複数の点状光源が２次元配列されたりしたものである。なお、線状光源としては、例えば、熱陰極管(ＨＣＦＬ；Hot Cathode Fluorescent Lamp)、冷陰極管（ＣＣＦＬ；Cold Cathode Fluorescent Lamp）などが挙げられる。点状光源としては、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ；Light Emitting Diode）などが挙げられる。光学シートは、光源からの光の面内輝度分布を均一化したり、光源からの光の発散角や偏光状態を所望の範囲内に調整したりするものであり、例えば、拡散板、拡散シート、プリズムシート、反射型偏光素子、位相差板などを含んで構成されている。なお、光源は、エッジライト方式のものでもよく、その場合には、必要に応じて導光板や導光フィルムが用いられる。
【００２０】
（液晶表示パネル２０）
液晶表示パネル２０は、複数の画素が２次元配列された透過型の表示パネルであり、映像信号に応じて各画素を駆動することによって画像を表示するものである。液晶表示パネル２０は、例えば、図２に示したように、バックライトユニット１０側から順に、偏光子２１Ａ、透明基板２２、画素電極２３、配向膜２４、液晶層２５、配向膜２６、共通電極２７、カラーフィルタ２８、透明基板２９および偏光子２１Ｂを有している。
【００２１】
ここで、偏光子２１Ａは、液晶表示パネル２０の光入射側に配置された偏光板であり、偏光子２１Ｂは液晶表示パネル２０の光射出側に配置された偏光板である。偏光子２１Ａ，２１Ｂは、光学シャッタの一種であり、ある一定の振動方向の光（偏光）のみを通過させる。偏光子２１Ａ，２１Ｂはそれぞれ、例えば、偏光軸が互いに所定の角度だけ（例えば９０度）異なるように配置されており、これによりバックライトユニット１０からの射出光が液晶層を介して透過し、あるいは遮断されるようになっている。なお、偏光板は、板状に限定されない。
【００２２】
偏光子２１Ａの透過軸の向きは、バックライトユニット１０から射出された光を透過可能な範囲内に設定される。例えば、バックライトユニット１０から射出される光の偏光軸が垂直方向となっている場合には、偏光子２１Ａの透過軸も垂直方向を向いており、バックライトユニット１０から射出される光の偏光軸が水平方向となっている場合には、偏光子２１Ａの透過軸も水平方向を向いている。なお、バックライトユニット１０から射出される光は直線偏光光である場合に限られるものではなく、円偏光や、楕円偏光、無偏光であってもよい。
【００２３】
偏光子２１Ｂの偏光軸の向きは、液晶表示パネル２０を透過した光を透過可能な範囲内に設定される。例えば、偏光子２１Ａの偏光軸の向きが水平方向となっている場合には、偏光子２１Ｂの偏光軸は偏光子２１Ａの偏光軸と直交する方向（垂直方向）を向いている。また、例えば、偏光子２１Ａの偏光軸の向きが垂直方向となっている場合には、偏光子２１Ｂの偏光軸は偏光子２１Ａの偏光軸と直交する方向（水平方向）を向いている。なお、上記の偏光軸と、上記の透過軸とは互いに同義である。
【００２４】
透明基板２２，２９は、一般に、可視光に対して透明な基板である。なお、バックライトユニット１０側の透明基板２２には、例えば、画素電極２３に電気的に接続された駆動素子としてのＴＦＴ（Thin Film Transistor；薄膜トランジスタ）および配線などを含むアクティブ型の駆動回路が形成されている。画素電極２３は、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ；Indium Tin Oxide）からなり、画素ごとの電極として機能する。配向膜２４，２６は、例えばポリイミドなどの高分子材料からなり、液晶に対して配向処理を行う。液晶層２５は、例えばＶＡ（Vertical Alignment）モード、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＴＮ（Twisted Nematic）モードまたはＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モードの液晶からなる。液晶層２５は、図示しない駆動回路からの印加電圧により、バックライトユニット１０からの射出光を画素ごとに透過または遮断する機能を有している。共通電極２７は、例えばＩＴＯからなり、各画素電極２３に対する共通の対向電極として機能する。
【００２５】
カラーフィルタ２８は、画素電極２３に対応して配置された複数のフィルタ部２８Ａと、画素電極２３の周辺領域に対応して配置されたブラックマトリクス部２８Ｂとを有している。フィルタ部２８Ａは、光透過性を有しており、かつ、バックライトユニット１０からの光を、例えば、赤、緑または青に色分離するようになっている。ブラックマトリクス部２８Ｂは、遮光性を有している。液晶表示パネル２０において、フィルタ部２８Ａと対向する部分が液晶表示パネル２０の画素２０Ａを構成しており、画素２０Ａ内において、フィルタ部２８Ａは、映像表示面１Ａ側に配置されている。
【００２６】
（位相差フィルム３０）
次に、位相差フィルム３０について説明する。図３は、位相差フィルム３０の構成の一例を斜視的に表したものである。位相差フィルム３０は、液晶表示パネル２０の偏光子２１Ｂを透過した光の偏光状態を変化させるものである。位相差フィルム３０は、液晶表示パネル２０の光射出側の表面（偏光子２１Ｂ）に粘着剤（図示せず）などによって貼り付けられている。位相差フィルム３０は、例えば、図２、図３に示したように、映像表示面１Ａ側から順に、配向フィルム３１および位相差層３２を有している。なお、図示しないが、配向フィルム３１および位相差層３２は、液晶表示パネル２０側からこの順に配置されていてもよい。
【００２７】
配向フィルム３１は、所定の特性を有する樹脂フィルムで構成されており、例えば、所定の特性を有する単層の樹脂フィルムであってもよいし、所定の特性を有する樹脂層を最表面に有する積層の樹脂フィルムであってもよい。ここで、「所定の特性」とは、面角が１３６度のダイヤモンド格子を、基材フィルム（単層の樹脂フィルムまたは樹脂層を最表面に有する積層の樹脂フィルム）の表層の塑性変形領域に達する程度の力で、基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式（１）を満たす特性を指している。なお、上記の「所定の特性」の計測は、配向フィルム３１表面の凹凸を形成する前のフィルム（後述の基材フィルム３１Ｄ）に対して行われる。ここで、「塑性変形領域に達する程度の力」は、例えば、１ｍＮ以上である。
【００２８】
Ｄｐ≧０．２５×Ｄｍａｘ…（１）
Ｄｐ：押し込み力を解除したときに基材フィルム３１Ｄに残存する塑性変形量
Ｄｍａｘ：ダイヤモンド格子を１ｍＮの力で基材フィルム３１Ｄの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
【００２９】
上記の式（１）中のＤｐ、Ｄｍａｘは、ビッカース硬度計によって計測することが可能である。例えば、図４に示したように、押し込み力をゼロ（図中のＡ）から徐々に上昇させ、押し込み力が１ｍＮに達したら（図中のＢ）、押し込み力をゼロ（図中のＣ）になるまで徐々に減少させ、その間ずっと塑性変形量（変位量）を計測する。上記の式（１）のＤｍａｘは、押し込み力が１ｍＮに達した図中のＢの時点での変位量を計測することにより得られる値である。また、上記の式（１）のＤｐは、押し込み力が解除され０ｍＮとなった図中のＣの時点での変位量を計測することにより得られる値である。
【００３０】
上記の式（１）を満たす材料としては、例えば、図５（Ａ）〜（Ｃ）に示したように、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）やＣＯＣ（シクロオレフィンコポリマー）等のシクロオレフィン系樹脂や、ＰＣ（ポリカーボネート）等の熱可塑性樹脂が挙げられる。上記の式（１）を満たさない材料としては、例えば、図６（Ａ）〜（Ｃ）に示したように、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）などが挙げられる。
【００３１】
配向フィルム３１は、非加熱押接転写法または低温加熱押接転写法により形成されたものである。ここで、「非加熱」とは、転写時にヒータなどで意図的な加熱を行わないことを意味している。また、「低温加熱」とは、転写時に基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低い温度で加熱を行うことを意味している。「押接転写法」とは、基材フィルムの表面に直接、原盤の凹凸を押圧し、塑性変形により、基材フィルムの表面に、原盤の凹凸に対応するパターンを転写する方法を指している。なお、非加熱押接転写法および低温加熱押接転写法についての説明は、後に詳述するものとする。
【００３２】
配向フィルム３１は、液晶などの配向性材料を特定の方向に配向させる機能を有している。配向フィルム３１は、位相差層３２側の表面に、例えば、図３、図７（Ａ）に示したように、配向方向が互いに異なる２種類の配向領域（右目用配向領域３１Ａ，左目用配向領域３１Ｂ）を有している。右目用配向領域３１Ａおよび左目用配向領域３１Ｂは、例えば、共通する一の方向（水平方向）に延在する帯状の形状となっており、右目用配向領域３１Ａおよび左目用配向領域３１Ｂの短手方向（垂直方向）に交互に配置されている。右目用配向領域３１Ａおよび左目用配向領域３１Ｂは、液晶表示パネル２０の画素に対応して配置されており、例えば、液晶表示パネル２０の短手方向（垂直方向）の画素ピッチに対応するピッチで配置されている。
【００３３】
右目用配向領域３１Ａは、例えば、図７（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と４５°で交差する方向に延在する複数の溝Ｖ１を有している。一方、左目用配向領域３１Ｂは、例えば、図７（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と４５°で交差する方向であって、かつ溝Ｖ１の延在方向と直交する方向に延在する複数の溝Ｖ２を有している。溝Ｖ１，Ｖ２はそれぞれ、例えば、図７（Ｂ）に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が垂直方向または水平方向を向いている場合には斜め４５°方向に延在している。また、図示しないが、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が斜め４５°方向を向いている場合には、溝Ｖ１が例えば水平方向に延在しており、溝Ｖ２が例えば垂直方向に延在している。
【００３４】
各溝Ｖ１，Ｖ２は、一の方向に直線状に延在していてもよいし、例えば、揺らぎながら（蛇行しながら）一の方向に延在していてもよい。各溝Ｖ１，Ｖ２の断面形状は、例えばＶ字状となっている。各溝Ｖ１，Ｖ２のピッチは小さい方が好ましく、ナノメーターオーダー（１μｍ未満）であることが好ましい。各溝Ｖ１，Ｖ２の深さは、ピッチの１／５以上であることが好ましい。ただし、製造のしやすさを考えると、各溝Ｖ１，Ｖ２のピッチが５０ｎｍ以上１μｍ未満であることが好ましく、各溝Ｖ１，Ｖ２の深さは、１０ｎｍ以上２５０ｎｍ未満となっていることが好ましい。各溝Ｖ１，Ｖ２の深さがピッチの１／５未満の場合には、製造過程において液晶性モノマーを正しく配向させることが困難となり、各溝Ｖ１，Ｖ２の深さが１μｍ以上となる場合には、基材フィルムと液晶層の屈折率の差により、若干ヘーズが生じてしまう傾向がある。
【００３５】
位相差層３２は、光学異方性を有する薄い層である。位相差層３２は、配向フィルム３１（右目用配向領域３１Ａおよび左目用配向領域３１Ｂ）の表面に直接、接して形成されている。位相差層３２は、配向フィルム３１の凹凸に応じた遅相軸を有している。位相差層３２は、例えば、図３に示したように、遅相軸の向きが互いに異なる２種類の位相差領域（右目用位相差領域３２Ａ，左目用位相差領域３２Ｂ）を有している。右目用位相差領域３２Ａは、右目用配向領域３１Ａに直接、接して形成されており、左目用位相差領域３２Ｂは、左目用配向領域３１Ｂに直接、接して形成されている。
【００３６】
右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂは、例えば、図３に示したように、共通する一の方向（水平方向）に延在する帯状の形状となっており、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂの短手方向（垂直方向）に交互に配置されている。右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂは、液晶表示パネル２０の画素に対応して配置されており、例えば、液晶表示パネル２０の短手方向（垂直方向）の画素ピッチに対応するピッチで配置されている。
【００３７】
右目用位相差領域３２Ａは、例えば、図３、図８に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と４５°で交差する方向に遅相軸ＡＸ１を有している。一方、左目用位相差領域３２Ｂは、例えば、図３、図８に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と４５°で交差する方向であって、かつ遅相軸ＡＸ１と直交する方向に遅相軸ＡＸ２を有している。遅相軸ＡＸ１，ＡＸ２はそれぞれ、例えば、図８に示したように、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が垂直方向または水平方向を向いている場合には斜め４５°方向を向いている。また、図示しないが、偏光子２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が斜め４５°方向を向いている場合には、遅相軸ＡＸ１が例えば水平方向に延在しており、遅相軸ＡＸ２が例えば垂直方向を向いている。遅相軸ＡＸ１は、溝Ｖ１の延在方向を向いており、遅相軸ＡＸ２は、溝Ｖ２の延在方向を向いている。
【００３８】
さらに、遅相軸ＡＸ１は、例えば、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光眼鏡２の右目用位相差板４１Ａ（後述）の遅相軸ＡＸ４の向きと同一の方向を向いており、偏光眼鏡２の左目用位相差板４２Ａ（後述）の遅相軸ＡＸ５の向きと異なる方向を向いている。一方、遅相軸ＡＸ２は、例えば、遅相軸ＡＸ５の向きと同一の方向を向いており、遅相軸ＡＸ４の向きと異なる方向を向いている。
【００３９】
位相差層３２は、例えば、重合した高分子液晶材料を含んで構成されている。すなわち、位相差層３２では、液晶分子の配向状態が固定されている。高分子液晶材料としては、相転移温度（液晶相−等方相）、液晶材料の屈折率波長分散特性、粘性特性、プロセス温度などに応じて選定された材料が用いられる。
【００４０】
位相差層３２において、溝Ｖ１と右目用位相差領域３２Ａとの界面付近では、液晶分子の長軸が、溝Ｖ１の延在方向に沿うように配列しており、溝Ｖ２と左目用位相差領域３２Ｂとの界面付近では、液晶分子の長軸が、溝Ｖ２の延在方向に沿うように配列している。すなわち、溝Ｖ１および溝Ｖ２の形状および延在方向により、液晶分子の配向が制御され、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂの光学軸が設定される。
【００４１】
また、位相差層３２において、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂの構成材料や厚みを調整することにより、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂのリタデーション値が設定される。このリタデーション値は、基材３１が位相差を有する場合には、基材３１の位相差をも考慮して設定されることが好ましい。なお、本実施の形態では、右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂは互いに同一の材料および厚みにより構成され、これにより、リタデーションの絶対値が互いに等しくなっている。
【００４２】
[１．２ 偏光眼鏡２]
次に、図１、図１０を参照しつつ、偏光眼鏡２について説明する。偏光眼鏡２は、観察者（図示せず）の眼球の前に装着されるものであり、表示装置１の映像表示面１Ａに映し出される映像を観察する際に観察者によって用いられるものである。この偏光眼鏡２は、例えば、円偏光眼鏡であり、例えば、図１に示したように、右目用光学素子４１、左目用光学素子４２、およびフレーム４３を有している。
【００４３】
フレーム４３は、右目用光学素子４１および左目用光学素子４２を支持するものである。フレーム４３の形状は、特に限られるものではないが、例えば、図１に示したように、観察者（図示せず）の鼻および耳にひっかける形状となっている。右目用光学素子４１および左目用光学素子４２は、表示装置１の映像表示面１Ａと対向した状態で用いられる。右目用光学素子４１および左目用光学素子４２は、図１に示したように、できるだけ一の水平面内に配置した状態で用いられることが好ましいが、多少傾いた平坦面内に配置した状態で用いられてもよい。
【００４４】
右目用光学素子４１は、例えば、図１０に示したように、右目用位相差板４１Ａおよび偏光板４１Ｂを有している。右目用位相差板４１Ａおよび偏光板４１Ｂは、表示装置１側から順に配置されている。一方、左目用光学素子４２は、例えば、図１０に示したように、左目用位相差板４２Ａおよび偏光板４２Ｂを有している。左目用位相差板４２Ａおよび偏光板４２Ｂは、表示装置１側から順に配置されている。
【００４５】
右目用光学素子４１および左目用光学素子４２は、上で例示したもの以外の部材を有していてもよい。例えば、右目用光学素子４１および左目用光学素子４２の光射出側（観察者側）の面に、偏光板４１Ｂ，４２Ｂが破損したときに破損片が観察者の眼球に飛散するのを防止する保護フィルム（図示せず）や保護のためのコーティング層（図示せず）が設けられていてもよい。また、右目用光学素子４１および左目用光学素子４２は、例えば、図１０に示したように、平坦な板状の形状となっていてもよいし、図示しないが、光入射側に突出した湾曲形状となっていてもよい。
【００４６】
偏光板４１Ｂ，４２Ｂは、ある一定の振動方向の光（偏光）のみを通過させるようになっている。例えば、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光板４１Ｂ，４２Ｂの偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７はそれぞれ、表示装置１の偏光板２１Ｂの偏光軸ＡＸ３と直交する方向を向いている。偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７はそれぞれ、例えば、図９（Ａ）に示したように、偏光板２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が垂直方向を向いている場合には水平方向を向いており、例えば、図９（Ｂ）に示したように、偏光板２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が水平方向を向いている場合には垂直方向を向いている。また、図示しないが、偏光板２１Ｂの偏光軸ＡＸ３が斜め４５°方向を向いている場合には、偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７は、それと直交する方向（−４５°）を向いている。
【００４７】
右目用位相差板４１Ａおよび左目用位相差板４２Ａは、光学異方性を有する薄い層またはフィルムである。右目用位相差板４１Ａの遅相軸ＡＸ４は、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光軸ＡＸ６と４５°で交差する方向を向いている。また、左目用位相差板４２Ａの遅相軸ＡＸ５は、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光軸ＡＸ７と４５°で交差する方向を向いており、かつ遅相軸ＡＸ４と直交する方向を向いている。遅相軸ＡＸ４，ＡＸ５はそれぞれ、例えば、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７が水平方向または垂直方向を向いている場合には、水平方向および垂直方向のいずれの方向とも交差する方向を向いている。また、図示しないが、偏光軸ＡＸ６，ＡＸ７が斜め４５°方向を向いている場合には、遅相軸ＡＸ４が例えば水平方向を向いており、遅相軸ＡＸ５が例えば垂直方向を向いている。
【００４８】
また、遅相軸ＡＸ４は、右目用位相差領域３２Ａの遅相軸ＡＸ１の向きと同一の方向を向いており、左目用位相差領域３２Ｂの遅相軸ＡＸ２の向きと異なる方向を向いている。一方、遅相軸ＡＸ５は、遅相軸ＡＸ２と同一の方向を向いており、遅相軸ＡＸ１の向きと異なる方向を向いている。
【００４９】
［１．３ 製造方法］
次に、位相差フィルム３０の製造方法の一例について説明する。なお、以下では、まず、位相差フィルム３０の基材に相当する配向フィルム３１の製造方法の一例について説明する。その後、配向フィルム３１を用いて位相差フィルム３０を製造する方法の一例について説明する。
【００５０】
（配向フィルム３１の製造方法）
図１１は、配向フィルム３１の製造方法の一例を表したものである。図１１に示した製造装置１００は、互いに対向する型ロール１１０およびニップロール１２０を備えている。製造装置１００は、さらに、基材フィルム３１Ｄを巻き出すロール１３０と、製造後の配向フィルム３１を巻き取るロール１４０とを備えている。
【００５１】
ここで、型ロール１１０は、配向フィルム３１の表面の凹凸に対応するパターンを表面に有している。具体的には、型ロール１１０は、第１方向に延在した凹凸を含む複数の第１領域と、第１方向と交差する第２方向に延在した凹凸を含む複数の第２領域とを表面に有している。そして、第１領域および第２領域は、それぞれ帯状となっており、かつ型ロール１１０の表面において交互に配置されている。第１領域は、右目用配向領域３１Ａの凹凸の反転パターンとなっており、第２領域は、左目用配向領域３１Ｂの凹凸の反転パターンとなっている。つまり、型ロール１１０は、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有している。型ロール１１０とニップロール１２０との間には、配向フィルム３１表面の凹凸を形成する前のフィルムである基材フィルム３１Ｄが挿通される。
【００５２】
型ロール１１０およびニップロール１２０は、例えば、一般構造用炭素鋼、ＳＵＳ、または、高圧プレス用のベアリング鋼などの一般的なプレス用材料で構成されている。ニップロール１２０の表面は、例えば、フッ素樹脂、シリコーン、ナイロン、ポリエチレンなどの樹脂で数十ｎｍの厚さでコーティングされていてもよい。そのようなコーティングがなされている場合には、ニップロール１２０の幅方向の押圧力の均一化が容易になる。
【００５３】
基材フィルム３１Ｄは、上述の「所定の特性」を有する樹脂フィルムで構成されている。基材フィルム３１Ｄは、例えば、「所定の特性」を有する単層の樹脂フィルムであってもよいし、「所定の特性」を有する樹脂層を最表面に有する積層の樹脂フィルムであってもよい。基材フィルム３１Ｄは、配向フィルム３１の表面に形成されたパターンの深さよりも十分に厚くなっており、例えば、配向フィルム３１の表面に形成されたパターンの深さの１０倍以上の厚さとなっている。例えば、配向フィルム３１の表面に形成されたパターンの深さが２５０ｎｍ未満となっている場合、基材フィルム３１Ｄが、配向フィルム３１の表面に形成されたパターンの深さの約４００倍に相当する１００μｍとなっていてもよい。
【００５４】
ここで、「非加熱押接転写法」を用いる場合には、型ロール１１０およびニップロール１２０のいずれにも、ヒータなどによる意図的な加熱がなされない。従って、この場合には、型ロール１１０およびニップロール１２０の温度は、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低くなっている。また、「低温加熱押接転写法」を用いる場合には、型ロール１１０およびニップロール１２０の少なくとも一方に対して、ヒータなどによる意図的な加熱がなされる。しかし、型ロール１１０およびニップロール１２０の温度は、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低くなっている。以上のことから、いずれの方法を採った場合であっても、型ロール１１０およびニップロール１２０の温度は、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低くなっている。
【００５５】
まず、製造装置１００は、ロール１３０から基材フィルム３１Ｄを巻き出して、型ロール１１０とニップロール１２０との間に挿通する。次に、製造装置１００は、基材フィルム３１Ｄを、型ロール１１０とニップロール１２０とで挟み込むことで、型ロール１１０の表面の凹凸を基材フィルム３１Ｄの表面に直接、押圧する。このとき、製造装置１００は、型ロール１１０の凹凸を、基材フィルム３１Ｄの表面に対して、２００〜５００ｋｇｆ／ｃｍ以上の線圧で押圧する。さらに、製造装置１００は、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低い温度で、押圧を実行する。
【００５６】
ここで、基材フィルム３１Ｄには、上記の式（１）を満たす樹脂フィルムまたは樹脂層が用いられている。そのため、基材フィルム３１Ｄがガラス転移温度以上の温度で加熱されていなくても、上記の線圧以上の線圧で型ロール１１０の凹凸を基材フィルム３１Ｄの表面に押圧し、基材フィルム３１Ｄの表面を塑性変形させることにより、製造装置１００は、型ロール１１０の凹凸に対応するパターンを基材フィルム３１Ｄの表面に転写することができる。このようにして、配向フィルム３１が製造される。その後、製造装置１００は、製造された配向フィルム３１をロール１４０に巻き取る。
【００５７】
（位相差フィルム３０の製造方法）
図１２は、位相差フィルム３０の製造方法の一例を表したものである。図１２に示した製造装置２００は、液晶を滴下する吐出機２１０と、滴下した液晶を加熱し、配向させるヒータ２２０と、配向した液晶を硬化させる紫外線照射機２３０とを備えている。製造装置２００は、さらに、配向フィルム３１を巻き出すロール２４０と、製造後の位相差フィルム３０を巻き取るロール２５０とを備えている。
【００５８】
まず、製造装置２００は、ロール２４０から配向フィルム３１を巻き出す。次に、製造装置２００は、巻き出した配向フィルム３１の表面に、液晶性モノマーを含む液晶２１０Ａを吐出機２１０から滴下して、液晶層３２Ｄを形成する。続いて、製造装置２００は、ヒータ２２０を用いて、配向フィルム３１の表面に塗布された液晶層３２Ｄの液晶性モノマーの配向処理（加熱処理）を行った後、液晶層３２Ｄを相転移温度よりも少し低い温度まで徐冷する。これにより、液晶性モノマーは、配向フィルム３１の表面に形成された複数の溝Ｖ１，Ｖ２のパターンに応じて配向する。すなわち、液晶性モノマーが複数の溝Ｖ１，Ｖ２の延在方向に沿って配向する。
【００５９】
次に、製造装置２００は、紫外線照射機２３０から、配向処理後の液晶層３２Ｄに対して、紫外線を照射して、液晶層３２Ｄ内の液晶性モノマーを重合させる。なお、このとき、処理温度は、一般に室温付近であることが多いが、リタデーション値を調整するために温度を相転移温度以下の温度まで上げてもよい。これにより、複数の溝Ｖ１，Ｖ２の延在方向に沿って液晶分子の配向状態が固定され、位相差層３２（右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂ）が形成される。以上により、位相差フィルム３０が完成する。その後、製造装置２００は、位相差フィルム３０をロール２５０に巻き取る。
【００６０】
なお、上記では、ロールを用いて配向フィルム３１や位相差フィルム３０を製造する場合が例示されていたが、配向フィルム３１や位相差フィルム３０を枚葉式で（つまり、板状の原盤を用いて）製造することももちろん可能である。
【００６１】
[１．４ 基本動作]
次に、本実施の形態の表示装置１において画像を表示する際の基本動作の一例について、図１３（Ａ），（Ｂ）〜図１６（Ａ），（Ｂ）等を参照しつつ説明する。
【００６２】
まず、バックライトユニット１０から照射された光が液晶表示パネル２０に入射している状態で、映像信号として右目用画像および左目用画像を含む視差信号が液晶表示パネル２０に入力される。すると、奇数行の画素から右目用画像光Ｌ１が出力され（図１３（Ａ），（Ｂ）または図１４（Ａ），（Ｂ））、偶数行の画素から左目用画像光Ｌ２が出力される（図１５（Ａ），（Ｂ）または図１６（Ａ），（Ｂ））。なお、実際には、右目用画像光Ｌ１および左目用画像光Ｌ２は、混在した状態で出力されるが、図１３（Ａ），（Ｂ）〜図１６（Ａ），（Ｂ）では、説明の便宜上、右目用画像光Ｌ１と左目用画像光Ｌ２が別個に分けて記述されている。
【００６３】
その後、右目用画像光Ｌ１および左目用画像光Ｌ２は、位相差フィルム３０の右目用位相差領域３２Ａおよび左目用位相差領域３２Ｂによって楕円偏光に変換され、位相差フィルム３０の配向フィルム３１を透過したのち、表示装置１の画像表示面から外部に出力される。
【００６４】
その後、表示装置１の外部に出力された光は、偏光眼鏡２に入射し、右目用位相差板４１Ａおよび左目用位相差板４２Ａによって楕円偏光から直線偏光に戻されたのち、偏光眼鏡２の偏光板４１Ｂ，４２Ｂに入射する。
【００６５】
このとき、偏光板４１Ｂ，４２Ｂへの入射光のうち右目用画像光Ｌ１に対応する光の偏光軸は、偏光板４１Ｂの偏光軸ＡＸ６と平行となっており（図１３（Ａ）、図１４（Ａ））、偏光板４２Ｂの偏光軸ＡＸ７と直交している（図１３（Ｂ）、図１４（Ｂ））。従って、偏光板４１Ｂ，４２Ｂへの入射光のうち右目用画像光Ｌ１に対応する光は、偏光板４１Ｂだけを透過して、観察者の右目に到達する（図１３（Ａ），（Ｂ）または図１４（Ａ），（Ｂ））。
【００６６】
一方、偏光板４１Ｂ，４２Ｂへの入射光のうち左目用画像光Ｌ２に対応する光の偏光軸は、偏光板４１Ｂの偏光軸ＡＸ６と直交しており（図１５（Ａ）、図１６（Ａ））、偏光板４２Ｂの偏光軸ＡＸ７と平行となっている（図１５（Ｂ）、図１６（Ｂ））。従って、偏光板４１Ｂ，４２Ｂへの入射光のうち左目用画像光Ｌ２に対応する光は、偏光板４２Ｂだけを透過して、観察者の左目に到達する（図１５（Ａ），（Ｂ）または図１６（Ａ），（Ｂ））。
【００６７】
このようにして、右目用画像光Ｌ１に対応する光が観察者の右目に到達し、左目用画像光Ｌ２に対応する光が観察者の左目に到達した結果、観察者は表示装置１の映像表示面に立体画像が表示されているかのように認識することができる。
【００６８】
[１．５ 効果]
次に、本実施の形態の表示装置１の効果について説明する。
【００６９】
従来では、まず、フィルム基材の表面に、易接着層を介して紫外線硬化樹脂を塗布し、塗布した紫外線硬化樹脂に形状を転写することにより、フィルム基材上に配向膜を有する配向フィルムが形成される。次に、その配向フィルムの上に液晶性モノマーを塗布し、それを加熱し、硬化させることにより、配向フィルム上に位相差層を有する位相差フィルムが形成される。このように、従来の方法では、位相差フィルムの形成には多くのプロセスステップが必要である。
【００７０】
近年、プロセスステップを削減するために、例えば、溶融押出法により、フィルム基材に直接、配向機能を有する形状を付与する試みが行われている。しかし、溶融押出法では、冷却時の成形歪みがフィルム基材の内部に在留するので、成形後、時間の経過とともにフィルム基材が寸法収縮を起こす。例えば、図１７に示したように、溶融押出法では、転写後の初期の段階で寸法収縮が激しく起こり、その後、時間の経過とともに、ゆるやかに寸法収縮が起こっている。なお、図１７の例では、初期の段階の寸法変化率は、約１．２％である。
【００７１】
寸法収縮の長期的な進行は、位相差フィルムが表示装置に搭載されてからも、位相差領域と画素との相対的な位置関係が変化することを意味しており、立体視性能を著しく阻害し、商品性を損ねる危険性を孕んでいる。従って、少なくとも、位相差フィルムの表示装置への搭載後には、フィルム基材の寸法が安定していることが求められる。このように、溶融押出法では、プロセスステップを削減することができるものの、フィルム基材の寸法が安定していないという問題があった。
【００７２】
一方、本実施の形態では、配向フィルム３１の製造過程において、ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する型ロール１１０が、基材フィルム３１Ｄのガラス転移温度よりも低い温度で、基材フィルム３１Ｄの表面に直接、押圧される。これにより、基材フィルム３１Ｄの内部に、面内方向の成形歪みをほとんど残留させずに、凹凸を形成することが可能となる。例えば、図１７に示したように、押接転写法では、転写後の初期の段階でわずかに寸法が変化しているが、その後、時間が経過しても、寸法変化は全く行っていない。なお、図１７の例では、初期の段階の寸法変化率は、溶融押出法における初期の段階の寸法変化率の約１／８であり、わずか０．１５％である。従って、押接転写法を用いることにより、配向フィルム３１の寸法を安定させることができる。また、基材フィルムに配向膜を形成する従来の方法よりも、少ないプロセスステップで配向フィルム３１を形成することができ、さらに、使用材料の種類も削減することができる。従って、本実施の形態では、プロセスステップを削減しつつ、配向フィルム３１の寸法を安定させることができる。
【００７３】
＜２．変形例＞
上記実施の形態では、位相差フィルム３０の位相差領域（右目用位相差領域３２Ａ，左目用位相差領域３２Ｂ）が水平方向に延在している場合が例示されていたが、それ以外の方向に延在していてもかまわない。例えば、図示しないが、位相差フィルム３０の位相差領域（右目用位相差領域３２Ａ，左目用位相差領域３２Ｂ）が垂直方向に延在していていてもよい。ただし、その場合には、上記実施の形態の説明において、「垂直方向」を「水平方向」に読み替え、「水平方向」を「垂直方向」に読み替えることが必要である。
【００７４】
また、上記実施の形態では、位相差フィルム３０には、遅相軸の向きが互いに異なる２種類の位相差領域（右目用領域３２Ａ，左目用領域３２Ｂ）が設けられていたが、遅相軸の向きが互いに異なる３種類以上の位相差領域が設けられていてもよい。
【００７５】
また、上記実施の形態では、位相差フィルム３０を液晶表示パネル２０に貼り合わせた場合が例示されていたが、他のディスプレイパネルに貼り合わせることはもちろん可能である。
【００７６】
以上では、偏光眼鏡２が円偏光タイプであり、表示装置１としては円偏光眼鏡用の表示装置である場合について説明をしたが、本技術は、偏光眼鏡２が直線偏光タイプであり、表示装置１として直線偏光眼鏡用の表示装置である場合についても適用可能である。
【００７７】
なお、本明細書において、「等しい」、「同一」、「平行」、「直交」、「垂直」、「水平」という場合には、本技術の効果を損なわない限度において、それぞれが、略等しい、略同一、略平行、略直交、略垂直、略水平の場合を含むものとする。例えば、製造誤差、バラツキ等の諸要因に起因する誤差を含んでもよいものとする。
【００７８】
また、例えば、本技術は以下のような構成を取ることができる。
（１）
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧し、それにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する
配向フィルムの製造方法。
（２）
前記基材フィルムは、単層または積層の樹脂フィルムである
（１）に記載の配向フィルムの製造方法。
（３）
前記基材フィルムは、面角が１３６度のダイヤモンド格子を、当該基材フィルムの表層の塑性変形領域に達する程度の力で当該基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式を満たす材料からなる
（１）または（２）に記載の配向フィルムの製造方法。
Ｄｐ≧０．２５×Ｄｍａｘ
Ｄｐ：押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量
Ｄｍａｘ：前記ダイヤモンド格子を１ｍＮの力で前記基材フィルムの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
（４）
前記原盤の凹凸は、第１方向に延在した第１凹凸を含む複数の第１領域と、前記第１方向と交差する第２方向に延在した第２凹凸を含む複数の第２領域とを有し、
前記第１領域および前記第２領域は、それぞれ帯状となっており、かつ交互に配置されている
（１）ないし（３）のいずれか１つに記載の配向フィルムの製造方法。
（５）
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する第１ステップと、
前記パターンを有する基材フィルムの表面に直接、液晶性モノマーを含む溶液を配置して、液晶性モノマーを配向させたのち、配向した後の液晶性モノマーを重合させる第２ステップと
を含む位相差フィルムの製造方法。
（６）
前記基材フィルムは、単層または積層の樹脂フィルムである
（５）に記載の位相差フィルムの製造方法。
（７）
前記基材フィルムは、面角が１３６度のダイヤモンド格子を、当該基材フィルムの表層の塑性変形領域に達する程度の力で当該基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式を満たす材料からなる
（５）または（６）に記載の位相差フィルムの製造方法。
Ｄｐ≧０．２５×Ｄｍａｘ
Ｄｐ：押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量
Ｄｍａｘ：前記ダイヤモンド格子を１ｍＮの力で前記基材フィルムの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
（８）
前記原盤の凹凸は、第１方向に延在した第１凹凸を含む複数の第１領域と、前記第１方向と交差する第２方向に延在した第２凹凸を含む複数の第２領域とを有し、
前記第１領域および前記第２領域は、それぞれ帯状となっており、かつ交互に配置されている
（５）ないし（７）のいずれか１つに記載の位相差フィルムの製造方法。
（９）
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を基材フィルムの表面に有し、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
配向フィルム。
（１０）
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する基材フィルムと、
前記基材フィルムの表面に直接、接するとともに、前記基材フィルムの凹凸に応じた遅相軸を有する位相差層と
を備え、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
位相差フィルム。
【符号の説明】
【００７９】
１…表示装置、１Ａ…映像表示面、２…偏光眼鏡、１０…バックライトユニット、２０…液晶表示パネル、２０Ａ…画素、２１Ａ，２１Ｂ…偏光板、２２，２９…透明基板、２３…画素電極、２４，２６…配向膜、２５…液晶層、２７…共通電極、２８…カラーフィルタ、２８Ａ…フィルタ部、２８Ｂ…ブラックマトリクス部、３０…位相差フィルム、３１…配向フィルム、３１Ａ…右目用配向領域、３１Ｂ…左目用配向領域、３２…位相差層、３２Ａ…右目用位相差領域、３２Ｂ…左目用位相差領域、４１…右目用光学素子、４１Ａ…右目用位相差領域、４１Ｂ，４２Ｂ…偏光板、４２…左目用光学素子、４２Ａ…左目用位相差板、４３…フレーム、ＡＸ３，ＡＸ６，ＡＸ７…偏光軸、ＡＸ１，ＡＸ２，ＡＸ４，ＡＸ５…遅相軸、Ｌ１…右目用画像光、Ｌ２…左目用画像光、Ｖ１，Ｖ２…溝。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧し、それにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する
配向フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記基材フィルムは、単層または積層の樹脂フィルムである
請求項１に記載の配向フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記基材フィルムは、面角が１３６度のダイヤモンド格子を、当該基材フィルムの表層の塑性変形領域に達する程度の力で当該基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式を満たす材料からなる
請求項２に記載の配向フィルムの製造方法。
Ｄｐ≧０．２５×Ｄｍａｘ
Ｄｐ：押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量
Ｄｍａｘ：前記ダイヤモンド格子を１ｍＮの力で前記基材フィルムの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
【請求項４】
前記原盤の凹凸は、第１方向に延在した第１凹凸を含む複数の第１領域と、前記第１方向と交差する第２方向に延在した第２凹凸を含む複数の第２領域とを有し、
前記第１領域および前記第２領域は、それぞれ帯状となっており、かつ交互に配置されている
請求項２に記載の配向フィルムの製造方法。
【請求項５】
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する第１ステップと、
前記パターンを有する基材フィルムの表面に直接、液晶性モノマーを含む溶液を配置して、液晶性モノマーを配向させたのち、配向した後の液晶性モノマーを重合させる第２ステップと
を含む位相差フィルムの製造方法。
【請求項６】
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を基材フィルムの表面に有し、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
配向フィルム。
【請求項７】
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する基材フィルムと、
前記基材フィルムの表面に直接、接するとともに、前記基材フィルムの凹凸に応じた遅相軸を有する位相差層と
を備え、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
位相差フィルム。
【請求項１】
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧し、それにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する
配向フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記基材フィルムは、単層または積層の樹脂フィルムである
請求項１に記載の配向フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記基材フィルムは、面角が１３６度のダイヤモンド格子を、当該基材フィルムの表層の塑性変形領域に達する程度の力で当該基材フィルムの表面に押し込んだ後、押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量が以下の式を満たす材料からなる
請求項２に記載の配向フィルムの製造方法。
Ｄｐ≧０．２５×Ｄｍａｘ
Ｄｐ：押し込み力を解除したときに当該基材フィルムに残存する塑性変形量
Ｄｍａｘ：前記ダイヤモンド格子を１ｍＮの力で前記基材フィルムの表面に押し込んだときの最大押し込み変形量
【請求項４】
前記原盤の凹凸は、第１方向に延在した第１凹凸を含む複数の第１領域と、前記第１方向と交差する第２方向に延在した第２凹凸を含む複数の第２領域とを有し、
前記第１領域および前記第２領域は、それぞれ帯状となっており、かつ交互に配置されている
請求項２に記載の配向フィルムの製造方法。
【請求項５】
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより、前記基材フィルムの表面に、前記原盤の凹凸に対応するパターンを転写する第１ステップと、
前記パターンを有する基材フィルムの表面に直接、液晶性モノマーを含む溶液を配置して、液晶性モノマーを配向させたのち、配向した後の液晶性モノマーを重合させる第２ステップと
を含む位相差フィルムの製造方法。
【請求項６】
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を基材フィルムの表面に有し、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
配向フィルム。
【請求項７】
ナノメータオーダの微細な線状の凹凸を表面に有する基材フィルムと、
前記基材フィルムの表面に直接、接するとともに、前記基材フィルムの凹凸に応じた遅相軸を有する位相差層と
を備え、
前記凹凸は、当該凹凸に対応するパターンを表面に有する原盤を、基材フィルムのガラス転移温度よりも低い温度で、前記基材フィルムの表面に直接、押圧することにより形成されたものである
位相差フィルム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２０１３−４４９４９（Ｐ２０１３−４４９４９Ａ）
【公開日】平成２５年３月４日（２０１３．３．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１８２７５４（Ｐ２０１１−１８２７５４）
【出願日】平成２３年８月２４日（２０１１．８．２４）
【出願人】（０００１０８４１０）デクセリアルズ株式会社 (595)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月４日（２０１３．３．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月２４日（２０１１．８．２４）
【出願人】（０００１０８４１０）デクセリアルズ株式会社 (595)
【Ｆターム（参考）】
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