東京応化工業株式会社により出願された特許

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【課題】有底の凹部の状態を非破壊で検査し、製造コストを低減させる。
【解決手段】本発明のウエハ50のビア孔51の検査方法は、有底のビア孔51が表面に形成されたウエハ50に被転写材料を塗布し、この被転写材料をビア孔51内に充填させ、被転写材料を硬化させた後、ウエハ50から離型させることでビア孔51がビア像71として転写されてなる被転写体70を形成する転写工程と、ビア像71の表面を観察することでその表面形状の画像データを作成する表面観察工程と、ビア像71の画像データに基づいてビア像71の形状を評価し、ビア孔51内の状態を検査する検査工程とを備えたところに特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】有底の凹部の底部までレジスト液を塗布する。
【解決手段】本発明は、有底のビアホール51が表面に形成されたウエハ50に向けてレジスト液を噴射してレジスト膜60を成膜するスプレーノズル14であって、レジスト液を供給するレジスト液供給路23Aが軸心に沿って貫通して設けられた主軸23と、この主軸23を回転自在に支持する軸受け25と、主軸23の先端に取り付けられ、回転することでレジスト液を霧化させるエアカップ19とを備え、主軸23と軸受け25は、非金属製とされている構成としたところに特徴を有する。このような構成によると、回転霧化式のスプレーノズル14によってレジスト液をウエハ50に向けて噴射しているため、ビアホール51の底部までレジスト液を塗布することができる。 (もっと読む)


【課題】感度、解像性及びリソグラフィー特性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、一般式(a5−0)で表される構成単位(a5)と、露光により酸を発生する構成単位(a6)とを有する高分子化合物(A1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】ネガ型パターンを高解像性で、かつ、良好な形状で形成できるレジストパターン形成方法と、これに用いるのに好適なレジスト組成物の提供。
【解決手段】基材成分(A)及び光塩基発生剤成分を含有するレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、レジスト膜を露光する工程、露光後にベークを行う工程、レジスト膜をアルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法、及びこれに用いるレジスト組成物であって、(A)成分は酸分解性基を含む構成単位、−SO−又はラクトン含有環式基を含む構成単位、式(a3−1)で表される構成単位(但し10モル%以下)を有する高分子化合物を含む。
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