【課題】気相成長法により、単層カーボンナノチューブを所定のピッチにて配列した状態で形成させる方法、及びそのような方法で使用されるカーボンナノチューブ生成用触媒を提供すること。
【解決手段】本発明のカーボンナノチューブの製造方法は、金属元素が配位することのできる窒素原子を少なくとも１つ有する含窒素デンドリマー化合物に８、９又は１０族の遷移金属元素を配位させた化合物からなる触媒を基板の表面に付着させる触媒付着工程と、前記触媒の付着した基板の表面に炭素化合物を供給しながら、当該炭素化合物を前記基板の近傍で熱分解させる熱分解工程と、を含む。また、本発明のカーボンナノチューブ生成用触媒は、金属元素が配位することのできる窒素原子を少なくとも１つ有する含窒素デンドリマー化合物に８、９又は１０族の遷移金属元素を配位させた化合物である。 （もっと読む）

【課題】安定的に溶解性を保持し、接着剤を迅速に溶解することが可能な、接着剤を剥離するための剥離用組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、接着剤を剥離するための剥離用組成物であって、下記化学式（Ｉ）
【化１】


で示される骨格を有する化合物を含み、上記化合物の純度が９２％以上であって、かつ、上記化合物のトランス体を当該化合物のシス体よりも多く含んでなる。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できる、ネガ型レジスト組成物に用いる樹脂成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】一般式（ｆ１−１）又は一般式（ｆ１−２）で表される塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と架橋性基含有基を含む構成単位（ｆ２）とを有する高分子化合物。式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１〜５の低級アルキル基、又は炭素原子数１〜５のハロゲン化低級アルキル基であり；Ｘは二価の有機基であり、Ａ_ａｒｙｌは置換基を有していてもよい芳香族環式基であり、Ｘ_０１は単結合又は二価の連結基であり、Ｒ^２はフッ素原子を有する有機基である。
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【課題】ラジカル重合開始剤として有用な化合物、該化合物からなるラジカル重合開始剤、該化合物の製造方法、レジスト組成物用として有用な重合体、該重合体を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物［式中Ｒ^１は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｚは炭素数１〜１０の炭化水素基又はシアノ基であり、Ｒ^１とＺとは相互に結合して環を形成してもよい。Ｘは２価の連結基であって、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−及び−ＮＨ−Ｃ（＝ＮＨ）−の何れかをＱと接する末端に有する。Ｒ^２は単結合、置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいアリーレン基、ｑ、ｒは夫々独立に０又は１、Ａ^＋は金属カチオン又は有機カチオンである］。［化１］
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【課題】塗布動作を行う際に塗布液がミスト状に飛散する場合がある。ミスト状に飛散した塗布液が装置内部のうち基板以外の部分に付着すると、装置を汚してしまうという問題があるので、装置内の環境を清浄化する。
【解決手段】基板収容装置ＡＣＭは、基板Ｓを保持する基板保持部１０と、前記基板保持部１０に保持された状態の前記基板Ｓを囲うカップ部２０と、前記基板Ｓと前記カップ部２０との間に異物を回収する回収液を供給する回収液供給部３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板が汚れるのを抑えること。
【解決手段】基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出するノズルと、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて気体を噴出する気体噴出部と、前記基板保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルから前記液状体が吐出されている状態で、前記気体噴出部に前記気体を噴出させる制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターン寸法の微細化を達成でき、且つ、パターン均一性を向上できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、前記レジストパターン上に被覆形成剤を塗布して被覆膜を形成する工程、前記レジストパターンの軟化点よりも低い温度で熱処理を行い、被覆膜を熱収縮させて前記レジストパターン間の間隔を狭める工程、及び前記被腹膜を除去する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の製造方法、並びに当該高分子化合物を含有するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】アニオン基を有する水溶性モノマーを重合して前駆体ポリマーを合成し、当該前駆体ポリマーを水で洗浄した後、当該前駆体ポリマーを有機カチオンと塩交換させることを特徴とする、露光により分解して酸を発生する構成単位を有する高分子化合物の製造方法。当該高分子化合物の製造方法により製造された高分子化合物を含有するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】外周に枠部を備えている支持膜の中央部に接着された基板を保持しているときに、該支持膜を溶剤雰囲気などから保護し、該支持膜のたわみを抑制することができる保持技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る保持装置１０は、ダイシングテープ（支持膜）３が接着されている側の面からウエハ（基板）２を吸引する第一吸引部１１、ダイシングフレーム（枠部）４を支持するとともに、ダイシングテープ３のウエハ２が接着されていない側の面におけるウエハ２とダイシングフレーム４とに挟まれた第一領域を覆う構造体１４、および、構造体１４と、ダイシングフレーム４および第一領域の少なくとも一方との間を密閉する第二吸引部１２を備えている。 （もっと読む）

【課題】経時の影響による寸法変動が抑制されると共に、リソグラフィー特性とレジストパターン形状に優れたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ｇ１）又は（ｇ２）で表される一価の基を有する化合物（Ｇ）と、一般式（ｈ１）又は（ｈ２）で表される一価の基を有する化合物（Ｈ）とを含有するレジスト組成物。
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