電極・電気回路の保護剤組成物
【課題】 電極・電気回路の保護工程を大幅に短縮できる電極・電気回路の保護剤組成物を提供する。
【解決手段】 ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内である脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物、例えば、(Ａ)２５℃における粘度が１０〜１,０００,０００ｍＰａ・ｓであり、一分子中に少なくとも２個の特定のアルコキシシリル含有基を有するジオルガノポリシロキサン、(Ｂ)一般式：Ｒ1bＳi(ＯＲ2)4-b（Ｒ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、Ｒ2はアルキル基であり、ｂは０〜２の整数である。）で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物、および(Ｃ)縮合反応用触媒から少なくともなる電極・電気回路の保護剤組成物。
【解決手段】 ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内である脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物、例えば、(Ａ)２５℃における粘度が１０〜１,０００,０００ｍＰａ・ｓであり、一分子中に少なくとも２個の特定のアルコキシシリル含有基を有するジオルガノポリシロキサン、(Ｂ)一般式：Ｒ1bＳi(ＯＲ2)4-b（Ｒ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、Ｒ2はアルキル基であり、ｂは０〜２の整数である。）で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物、および(Ｃ)縮合反応用触媒から少なくともなる電極・電気回路の保護剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電極・電気回路の保護剤組成物に関し、詳しくは、電極・電気回路の保護工程の時間を大幅に短縮できる電極・電気回路の保護剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電極・電気回路を保護するための保護剤組成物として、特別な加熱装置等が不要で、保護工程を簡単にできることから、室温で湿気により硬化してゴムを形成する脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物が使用されている（特許文献１、２参照）。
【０００３】
近年、電極・電気回路の保護工程の時間を短縮する傾向にあるが、脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物は硬化が遅く、これを電極・電気回路に塗布した後、一定時間の養生が必要であるため、例えば、電極・電気回路の表裏両面を塗布する場合には、一方の面に塗布した保護剤組成物が硬化するまでは、他方の面に保護剤組成物を塗布できないという問題があった。
【特許文献１】特開２００４−１４９６１１号公報
【特許文献２】特開２００５−１２０１５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、電極・電気回路の保護工程の時間を大幅に短縮できる電極・電気回路の保護剤組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の電極・電気回路の保護剤組成物は、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内である脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の保護剤組成物によれば、電極・電気回路の保護工程の時間を大幅に短縮できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の電極・電気回路の保護剤組成物を詳細に説明する。
本発明の保護剤組成物は、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内である脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物からなることを特徴とする。本発明で規定する指触乾燥時間とは、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999「塗料一般試験方法−第１部：通則−第１節：試験一般(条件及び方法)」に規定の、標準状態の温度２５℃及び湿度５０％ＲＨにおいて、保護剤組成物の塗面の中央に指先で軽く触れて、指先が汚れない状態になるまでの時間を意味している。
【０００８】
また、本発明の保護剤組成物は脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物からなるが、これは、縮合反応によりアルコールを放出して硬化するシリコーンゴム組成物であり、例えば、一分子中に少なくとも２個のシラノール基(ケイ素原子結合水酸基)を有するジオルガノポリシロキサン、一分子中に少なくとも２個のアルコキシシリル基を有するアルコキシシランもしくはその部分加水分解縮合物、および縮合反応用触媒から少なくともなる組成物；一分子中に少なくとも２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサン、一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合アルコキシ基を有するアルコキシシランもしくはその部分加水分解縮合物、および縮合反応用触媒から少なくともなる組成物が挙げられる。このような脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物において、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内とするためには、一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合アルコキシ基を有するアルコキシシランもしくはその部分加水分解縮合物の含有量を通常より極端に少なくしたり、あるいは、縮合反応用触媒の含有量を通常より極端に多くすることにより達成可能であるが、これらの組成物は極めて取扱作業性や保存安定性が悪いという問題がある。
【０００９】
このため保存安定性や取扱作業性が良好で、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間３分以内を達成し得る脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物としては、例えば、
(Ａ)２５℃における粘度が１０〜１,０００,０００ｍＰａ・ｓであり、一分子中に少なくとも２個の一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
｛式中、Ｒ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、Ｒ2はアルキル基であり、Ｘはオキシ基、アルキレン基、または一般式：
【化１】
（式中、Ｒ1は前記と同じであり、Ｒ3はアルキレン基である。）
で表されるアルキレンシロキシシルアルキレン基であり、ａは０〜２の整数である。｝
で表されるアルコキシシリル含有基を有するジオルガノポリシロキサン １００質量部、
(Ｂ)一般式：
Ｒ1bＳi(ＯＲ2)4-b
（式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同様であり、ｂは０〜２の整数である。）
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物 ０.５〜３０質量部、
および
(Ｃ)縮合反応用触媒 ０.１〜１０質量部
から少なくともなるものであることが好ましい。
【００１０】
(Ａ)成分は本組成物の主成分であり、一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
で表されるアルコキシシリル含有基を一分子中に少なくとも２個、好ましくは、一分子中に少なくとも３個有するジオルガノポリシロキサンである。このアルコキシシリル含有基中のＲ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；３,３,３−トリフルオロプロピル基、３−クロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられ、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基である。また、Ｒ2はアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基である。また、Ｘはオキシ基、アルキレン基、または一般式：
【化２】
で表されるアルキレンシロキシシルアルキレン基である。Ｘのアルキレン基としては、エチレン基、メチルエチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基が挙げられる。また、Ｘのアルキレンシロキシシルアルキレン基において、Ｒ1は同じかまたは異なる、置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示される。また、Ｒ3は同じかまたは異なるアルキレン基であり、前記Ｘのアルキレン基と同様の基が例示される。また、ａは０〜２の整数であり、好ましくは、０または１であり、特に好ましくは、０である。
【００１１】
このような(Ａ)成分中のアルコキシシリル含有基としては、トリメトキシロキシ基、トリエトキシシロキシ基、メチルジメトキシシロキシ基、フェニルジメトキシシロキシ基等のアルコキシシロキシ基；トリメトキシシリルエチル基、トリメトキシシリルプロピル基、トリエトキシシリルエチル基等のアルコキシシリルアルキル基；トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基、トリメトキシシリルヘキシルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基、トリエトキシシリルプロピルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基等のアルコキシシリルアルキルシロキシシリルアルキル基が例示される。
【００１２】
また、(Ａ)成分中のケイ素原子に結合するその他としては、前記Ｒ1と同様の置換もしくは非置換の一価炭化水素基が例示され、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基である。(Ａ)成分の分子構造は実質的に直鎖状であるが、分子鎖の一部が差し支えない程度に分岐していてもよい。特に、(Ａ)成分は、分子鎖末端と分子鎖側鎖にアルコキシシリル含有基を結合するジオルガノポリシロキサンであることが好ましい。(Ａ)成分の２５℃における粘度は１００〜１,０００,０００ｍＰａ・ｓの範囲内であり、好ましくは、１００〜１００,０００ｍＰａ・ｓの範囲内である。これは、(Ａ)成分の粘度が上記範囲の下限未満であると、得られるシリコーンゴムの機械的強度が低下する傾向があるからであり、一方、上記範囲の上限を超えると、得られるシリコーンゴム組成物の取扱作業性や塗布作業性が低下する傾向があるからである。
【００１３】
このような(Ａ)成分のジオルガノポリシロキサンは、例えば、一般式：
【化３】
で表すことができる。式中、Ｒ1は同じかまたは異なる、置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示される。また、式中、Ｙは同じかまたは異なる、置換もしくは非置換の一価炭化水素基または一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
で表されるアルコキシシリル含有基である。Ｙの一価炭化水素基としては、前記Ｒ1と同様の基が例示される。また、Ｙのアルコキシシリル含有基は、前記の通りである。なお、上記一般式で表されるジオルガノポリシロキサンの一分子中、少なくとも２個のＹは上記一般式で表されるアルコキシシリル含有基であることが必要である。また、式中、ｍは１以上の整数であり、好ましくは１〜１,０００の範囲内の整数である。また、式中、ｎは０以上の整数であり、好ましくは０〜１,０００の範囲内の整数であり、特に好ましくは１〜１,０００の範囲内の整数である。
【００１４】
(Ａ)成分のうち、一分子中に少なくとも２個のアルコキシシロキシ基を有するジオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(３,３,３−トリフルオロプロピル)シロキサン共重合体が例示され、また、一分子中に少なくとも２個のアルコキシシリルアルキル基を有するジオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(３,３,３−トリフルオロプロピル)シロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体が例示され、さらに、一分子中に少なくとも２個のアルコキシシロキシシリルアルキル基を有するジオルガノポリシロキサンとして、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(３,３,３−トリフルオロプロピル)シロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル)シロキサン共重合体が例示される。(Ａ)成分として、これらのジオルガノポリシロキサンの２種以上の混合物を用いてもよい。また、(Ａ)成分は一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンであることが好ましいが、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンと一分子中に２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンとの混合物であってもよい。(Ａ)成分として、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンと一分子中に２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンとの混合物を用いる場合、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンの含有量は、この混合物中の少なくとも１０質量％であることが好ましく、さらには、少なくとも２５質量％であることが好ましく、特には、少なくとも４０質量％であることが好ましい。
【００１５】
このような(Ａ)成分は、例えば、米国特許明細書第４８７４８２７号(対応日本特許第２５２９２３７号公報)に記載のように、分子鎖両末端をケイ素原子結合水素原子で封鎖したオルガノポリシロキサンとビニルトリメトキシシラン等のアルケニル基含有アルコキシシランを白金系触媒によりヒドロシリル化反応して調製する方法、あるいは、分子鎖両末端をビニル基等のアルケニル基で封鎖したオルガノポリシロキサンとトリメトキシシリルエチルテトラメチルジシロキサン等のトリメトキシシリアルキル基含有テトラオルガノジシロキサンを白金系触媒によりヒドロシリル化反応して調製する方法が挙げられる。
【００１６】
(Ｂ)成分は本組成物の架橋剤であり、一般式：
Ｒ1bＳi(ＯＲ2)4-b
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物である。式中、Ｒ1は置換または非置換の一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示され、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基である。また、式中、Ｒ2はアルキル基であり、前記と同様の基が例示され、好ましくは、メチル基、エチル基である。また、式中、ｂは０〜２の整数であり、好ましくは、０または１であり、特に好ましくは、０である。
【００１７】
このような(Ｂ)成分としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルセロソルブオルソシリケート等の４官能アルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等の３官能アルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等の２官能アルコキシシラン；およびこれらのアルコキシシランの部分加水分解縮合物が例示される。上記組成物では、(Ｂ)成分として、これらを２種以上混合して用いてもよい。このような(Ｂ)成分は一般に上市されており入手可能である。
【００１８】
本組成物において、(Ｂ)成分の含有量は、(Ａ)成分１００質量部に対して０.５〜１５質量部の範囲内となる量である。これは、(Ｂ)成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、得られるシリコーンゴム組成物の貯蔵安定性が低下する傾向があり、一方、上記範囲の上限を超えると、得られるシリコーンゴム組成物の硬化速度が著しく遅くなる傾向があるからである。
【００１９】
(Ｃ)成分は本組成物の架橋を促進するための縮合反応用触媒である。このような(Ｃ)成分としては、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート、ジオクチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレートエステル、スタナスオクトエート等の錫化合物；テトラブチルチタネート、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトネート)チタン、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン等のチタン化合物が例示され、特に、チタン化合物であることが好ましい。このような(Ｃ)成分は一般に上市されており入手可能である。
【００２０】
本組成物において、(Ｃ)成分の含有量は、(Ａ)成分１００質量部に対して０.１〜１０質量部の範囲内であり、好ましくは、０.３〜６質量部の範囲内である。これは、(Ｃ)成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、得られるシリコーンゴム組成物の硬化が促進されないからであり、一方、上記範囲の上限を超えると、得られるシリコーンゴム組成物の保存安定性が低下するからである。
【００２１】
本組成物には、その他任意の成分として、フュームドシリカ、沈降性シリカ、焼成シリカ、石英微粉末、炭酸カルシウム、煙霧質二酸化チタン、けいそう土、水酸化アルミニウム、微粒子状アルミナ、マグネシア、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、金属微粉末等の無機質充填剤；およびこれらの充填剤をシラン類、シラザン類、低重合度シロキサン類、有機化合物等で表面処理した充填剤；シラトラン誘導体、カルバシラトラン誘導体等の接着促進剤；防カビ剤、難燃剤、耐熱剤、可塑剤、チクソ性付与剤、顔料等を本発明の目的を阻害しない限り含有してもよい。
【００２２】
また、本組成物には、電極・電気回路の硫黄含有ガスによる腐蝕やマイグレーションによる電蝕を抑制するため、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、ナトリウムベンゾトリアゾール、ナトリウムトリルトリアゾール、ベンゾトリアゾールブチルエステル、ナフトトリアゾール、クロロベンゾトリアゾール、またはその誘導体、これらの２種以上の混合物を含有していてもよい。ベンゾトリアゾールまたはその誘導体の含有量は、本組成物中に質量単位で１ｐｐｍ〜３０％の範囲内となる量であり、好ましくは、１０ｐｐｍ〜１％の範囲内となる量である。これは、ベンゾトリアゾールまたはその誘導体の含有量が上記範囲の下限未満であると、電極・電気回路の硫黄含有ガスによる腐蝕やマイグレーションによる電蝕を十分に抑制できない恐れがあるからであり、一方、上記範囲の上限をこえると、得られるシリコーンゴムの機械的特性が低下する恐れがあるからである。
【００２３】
本組成物を調製する方法は限定されないが、本組成物は湿気により硬化が進行するため、湿気遮断下で調製することが必要である。また、本組成物は湿気遮断下では１液型として貯蔵可能であり、また、これを２液型とすることもできる。
【００２４】
本組成物が適用できる電極・電気回路としては、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の電極・電気回路が例示される。この電極としては、銀、銅、アルミニウム、金等の金属電極；ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)等の金属酸化膜電極が例示される。また、電気回路の基材としては、ガラス、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、セラミックが例示される。
【００２５】
本組成物により電極・電気回路を保護する方法は特に限定されないが、例えば、電極または電気回路に本組成物をディスペンサーで塗布したり、スクレーパで塗布したり、はけで塗布する方法が挙げられる。この際、予め電極または電気回路、さらにはこれらの周囲を洗浄してもよい。また、電極または電気回路に塗布する本組成物の厚さは限定されないが、１０μｍ〜５ｍｍの範囲内であることが好ましい。これは、電極または電気回路に塗布する本組成物の厚さが上記下限未満であると、得られる硬化物により、電極または電気回路を湿気もしくは汚染から十分に保護できなくなるおそれがあるからであり、一方、上記範囲の上限をこえても、電極または電気回路を湿気もしくは汚染から保護する効果に著しい向上は見られないからである。
【実施例】
【００２６】
本発明の電極・電気回路の保護剤組成物を実施例により詳細に説明する。なお、実施例中の特性は２５℃において測定した値である。また、脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定における、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件で、保護剤組成物の塗面の中央に指先で軽く触れて、指先が汚れない状態になるまでの時間とした。
【００２７】
［実施例１］
粘度が４,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
【化４】
で表される分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体１００質量部とＢＥＴ法による比表面積が１１０ｍ2／ｇであるヘキサメチルジシラザンで処理されたヒュームドシリカ微粉末１０質量部を４０ｍｍＨｇの減圧下、室温で３０分間混合した後、湿気遮断下、メチルトリメトキシシラン２質量部、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン２重量部を均一に混合して脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は６０秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、９０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物のだれはなく、すぐに裏面の塗布を行うことができた。
【００２８】
［実施例２］
実施例１において、分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体の代わりに、粘度が４,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
【化５】
（式中、Ｚは式：
【化６】
で表される基である。）
で表される分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル)シロキサン共重合体を同量用いた以外は実施例１と同様にして脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は６０秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、９０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物のだれはなく、すぐに裏面の塗布を行うことができた。
【００２９】
［実施例３］
実施例１において、分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体１００質量部の代わりに、粘度が４,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
【化７】
（式中、Ｚは式：
【化８】
で表される基である。）
で表される分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル)シロキサン共重合体５０質量部と粘度が４,０００ｍＰａ・sであり、平均式：
【化９】
で表される分子鎖両末端をトリメトキシシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン５０質量部との混合物１００質量部を用いた以外は実施例１と同様にして脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は７５秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、１２０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物のだれはなく、すぐに裏面の塗布を行うことができた。
【００３０】
［実施例４］
実施例１において、分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体１００質量部の代わりに、粘度が４,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
【化１０】
（式中、Ｚは式：
【化１１】
で表される基である。）
で表される分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル)シロキサン共重合体７５質量部と粘度が４,０００ｍＰａ・sであり、平均式：
【化１２】
で表される分子鎖両末端をトリメトキシシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン２５質量部との混合物１００質量部を用いた以外は実施例１と同様にして脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は６０秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、９０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物のだれはなく、すぐに裏面の塗布を行うことができた。
【００３１】
［比較例１］
実施例１において、分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体の代わりに、粘度が４,０００ｍＰａ・sであり、平均式：
【化１３】
で表される分子鎖両末端をトリメトキシシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサンを同量用いた以外は実施例１と同様にして脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は３００秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、９０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物は未硬化でだれてしまい、すぐに裏面の塗布を行うことができなかった。前記組成物のだれがなくなり、液晶パネルを反転して裏面に塗布を行うことができるようになるためには５００秒以上静置する必要があった。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明の電極・電気回路の保護剤組成物は、湿気により硬化し、硬化途上で接触する電極・電気回路に対して十分に密着することができるので、加熱を避けなければならない電気部品の電極もしくは電気回路を湿気あるいは汚染から保護するために有用である。本発明の電極・電気回路の保護剤組成物は、例えば、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の電極・電気回路の保護剤組成物として使用することにより、製造工程を大幅に短縮し、延いては、これらの製造コストの削減に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】実施例で用いた液晶パネルの断面図である。
【図２】実施例で作製した、液晶パネルの表面を保護剤組成物の硬化物により保護した液晶パネルの断面図である。
【図３】実施例で作製した、液晶パネルの表面および裏面を保護剤組成物の硬化物により保護した液晶パネルの断面図である。
【符号の説明】
【００３４】
１ 液晶パネル
２ ガラス基板
３ 銅電極
４ 外部リード
５ 保護剤組成物の硬化物
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電極・電気回路の保護剤組成物に関し、詳しくは、電極・電気回路の保護工程の時間を大幅に短縮できる電極・電気回路の保護剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電極・電気回路を保護するための保護剤組成物として、特別な加熱装置等が不要で、保護工程を簡単にできることから、室温で湿気により硬化してゴムを形成する脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物が使用されている（特許文献１、２参照）。
【０００３】
近年、電極・電気回路の保護工程の時間を短縮する傾向にあるが、脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物は硬化が遅く、これを電極・電気回路に塗布した後、一定時間の養生が必要であるため、例えば、電極・電気回路の表裏両面を塗布する場合には、一方の面に塗布した保護剤組成物が硬化するまでは、他方の面に保護剤組成物を塗布できないという問題があった。
【特許文献１】特開２００４−１４９６１１号公報
【特許文献２】特開２００５−１２０１５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、電極・電気回路の保護工程の時間を大幅に短縮できる電極・電気回路の保護剤組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の電極・電気回路の保護剤組成物は、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内である脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の保護剤組成物によれば、電極・電気回路の保護工程の時間を大幅に短縮できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の電極・電気回路の保護剤組成物を詳細に説明する。
本発明の保護剤組成物は、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内である脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物からなることを特徴とする。本発明で規定する指触乾燥時間とは、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999「塗料一般試験方法−第１部：通則−第１節：試験一般(条件及び方法)」に規定の、標準状態の温度２５℃及び湿度５０％ＲＨにおいて、保護剤組成物の塗面の中央に指先で軽く触れて、指先が汚れない状態になるまでの時間を意味している。
【０００８】
また、本発明の保護剤組成物は脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物からなるが、これは、縮合反応によりアルコールを放出して硬化するシリコーンゴム組成物であり、例えば、一分子中に少なくとも２個のシラノール基(ケイ素原子結合水酸基)を有するジオルガノポリシロキサン、一分子中に少なくとも２個のアルコキシシリル基を有するアルコキシシランもしくはその部分加水分解縮合物、および縮合反応用触媒から少なくともなる組成物；一分子中に少なくとも２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサン、一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合アルコキシ基を有するアルコキシシランもしくはその部分加水分解縮合物、および縮合反応用触媒から少なくともなる組成物が挙げられる。このような脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物において、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内とするためには、一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合アルコキシ基を有するアルコキシシランもしくはその部分加水分解縮合物の含有量を通常より極端に少なくしたり、あるいは、縮合反応用触媒の含有量を通常より極端に多くすることにより達成可能であるが、これらの組成物は極めて取扱作業性や保存安定性が悪いという問題がある。
【０００９】
このため保存安定性や取扱作業性が良好で、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間３分以内を達成し得る脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物としては、例えば、
(Ａ)２５℃における粘度が１０〜１,０００,０００ｍＰａ・ｓであり、一分子中に少なくとも２個の一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
｛式中、Ｒ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、Ｒ2はアルキル基であり、Ｘはオキシ基、アルキレン基、または一般式：
【化１】
（式中、Ｒ1は前記と同じであり、Ｒ3はアルキレン基である。）
で表されるアルキレンシロキシシルアルキレン基であり、ａは０〜２の整数である。｝
で表されるアルコキシシリル含有基を有するジオルガノポリシロキサン １００質量部、
(Ｂ)一般式：
Ｒ1bＳi(ＯＲ2)4-b
（式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同様であり、ｂは０〜２の整数である。）
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物 ０.５〜３０質量部、
および
(Ｃ)縮合反応用触媒 ０.１〜１０質量部
から少なくともなるものであることが好ましい。
【００１０】
(Ａ)成分は本組成物の主成分であり、一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
で表されるアルコキシシリル含有基を一分子中に少なくとも２個、好ましくは、一分子中に少なくとも３個有するジオルガノポリシロキサンである。このアルコキシシリル含有基中のＲ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；３,３,３−トリフルオロプロピル基、３−クロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられ、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基である。また、Ｒ2はアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基である。また、Ｘはオキシ基、アルキレン基、または一般式：
【化２】
で表されるアルキレンシロキシシルアルキレン基である。Ｘのアルキレン基としては、エチレン基、メチルエチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基が挙げられる。また、Ｘのアルキレンシロキシシルアルキレン基において、Ｒ1は同じかまたは異なる、置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示される。また、Ｒ3は同じかまたは異なるアルキレン基であり、前記Ｘのアルキレン基と同様の基が例示される。また、ａは０〜２の整数であり、好ましくは、０または１であり、特に好ましくは、０である。
【００１１】
このような(Ａ)成分中のアルコキシシリル含有基としては、トリメトキシロキシ基、トリエトキシシロキシ基、メチルジメトキシシロキシ基、フェニルジメトキシシロキシ基等のアルコキシシロキシ基；トリメトキシシリルエチル基、トリメトキシシリルプロピル基、トリエトキシシリルエチル基等のアルコキシシリルアルキル基；トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基、トリメトキシシリルヘキシルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基、トリエトキシシリルプロピルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基等のアルコキシシリルアルキルシロキシシリルアルキル基が例示される。
【００１２】
また、(Ａ)成分中のケイ素原子に結合するその他としては、前記Ｒ1と同様の置換もしくは非置換の一価炭化水素基が例示され、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基である。(Ａ)成分の分子構造は実質的に直鎖状であるが、分子鎖の一部が差し支えない程度に分岐していてもよい。特に、(Ａ)成分は、分子鎖末端と分子鎖側鎖にアルコキシシリル含有基を結合するジオルガノポリシロキサンであることが好ましい。(Ａ)成分の２５℃における粘度は１００〜１,０００,０００ｍＰａ・ｓの範囲内であり、好ましくは、１００〜１００,０００ｍＰａ・ｓの範囲内である。これは、(Ａ)成分の粘度が上記範囲の下限未満であると、得られるシリコーンゴムの機械的強度が低下する傾向があるからであり、一方、上記範囲の上限を超えると、得られるシリコーンゴム組成物の取扱作業性や塗布作業性が低下する傾向があるからである。
【００１３】
このような(Ａ)成分のジオルガノポリシロキサンは、例えば、一般式：
【化３】
で表すことができる。式中、Ｒ1は同じかまたは異なる、置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示される。また、式中、Ｙは同じかまたは異なる、置換もしくは非置換の一価炭化水素基または一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
で表されるアルコキシシリル含有基である。Ｙの一価炭化水素基としては、前記Ｒ1と同様の基が例示される。また、Ｙのアルコキシシリル含有基は、前記の通りである。なお、上記一般式で表されるジオルガノポリシロキサンの一分子中、少なくとも２個のＹは上記一般式で表されるアルコキシシリル含有基であることが必要である。また、式中、ｍは１以上の整数であり、好ましくは１〜１,０００の範囲内の整数である。また、式中、ｎは０以上の整数であり、好ましくは０〜１,０００の範囲内の整数であり、特に好ましくは１〜１,０００の範囲内の整数である。
【００１４】
(Ａ)成分のうち、一分子中に少なくとも２個のアルコキシシロキシ基を有するジオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(３,３,３−トリフルオロプロピル)シロキサン共重合体が例示され、また、一分子中に少なくとも２個のアルコキシシリルアルキル基を有するジオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(３,３,３−トリフルオロプロピル)シロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体が例示され、さらに、一分子中に少なくとも２個のアルコキシシロキシシリルアルキル基を有するジオルガノポリシロキサンとして、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(３,３,３−トリフルオロプロピル)シロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル)シロキサン共重合体が例示される。(Ａ)成分として、これらのジオルガノポリシロキサンの２種以上の混合物を用いてもよい。また、(Ａ)成分は一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンであることが好ましいが、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンと一分子中に２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンとの混合物であってもよい。(Ａ)成分として、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンと一分子中に２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンとの混合物を用いる場合、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンの含有量は、この混合物中の少なくとも１０質量％であることが好ましく、さらには、少なくとも２５質量％であることが好ましく、特には、少なくとも４０質量％であることが好ましい。
【００１５】
このような(Ａ)成分は、例えば、米国特許明細書第４８７４８２７号(対応日本特許第２５２９２３７号公報)に記載のように、分子鎖両末端をケイ素原子結合水素原子で封鎖したオルガノポリシロキサンとビニルトリメトキシシラン等のアルケニル基含有アルコキシシランを白金系触媒によりヒドロシリル化反応して調製する方法、あるいは、分子鎖両末端をビニル基等のアルケニル基で封鎖したオルガノポリシロキサンとトリメトキシシリルエチルテトラメチルジシロキサン等のトリメトキシシリアルキル基含有テトラオルガノジシロキサンを白金系触媒によりヒドロシリル化反応して調製する方法が挙げられる。
【００１６】
(Ｂ)成分は本組成物の架橋剤であり、一般式：
Ｒ1bＳi(ＯＲ2)4-b
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物である。式中、Ｒ1は置換または非置換の一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示され、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基である。また、式中、Ｒ2はアルキル基であり、前記と同様の基が例示され、好ましくは、メチル基、エチル基である。また、式中、ｂは０〜２の整数であり、好ましくは、０または１であり、特に好ましくは、０である。
【００１７】
このような(Ｂ)成分としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルセロソルブオルソシリケート等の４官能アルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等の３官能アルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等の２官能アルコキシシラン；およびこれらのアルコキシシランの部分加水分解縮合物が例示される。上記組成物では、(Ｂ)成分として、これらを２種以上混合して用いてもよい。このような(Ｂ)成分は一般に上市されており入手可能である。
【００１８】
本組成物において、(Ｂ)成分の含有量は、(Ａ)成分１００質量部に対して０.５〜１５質量部の範囲内となる量である。これは、(Ｂ)成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、得られるシリコーンゴム組成物の貯蔵安定性が低下する傾向があり、一方、上記範囲の上限を超えると、得られるシリコーンゴム組成物の硬化速度が著しく遅くなる傾向があるからである。
【００１９】
(Ｃ)成分は本組成物の架橋を促進するための縮合反応用触媒である。このような(Ｃ)成分としては、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート、ジオクチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレートエステル、スタナスオクトエート等の錫化合物；テトラブチルチタネート、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトネート)チタン、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン等のチタン化合物が例示され、特に、チタン化合物であることが好ましい。このような(Ｃ)成分は一般に上市されており入手可能である。
【００２０】
本組成物において、(Ｃ)成分の含有量は、(Ａ)成分１００質量部に対して０.１〜１０質量部の範囲内であり、好ましくは、０.３〜６質量部の範囲内である。これは、(Ｃ)成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、得られるシリコーンゴム組成物の硬化が促進されないからであり、一方、上記範囲の上限を超えると、得られるシリコーンゴム組成物の保存安定性が低下するからである。
【００２１】
本組成物には、その他任意の成分として、フュームドシリカ、沈降性シリカ、焼成シリカ、石英微粉末、炭酸カルシウム、煙霧質二酸化チタン、けいそう土、水酸化アルミニウム、微粒子状アルミナ、マグネシア、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、金属微粉末等の無機質充填剤；およびこれらの充填剤をシラン類、シラザン類、低重合度シロキサン類、有機化合物等で表面処理した充填剤；シラトラン誘導体、カルバシラトラン誘導体等の接着促進剤；防カビ剤、難燃剤、耐熱剤、可塑剤、チクソ性付与剤、顔料等を本発明の目的を阻害しない限り含有してもよい。
【００２２】
また、本組成物には、電極・電気回路の硫黄含有ガスによる腐蝕やマイグレーションによる電蝕を抑制するため、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、ナトリウムベンゾトリアゾール、ナトリウムトリルトリアゾール、ベンゾトリアゾールブチルエステル、ナフトトリアゾール、クロロベンゾトリアゾール、またはその誘導体、これらの２種以上の混合物を含有していてもよい。ベンゾトリアゾールまたはその誘導体の含有量は、本組成物中に質量単位で１ｐｐｍ〜３０％の範囲内となる量であり、好ましくは、１０ｐｐｍ〜１％の範囲内となる量である。これは、ベンゾトリアゾールまたはその誘導体の含有量が上記範囲の下限未満であると、電極・電気回路の硫黄含有ガスによる腐蝕やマイグレーションによる電蝕を十分に抑制できない恐れがあるからであり、一方、上記範囲の上限をこえると、得られるシリコーンゴムの機械的特性が低下する恐れがあるからである。
【００２３】
本組成物を調製する方法は限定されないが、本組成物は湿気により硬化が進行するため、湿気遮断下で調製することが必要である。また、本組成物は湿気遮断下では１液型として貯蔵可能であり、また、これを２液型とすることもできる。
【００２４】
本組成物が適用できる電極・電気回路としては、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の電極・電気回路が例示される。この電極としては、銀、銅、アルミニウム、金等の金属電極；ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)等の金属酸化膜電極が例示される。また、電気回路の基材としては、ガラス、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、セラミックが例示される。
【００２５】
本組成物により電極・電気回路を保護する方法は特に限定されないが、例えば、電極または電気回路に本組成物をディスペンサーで塗布したり、スクレーパで塗布したり、はけで塗布する方法が挙げられる。この際、予め電極または電気回路、さらにはこれらの周囲を洗浄してもよい。また、電極または電気回路に塗布する本組成物の厚さは限定されないが、１０μｍ〜５ｍｍの範囲内であることが好ましい。これは、電極または電気回路に塗布する本組成物の厚さが上記下限未満であると、得られる硬化物により、電極または電気回路を湿気もしくは汚染から十分に保護できなくなるおそれがあるからであり、一方、上記範囲の上限をこえても、電極または電気回路を湿気もしくは汚染から保護する効果に著しい向上は見られないからである。
【実施例】
【００２６】
本発明の電極・電気回路の保護剤組成物を実施例により詳細に説明する。なお、実施例中の特性は２５℃において測定した値である。また、脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は、ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定における、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件で、保護剤組成物の塗面の中央に指先で軽く触れて、指先が汚れない状態になるまでの時間とした。
【００２７】
［実施例１］
粘度が４,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
【化４】
で表される分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体１００質量部とＢＥＴ法による比表面積が１１０ｍ2／ｇであるヘキサメチルジシラザンで処理されたヒュームドシリカ微粉末１０質量部を４０ｍｍＨｇの減圧下、室温で３０分間混合した後、湿気遮断下、メチルトリメトキシシラン２質量部、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン２重量部を均一に混合して脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は６０秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、９０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物のだれはなく、すぐに裏面の塗布を行うことができた。
【００２８】
［実施例２］
実施例１において、分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体の代わりに、粘度が４,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
【化５】
（式中、Ｚは式：
【化６】
で表される基である。）
で表される分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル)シロキサン共重合体を同量用いた以外は実施例１と同様にして脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は６０秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、９０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物のだれはなく、すぐに裏面の塗布を行うことができた。
【００２９】
［実施例３］
実施例１において、分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体１００質量部の代わりに、粘度が４,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
【化７】
（式中、Ｚは式：
【化８】
で表される基である。）
で表される分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル)シロキサン共重合体５０質量部と粘度が４,０００ｍＰａ・sであり、平均式：
【化９】
で表される分子鎖両末端をトリメトキシシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン５０質量部との混合物１００質量部を用いた以外は実施例１と同様にして脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は７５秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、１２０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物のだれはなく、すぐに裏面の塗布を行うことができた。
【００３０】
［実施例４］
実施例１において、分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体１００質量部の代わりに、粘度が４,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
【化１０】
（式中、Ｚは式：
【化１１】
で表される基である。）
で表される分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチルジメチルシロキシジメチルシリルエチル)シロキサン共重合体７５質量部と粘度が４,０００ｍＰａ・sであり、平均式：
【化１２】
で表される分子鎖両末端をトリメトキシシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン２５質量部との混合物１００質量部を用いた以外は実施例１と同様にして脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は６０秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、９０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物のだれはなく、すぐに裏面の塗布を行うことができた。
【００３１】
［比較例１］
実施例１において、分子鎖両末端がトリメトキシシリルエチル基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル(トリメトキシシリルエチル)シロキサン共重合体の代わりに、粘度が４,０００ｍＰａ・sであり、平均式：
【化１３】
で表される分子鎖両末端をトリメトキシシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサンを同量用いた以外は実施例１と同様にして脱メタノール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物を調製した。このシリコーンゴム組成物の指触乾燥時間は３００秒であった。このシリコーンゴム組成物１ｍｌを液晶パネルの銅電極上に円状に塗布して、９０秒後に液晶パネルを反転させたが、前記組成物は未硬化でだれてしまい、すぐに裏面の塗布を行うことができなかった。前記組成物のだれがなくなり、液晶パネルを反転して裏面に塗布を行うことができるようになるためには５００秒以上静置する必要があった。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明の電極・電気回路の保護剤組成物は、湿気により硬化し、硬化途上で接触する電極・電気回路に対して十分に密着することができるので、加熱を避けなければならない電気部品の電極もしくは電気回路を湿気あるいは汚染から保護するために有用である。本発明の電極・電気回路の保護剤組成物は、例えば、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の電極・電気回路の保護剤組成物として使用することにより、製造工程を大幅に短縮し、延いては、これらの製造コストの削減に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】実施例で用いた液晶パネルの断面図である。
【図２】実施例で作製した、液晶パネルの表面を保護剤組成物の硬化物により保護した液晶パネルの断面図である。
【図３】実施例で作製した、液晶パネルの表面および裏面を保護剤組成物の硬化物により保護した液晶パネルの断面図である。
【符号の説明】
【００３４】
１ 液晶パネル
２ ガラス基板
３ 銅電極
４ 外部リード
５ 保護剤組成物の硬化物
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内である脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物からなる電極・電気回路の保護剤組成物。
【請求項２】
脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物が、
(Ａ)２５℃における粘度が１０〜１,０００,０００ｍＰａ・ｓであり、一分子中に少なくとも２個の一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
｛式中、Ｒ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、Ｒ2はアルキル基であり、Ｘはオキシ基、アルキレン基、または一般式：
【化１】
（式中、Ｒ1は前記と同様であり、Ｒ3はアルキレン基である。）
で表されるアルキレンシロキシシルアルキレン基であり、ａは０〜２の整数である。｝
で表されるアルコキシシリル含有基を有するジオルガノポリシロキサン １００質量部、
(Ｂ)一般式：
Ｒ1bＳi(ＯＲ2)4-b
（式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同様であり、ｂは０〜２の整数である。）
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物 ０.５〜３０質量部、
および
(Ｃ)縮合反応用触媒 ０.１〜１０質量部
から少なくともなることを特徴とする、請求項１記載の保護剤組成物。
【請求項３】
(Ａ)成分が、一般式：
【化２】
［式中、Ｒ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、Ｙは置換もしくは非置換の一価炭化水素基または一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
｛式中、Ｒ1は前記と同じであり、Ｒ2はアルキル基であり、Ｘはオキシ基、アルキレン基、または一般式：
【化３】
（式中、Ｒ1は前記と同じであり、Ｒ3はアルキレン基である。）
で表されるアルキレンシロキシシルアルキレン基であり、ａは０〜２の整数である。｝
で表されるアルコキシシリル含有基であり、但し、一分子中の少なくとも２個のＹは前記アルコキシシリル含有基であり、ｍは１以上の整数であり、ｎは０以上の整数である。］
で表されるジオルガノポリシロキサンであることを特徴とする、請求項２記載の保護剤組成物。
【請求項４】
(Ａ)成分が、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサン単独、または一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンと一分子中に２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンの混合物であることを特徴とする、請求項２記載の保護剤組成物。
【請求項５】
(Ａ)成分が、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンと一分子中に２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンとの混合物であり、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンの含有量が少なくとも１０質量％であることを特徴とする、請求項２記載の保護剤組成物。
【請求項１】
ＪＩＳ Ｋ ５６００-1-1：1999に規定の、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件での指触乾燥時間が３分以内である脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物からなる電極・電気回路の保護剤組成物。
【請求項２】
脱アルコール縮合反応硬化性シリコーンゴム組成物が、
(Ａ)２５℃における粘度が１０〜１,０００,０００ｍＰａ・ｓであり、一分子中に少なくとも２個の一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
｛式中、Ｒ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、Ｒ2はアルキル基であり、Ｘはオキシ基、アルキレン基、または一般式：
【化１】
（式中、Ｒ1は前記と同様であり、Ｒ3はアルキレン基である。）
で表されるアルキレンシロキシシルアルキレン基であり、ａは０〜２の整数である。｝
で表されるアルコキシシリル含有基を有するジオルガノポリシロキサン １００質量部、
(Ｂ)一般式：
Ｒ1bＳi(ＯＲ2)4-b
（式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同様であり、ｂは０〜２の整数である。）
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物 ０.５〜３０質量部、
および
(Ｃ)縮合反応用触媒 ０.１〜１０質量部
から少なくともなることを特徴とする、請求項１記載の保護剤組成物。
【請求項３】
(Ａ)成分が、一般式：
【化２】
［式中、Ｒ1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、Ｙは置換もしくは非置換の一価炭化水素基または一般式：
−Ｘ−ＳiＲ1a(ＯＲ2)3-a
｛式中、Ｒ1は前記と同じであり、Ｒ2はアルキル基であり、Ｘはオキシ基、アルキレン基、または一般式：
【化３】
（式中、Ｒ1は前記と同じであり、Ｒ3はアルキレン基である。）
で表されるアルキレンシロキシシルアルキレン基であり、ａは０〜２の整数である。｝
で表されるアルコキシシリル含有基であり、但し、一分子中の少なくとも２個のＹは前記アルコキシシリル含有基であり、ｍは１以上の整数であり、ｎは０以上の整数である。］
で表されるジオルガノポリシロキサンであることを特徴とする、請求項２記載の保護剤組成物。
【請求項４】
(Ａ)成分が、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサン単独、または一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンと一分子中に２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンの混合物であることを特徴とする、請求項２記載の保護剤組成物。
【請求項５】
(Ａ)成分が、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンと一分子中に２個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンとの混合物であり、一分子中に少なくとも３個のアルコキシシリル基を有するジオルガノポリシロキサンの含有量が少なくとも１０質量％であることを特徴とする、請求項２記載の保護剤組成物。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００７−２３１１７２（Ｐ２００７−２３１１７２Ａ）
【公開日】平成１９年９月１３日（２００７．９．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５５０８５（Ｐ２００６−５５０８５）
【出願日】平成１８年３月１日（２００６．３．１）
【出願人】（０００１１００７７）東レ・ダウコーニング株式会社 (338)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月１３日（２００７．９．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年３月１日（２００６．３．１）
【出願人】（０００１１００７７）東レ・ダウコーニング株式会社 (338)
【Ｆターム（参考）】
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