【課題】高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する構成を有する（メタ）アクリル酸エステル単位と、−ＳＯ_２−含有環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル単位及び、一般式（ａ５−１）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位とを有する高分子化合物（Ａ１）、及び露光により酸を発生する成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー特性に優れ、解像性が向上し、かつディフェクトを低減できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、含窒素有機化合物成分（Ｃ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物成分（Ｃ）が、一般式（ｃ１−１）で表されるカルボン酸と、塩基性化合物との塩である光塩基発生剤（Ｃ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】表面処理剤からなる薄膜のパターンを調整し、ブロックコポリマーの相分離構造を基板表面に対して垂直方向に配向されたラメラ構造状に形成する方法の提供。
【解決手段】基板上に、表面処理剤を含む中性化膜を形成し、前記中性化膜の上に、レジストからなるマスクパターンを形成し、前記マスクパターンを中性化膜に転写し、前記中性化膜から前記マスクパターンを除去し、当該中性化膜を被覆するように、複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を形成した後、当該ブロックコポリマーを含む層を加熱して相分離させる工程を有し、前記表面処理剤が、前記ブロックコポリマーを構成するいずれのポリマーとも親和性を有し、前記マスクパターンが、ラインの幅及びスペースの間隔がそれぞれ、前記ブロックコポリマーの周期の０．５倍若しくは１〜１０の整数倍であるＬ／Ｓパターンである相分離構造を有する層を表面に備える基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ノズルの清掃作業を効率的に行うこと。
【解決手段】基板に対して液状体を吐出するスリット開口が先端部に形成されたノズルを有する塗布部と、前記基板と前記ノズルとが相対的に移動するように前記基板及び前記ノズルのうち少なくとも一方を駆動する駆動部と、前記スリット開口に挿入可能に形成された清掃部材と、前記清掃部材を前記スリット開口の長手方向に移動させる清掃部材駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】経時安定性に優れ、経時によっても塗布膜厚の変化が生じにくい感光性樹脂組成物、及びその感光性樹脂組成物から形成されたスペーサを有する液晶パネルを提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び溶剤（Ｓ）を含有する。このうち、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、不飽和カルボン酸（ａ１）と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）とを少なくとも重合させた共重合体（Ａ１）を含む。また、溶剤（Ｓ）は、（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテル系溶剤を含み、溶剤（Ｓ）に占める（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテル系溶剤の割合が５６質量％以上である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）または下記一般式（ａ０−２）で表される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ０−１）または（ｂ０−２）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）、光増感剤（Ｇ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上を含む［式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ｚ^２ｃは置換基を有していてもよいＣ１〜３０の炭化水素基（ただし、Ｓに隣接する炭素にはフッ素原子は置換されていない）であり、Ｒ^２は有機基であり、Ｙ^３はアルキレン基またはアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋は芳香族性を有しないスルホニウム又はヨードニウムカチオンである。］
[化１]
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【課題】塗布環境の変化を抑制すること。
【解決手段】易酸化性の金属及び溶媒を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記塗布部によって前記液状体の塗布を行う塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバーと、前記チャンバー内の雰囲気中における前記溶媒の濃度が閾値を超えたときに前記液状体を前記チャンバー内の雰囲気から隔離させる隔離部とを備える。 （もっと読む）

【課題】良好な感度を有し、かつ、感光性樹脂組成物が遮光剤を含んだり、露光量が不足したりするような状況にあっても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することのできる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物、及び（Ｂ）下記一般式（１）で表されるオキシム系光重合開始剤を含み、さらに（Ｃ）前記（Ｂ）成分と異なる光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を使用する。
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【課題】化合物の製造方法、および新規化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｉ）と、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物（ＩＩ）とを反応させることを特徴とする下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物（Ｂ１）の製造方法。［下記式中、Ｘは二価の連結基又は単結合であり；Ｒは水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり；Ｒ’は脂肪族基であり；ｎは１〜１０の整数であり；Ｍ^＋は、アルカリ金属イオンである。Ａ^＋は有機カチオンであり、Ｚ⁻は臭素イオン、塩素イオン、化合物（Ｉ）よりも酸性度が低い酸になりうるイオン、ＢＦ_４⁻、ＡｓＦ_６⁻、ＳｂＦ_６⁻、ＰＦ_６⁻またはＣｌＯ_４⁻である。］
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