説明

2−置換環状スルホン化合物の製造方法

【課題】2−置換環状スルホン化合物を、効率よく工業的に有利に製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式(1);


(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるアシルチオ化合物を加溶媒分解させ、次いで酸化剤と反応させることを特徴とする一般式(2);


(式中、RおよびAは前記と同様である。)で表される2−置換環状スルホン化合物の製造方法。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、2−置換環状スルホン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
2−置換環状スルホン化合物は、リチウムイオン電池の電解液として有用である。
【0003】
一般に、スルホン化合物は、スルフィド化合物をメタクロロ過安息香酸や過酸化水素などの酸化剤と反応させて得ることができる。環状スルホン化合物についても、環状スルフィド化合物から同様の方法で得ることができる。
【0004】
環状スルホン化合物の原料となる環状スルフィド化合物を製造する方法は、種々知られている。例えば、(1)環状炭酸化合物とチオシアン酸カリウムによる高温条件下での反応を用いる方法(非特許文献1参照)、(2)ジハロゲン化物と硫化ナトリウムを用いる方法(非特許文献2参照)などが挙げられる。
【0005】
しかしながら、いずれの方法も、2−メチルチエタンなどの2−置換環状スルフィド化合物の製造においては、高収率は期待できない。
【非特許文献1】ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサイエティ(J. Am. Chem. Soc.),第80巻,1958年,p.3168
【非特許文献2】ケミカル アンド ファーマシューティカル ブレタン(Chem. Pharm. Bull.),第33巻,1985年,p.5048
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の課題は、2−置換環状スルホン化合物を、2−置換環状スルフィド化合物を経由して効率よく、工業的に有利に製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは鋭意検討した結果、アシルチオ基とスルホニルオキシ基を1個ずつ有する化合物を加溶媒分解させることにより、2−置換環状スルフィド化合物を得ることができ、次いで、これを酸化剤と反応させることにより、2−置換環状スルホン化合物を効率よく製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0008】
すなわち、本発明は、下記に示すとおりの2−置換環状スルフィド化合物および2−置換環状スルホン化合物の製造方法を提供するものである。
項1. 一般式(1);
【0009】
【化1】

【0010】
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるアシルチオ化合物を加溶媒分解させ、次いで酸化剤と反応させることを特徴とする一般式(2);
【0011】
【化2】

【0012】
(式中、RおよびAは前記と同様である。)で表される2−置換環状スルホン化合物の製造方法。
項2. 一般式(1);
【0013】
【化3】

【0014】
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるアシルチオ化合物を加溶媒分解させることを特徴とする一般式(3);
【0015】
【化4】

【0016】
(式中、RおよびAは前記と同様である。)で表される2−置換環状スルフィド化合物の製造方法。
項3. 一般式(1);
【0017】
【化5】

【0018】
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるアシルチオ化合物が、一般式(4);
【0019】
【化6】

【0020】
(式中、R、RおよびAは前記と同様である。)で表されるスルホニルオキシ化合物と、一般式(5);
【0021】
【化7】

【0022】
(式中、Rは前記と同様である。Mは水素原子またはアルカリ金属を示す。)で表されるチオカルボン酸またはそのアルカリ金属塩とを反応させることにより得られることを特徴とする項1または2に記載の方法。
項4. 一般式(4);
【0023】
【化8】

【0024】
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるスルホニルオキシ化合物が、一般式(6);
【0025】
【化9】

【0026】
(式中、RおよびAは前記と同様である。)で表されるジオール化合物と、一般式(7);
SOX (7)
(式中、Rは前記と同様である。Xはハロゲン原子を示す。)で表されるスルホニルハライド化合物とを脱ハロゲン化水素剤の存在下で反応させることにより得られることを特徴とする項3に記載の方法。
【0027】
以下、本発明を詳細に説明する。
【0028】
なお、説明の便宜上、上記一般式(6)で表されるジオール化合物から上記一般式(4)で表されるスルホニルオキシ化合物を得る工程を「工程A」とし、上記一般式(4)で表されるスルホニルオキシ化合物から上記一般式(1)で表されるアシルチオ化合物を得る工程を「工程B」とし、上記一般式(1)で表されるアシルチオ化合物から上記一般式(3)で表される2−置換環状スルフィド化合物を得る工程を「工程C」とし、この2−置換環状スルフィド化合物を酸化して上記一般式(2)で表される2−置換環状スルホン化合物を得る工程を「工程D」とする。
【0029】
[工程A]
工程Aにおいては、一般式(6);
【0030】
【化10】

【0031】
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるジオール化合物と、一般式(7);
SOX (7)
(式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Xはハロゲン原子を示す。)で表されるスルホニルハライド化合物とを脱ハロゲン化水素剤の存在下で反応させることにより、一般式(4);
【0032】
【化11】

【0033】
(式中、R、RおよびAは前記と同様である。)で表される、スルホニルオキシ基を2個有するスルホニルオキシ化合物が得られる。
【0034】
上記一般式(6)で表されるジオール化合物としては、1,3−ブタンジオール、1,4−ペンタンジオールなどが好ましい。
【0035】
上記一般式(7)で表されるスルホニルハライド化合物としては、メタンスルホニルクロリドなどのアルキルスルホニルハライド、トルエンスルホニルクロリドなどの芳香族スルホニルハライドなどが挙げられ、アルキルスルホニルハライド(特にメタンスルホニルクロリド)を使用するのが好ましい。スルホニルハライド化合物の使用量は、ジオール化合物1モルに対し、2.0〜3.0モルであるのが好ましく、2.1〜2.2モルであるのがより好ましい。
【0036】
工程Aにおいては、ジオール化合物とスルホニルハライド化合物との反応により、ハロゲン化水素が副生するので、脱ハロゲン化水素剤の存在下で反応させることが好ましい。脱ハロゲン化水素剤としては、トリエチルアミンなどの第3級アミン、ピリジンなどの含窒素芳香族化合物、水酸化ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基などが挙げられ、第3級アミン(特にトリエチルアミン)を使用するのが好ましい。脱ハロゲン化水素剤の使用量は、ジオール化合物1モルに対し、2.0〜4.0モルであるのが好ましく、2.0〜3.0モルであるのがより好ましい。
【0037】
工程Aで用いられる溶媒としては、反応に悪影響を与えないものなら特に制限はなく、例えば、酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルなどのニトリル類、ジオキサンなどのエーテル類が挙げられ、エステル類(特に酢酸エチル)を使用するのが好ましい。
【0038】
工程Aの反応温度は、−20〜50℃程度であるのが好ましく、0〜30℃程度であるのがより好ましい。反応時間は、0.5〜3時間程度であるのが好ましい。
【0039】
[工程B]
工程Bにおいては、一般式(4);
【0040】
【化12】

【0041】
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるスルホニルオキシ化合物と、一般式(5);
【0042】
【化13】

【0043】
(式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Mは水素原子またはアルカリ金属を示す。)で表されるチオカルボン酸またはそのアルカリ金属塩とを反応させることにより、一般式(1);
【0044】
【化14】

【0045】
(式中、R、R、RおよびAは前記と同様である。)で表される、アシルチオ基とスルホニルオキシ基を1個ずつ有するアシルチオ化合物が得られる。
【0046】
工程Bで用いられるチオカルボン酸としては、チオ酢酸、チオ安息香酸などが挙げられ、アルカリ金属塩としては、これらの酸のアルカリ金属塩が挙げられる。中でも、チオ酢酸カリウムが好ましい。チオカルボン酸またはそのアルカリ金属塩の使用量は、上記スルホニルオキシ化合物1モルに対し、0.9〜1.4モルであるのが好ましい。
【0047】
工程Bで用いられる溶媒としては、アセトンなどのケトン類、メタノールなどのアルコール類、アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられ、ケトン類(特にアセトン)を使用するのが好ましい。
【0048】
工程Bの反応温度は、0〜50℃程度であるのが好ましく、10〜30℃程度であるのがより好ましい。反応時間は、2〜24時間程度であるのが好ましい。
【0049】
[工程C]
工程Cにおいては、一般式(1);
【0050】
【化15】

【0051】
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるアシルチオ化合物を加溶媒分解させることにより、一般式(3);
【0052】
【化16】

【0053】
(式中、RおよびAは前記と同様である。)で表される2−置換環状スルフィド化合物が得られる。
【0054】
加溶媒分解は、塩基の存在下で行うのが好ましい。加溶媒分解で用いられる塩基としては、ナトリウムメトキシドなどのアルコラート類、水酸化ナトリウムなどの無機塩基が挙げられ、アルコラート類(特にナトリウムメトキシド)を使用するのが好ましい。塩基の使用量は、上記アシルチオ化合物1モルに対し、1.0〜2.0モルであるのが好ましい。
【0055】
工程Cで用いられる溶媒としては、メタノールなどのアルコール類、水、またはこれらの混合溶媒が挙げられ、アルコール類(特にメタノール)を使用するのが好ましい。
【0056】
工程Cの反応温度は、0〜60℃程度であるのが好ましく、20〜40℃程度であるのがより好ましい。反応時間は、1〜24時間程度であるのが好ましい。
【0057】
工程Cの反応終了後、生成した2−置換環状スルフィド化合物を濃縮などにより単離してもよいが、酸を加えて反応液のpHを中性付近に中和した後、酸化剤を加えることによりそのまま工程Dの酸化反応を行うこともできる。この中和に用いる酸としては、酢酸などの有機酸、希塩酸などの無機酸を用いることができる。
【0058】
[工程D]
工程Dにおいては、上記工程Cで得られた一般式(3);
【0059】
【化17】

【0060】
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表される2−置換環状スルフィド化合物を、酸化剤と反応させることにより、一般式(2);
【0061】
【化18】

【0062】
(式中、RおよびAは前記と同様である。)で表される2−置換環状スルホン化合物が得られる。
【0063】
工程Dで用いられる酸化剤としては、スルフィド化合物をスルホン化合物に酸化する酸化剤なら特に制限はなく、例えば、過酸化水素などの無機過酸、メタクロロ過安息香酸などの有機過酸、硝酸などの窒素酸化物、オゾンなどが挙げられ、無機過酸(特に過酸化水素)を使用するのが好ましい。酸化剤の使用量は、上記2−置換環状スルフィド化合物1モルに対し、2.0〜4.0モルであるのが好ましい。
【0064】
また、酸化剤と触媒を併用し、反応を促進させてもよい。触媒としては、タングステン(IV)酸ナトリウム二水和物などが挙げられる。触媒の使用量は微量でよい。
【0065】
工程Dで用いられる溶媒としては、メタノールなどのアルコール類、水、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。
【0066】
工程Dの反応温度は、0〜100℃程度であるのが好ましく、20〜50℃程度であるのがより好ましい。反応時間は、1〜24時間程度であるのが好ましい。
【0067】
なお、工程Cの説明でも述べたように、工程Cにおける加溶媒分解終了後、生成した2−置換環状スルフィド化合物を単離することなく、反応液に酸を加えて反応液のpHを中性付近に中和した後、酸化剤を加えることによりそのまま工程Dの酸化反応を行ってもよい。
【発明の効果】
【0068】
本発明によれば、2−置換環状スルフィド化合物を経由して、2−置換環状スルホン化合物を、効率よく工業的に有利に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0069】
以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例になんら限定されるものではない。
【0070】
実施例1 (2−メチルチエタン1,1−ジオキシドの製造)
1,3−ブタンジオール4.50g(50ミリモル)に酢酸エチル50mlおよびメタンスルホニルクロリド12.60g(110ミリモル)を加えて撹拌し、トリエチルアミン13.15g(130ミリモル)を15℃以下に保ちながら1時間かけて滴下した。滴下終了後、5〜18℃で1時間反応させた。反応終了後、水20mlによる洗浄を2回行った後に、有機溶媒を減圧留去し、1,3−ジメチルスルホニルオキシブタン12.05g(収率97.8%:1,3−ブタンジオール基準)を得た。
【0071】
得られた1,3−ジメチルスルホニルオキシブタン2.41g(10ミリモル)にアセトン20mlを加えて撹拌し、さらにチオ酢酸カリウム1.14g(10ミリモル)を添加した。添加後、20〜30℃で14時間反応させた。反応終了後、副生した塩をろ過により取り除き、溶媒を減圧留去して、1−アセチルチオ−3−メチルスルホニルオキシブタン2.09g(収率92.4%:1,3−ジメチルスルホニルオキシブタン基準)を得た。
【0072】
得られた1−アセチルチオ−3−メチルスルホニルオキシブタン2.09g(9.2ミリモル)にメタノール10mlを加え、さらに28%ナトリウムメトキシド1.96g(10ミリモル)を加え、20〜30℃で15時間反応させ、2−メチルチエタンを含む反応液を得た。この反応液をGC−MSで分析すると、溶媒を除いた2−メチルチエタンの面積百分率は80.0%であり、質量は88を示した。
【0073】
この反応液に水20mlを加えた後に、酢酸を加えてpHを中性付近に調整した。次いで、タングステン(IV)酸ナトリウム二水和物64mg(0.19ミリモル)を加え、さらに35%過酸化水素水3.22g(33ミリモル)を1時間15分かけて滴下した。滴下終了後、50℃で2時間反応させた。反応終了後、亜硫酸ナトリウム1.22g(9.7ミリモル)を加えて余剰の過酸化水素を処理した後、有機溶媒を留去し、酢酸エチル20mlで抽出を2回行った。その後、酢酸エチルを減圧留去させ、2−メチルチエタン1,1−ジオキシド1.00g(収率83.2%:3−アセチルチオ−1−メチルスルホニルオキシブタン基準)を得た。1,3−ブタンジオール基準での収率は75.2%であった。
H−NMR(CDCl)δ=1.43(3H,d,J=7.1Hz),1.62−1.72(1H,m),2.31−2.40(1H,m),3.89−4.07(2H,m),4.35−4.45(1H,m)
13C−NMR(CDCl)δ=13.7,15.3,62.4,73.0。
【0074】
実施例2 (2−メチルスルホランの製造)
1,4−ペンタンジオール300mg(2.88ミリモル)に酢酸エチル3mlおよびトリエチルアミン720mg(7.12ミリモル)を加えて撹拌し、メタンスルホニルクロリド730mg(6.37ミリモル)を10℃以下に保ちながら20分かけて滴下した。滴下終了後、20〜30℃で30分反応させた。反応終了後、水1.5mlによる洗浄を2回行った後に、有機溶媒を減圧留去し、1,4−ジメチルスルホニルオキシペンタン650mg(収率86.7%:1,4−ペンタンジオール基準)を得た。
【0075】
得られた1,4−ジメチルスルホニルオキシペンタン301mg(1.16ミリモル)にアセトン14mlを加えて撹拌し、さらにチオ酢酸カリウム168mg(1.47ミリモル)を添加した。添加後、20〜30℃で22時間反応させた。反応終了後、副生した塩をろ過により取り除き、溶媒を減圧留去して、1−アセチルチオ−4−メチルスルホニルオキシペンタン261mg(収率83.8%:1,4−ジメチルスルホニルオキシペンタン基準)を得た。
【0076】
得られた1−アセチルチオ−4−メチルスルホニルオキシペンタン100mg(0.416ミリモル)にメタノール1mlを加え、さらに28%ナトリウムメトキシド125mg(0.648ミリモル)を加え、20〜30℃で4時間反応させ、2−メチルチオランを含む反応液を得た。
【0077】
この反応液に水0.3mlを加えた後に、酢酸を加えてpHを中性付近に調整した。次いで、タングステン(IV)酸ナトリウム二水和物5.00mg(0.0133ミリモル)を加え、さらに35%過酸化水素水113mg(1.16ミリモル)を添加した。添加後に発熱し、反応液は45℃まで上昇したが、そのまま室温下で12時間反応させた。反応終了後、亜硫酸ナトリウム35.7mg(0.283ミリモル)および水1mlを加えた後に、酢酸エチル2mlで抽出を2回行った。その後、酢酸エチルを留去させ、2−メチルスルホラン21.3mg(収率38.1%:1−アセチルチオ−4−メチルスルホニルオキシペンタン基準)を得た。1,4−ペンタンジオール基準での収率は27.7%であった。
H−NMR(CDCl)δ=1.36(3H,d,J=7.1Hz),1.75−1.83(1H,m),2.04−2.12(1H,m),2.12−2.21(1H,m),2.34−2.39(1H,m),2.96−3.08(2H,m),3.11−3.18(1H,m)
13C−NMR(CDCl)δ=12.3,20.0,30.8,50.5,56.1。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
一般式(1);
【化1】

(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるアシルチオ化合物を加溶媒分解させ、次いで酸化剤と反応させることを特徴とする一般式(2);
【化2】

(式中、RおよびAは前記と同様である。)で表される2−置換環状スルホン化合物の製造方法。
【請求項2】
一般式(1);
【化3】

(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるアシルチオ化合物を加溶媒分解させることを特徴とする一般式(3);
【化4】

(式中、RおよびAは前記と同様である。)で表される2−置換環状スルフィド化合物の製造方法。
【請求項3】
一般式(1);
【化5】

(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるアシルチオ化合物が、一般式(4);
【化6】

(式中、R、RおよびAは前記と同様である。)で表されるスルホニルオキシ化合物と、一般式(5);
【化7】

(式中、Rは前記と同様である。Mは水素原子またはアルカリ金属を示す。)で表されるチオカルボン酸またはそのアルカリ金属塩とを反応させることにより得られることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
【請求項4】
一般式(4);
【化8】

(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示し、Aは置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキレン基を示す。)で表されるスルホニルオキシ化合物が、一般式(6);
【化9】

(式中、RおよびAは前記と同様である。)で表されるジオール化合物と、一般式(7);
SOX (7)
(式中、Rは前記と同様である。Xはハロゲン原子を示す。)で表されるスルホニルハライド化合物とを脱ハロゲン化水素剤の存在下で反応させることにより得られることを特徴とする請求項3に記載の方法。

【公開番号】特開2007−99740(P2007−99740A)
【公開日】平成19年4月19日(2007.4.19)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−295625(P2005−295625)
【出願日】平成17年10月7日(2005.10.7)
【出願人】(000222554)東洋化成工業株式会社 (52)