【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物である含フッ素化合物。含フッ素化合物の前記エチレン性二重結合が開裂した構造の構成単位を有する高分子化合物である含フッ素化合物。式中、Ｑは１価の親水基から水素原子１つを除いた基であり、Ｒ^２は、重合性基を含む置換基を有し、フッ素原子を有していてもよい芳香族環式基を含む有機基であり、前記重合性基が、エチレン性不飽和二重結合を有する基であり、Ｒ^３は−Ｒ^４１−Ｒ^４２で表される基である。Ｒ^４１は無置換の炭素数１〜９のアルキレン基であり、Ｒ^４２は炭素数１〜９のフッ素置換アルキル基である。ただし、Ｒ^４１とＲ^４２との炭素数の合計は１０以下である。
［化１］
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【課題】解像性に優れ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、側鎖に−ＳＯ_２−含有環式基を有するアクリルアミド系構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物用のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物。下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物。
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【課題】解像性に優れると共に、現像後のディフェクトの発生を抑制でき、かつ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】側鎖に−ＳＯ_２−含有環式基を有するアクリルアミド構成単位（ａ０）と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有し、前記構成単位（ａ０）の含有割合が５０モル％未満である樹脂成分（Ａ１）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の性質にバラつきが生じるのを防ぐこと。
【解決手段】易酸化性の金属及び溶媒を含む液状体を基板に吐出するノズルを有する塗布部と、前記塗布部に前記液状体を供給する供給系と、前記供給系及び前記塗布部のうち少なくとも一方から前記液状体を回収し、回収した前記液状体を前記供給系及び前記塗布部のうち少なくとも一方に供給する循環系とを備える。 （もっと読む）

【課題】処理時間を短縮化することが可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属及び溶媒を含む液状体の塗布膜を基板に形成する塗布部を有する第一チャンバーと、前記塗布膜を加熱する第一加熱部を有する第二チャンバーと、前記第一チャンバーと前記第二チャンバーとを接続する接続部とを備え、前記接続部として、前記基板に塗布された前記塗布膜を加熱する第二加熱部及び前記塗布膜の周囲の圧力を調整する圧力調整部を有し、前記塗布膜に含まれる前記溶媒の少なくとも一部を気化させる第三チャンバーが用いられている。 （もっと読む）

【課題】高解像性のレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、光塩基発生剤成分とを含有するレジスト組成物を用いて、支持体上にレジスト膜を形成する工程（１）と、前記レジスト膜を露光する工程（２）と、前記工程（２）の後にベークを行い、前記レジスト膜の露光部において、前記露光により前記光塩基発生剤成分から発生した塩基と、前記レジスト膜に予め供給された酸とを中和させ、前記レジスト膜の未露光部において、前記レジスト膜に予め供給された酸の作用により、前記基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程（３）と、前記レジスト膜をアルカリ現像し、前記レジスト膜の未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程（４）とを含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】所期の特性を有する塗布膜を形成することができる加熱装置、塗布装置及び加熱方法を提供すること。
【解決手段】塗布膜を有する基板が配置される基板位置を前記塗布膜の膜厚方向に挟む第一加熱部及び第二加熱部と、前記基板位置と前記第一加熱部との第一距離、及び、前記基板位置と前記第二加熱部との第二距離、のうち少なくとも一方を調整する距離調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の浮上量の変動を抑制することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】第一気体供給経路及び第一吸引経路のうち少なくとも一方の経路の一部分には大気開放が可能な大気開放部が設けられているので、噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量のうち少なくとも一方の変化を緩和することが可能となる。これにより、基板の浮上量の変動を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有する［式中、Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の環式基であって、該環構造中に−ＳＯ_２−結合又は−Ｏ−ＳＯ_２−結合を有し、該−ＳＯ_２−結合又は−Ｏ−ＳＯ_２−結合に隣接しない１つ以上の炭素原子の置換基として酸素原子を有する。Ｑ^１は２価の連結基又は単結合であり、Ｙ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキレン基であり、Ａ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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