国際特許分類[C07D333/02]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 異項原子として1個の硫黄原子のみをもつ5員環を含有する複素環式化合物 (2,506) | 他の環と縮合していないもの (1,794)
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環の硫黄原子が置換されていないもの (1,696)
環の硫黄原子が置換されたもの (96)
国際特許分類[C07D333/02]に分類される特許
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化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式(1−1)で表される化合物[式中、R1、R3はそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基であり、Aは2価の連結基であり、R2、R4はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式(1−an1)、(1−an2)又は(1−an3)で表される基である。n0は0又は1である。Y1は単結合又は−SO2−であり、R5はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜10の1価の炭化水素基、炭素数3〜20の環状の1価の炭化水素基、又は炭素数3〜20の環状の部分構造を有する1価の炭化水素基である。M+は有機カチオン又は金属カチオンである]。
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インスリン抵抗性改善薬を製造する方法およびその中間体化合物
本発明は、式(I)
[式中、R1およびR2は、明細書および特許請求の範囲に定義するとおりである]
の化合物を製造し、そして場合により、式(I)の化合物を医薬的に許容できる塩に変換するための新規な方法に関するものである。式(I)の化合物および対応する塩、例えばナトリウム塩は、医薬的に活性な物質である。
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