【課題】対象物までの距離測定における直線性の較正を高精度に行う。
【解決手段】予め設定された加工対象領域までの距離を変位センサから得られる変位量に基づいてレーザ光の焦点深度を調整して倣い制御を行いながらレーザ加工を行うレーザ加工装置に使用される前記変位センサの較正用治具において、前記変位センサから出射される計測用レーザ光の照射面は、水平面に対して所定の角度に傾斜するように形成される傾斜部と、前記レーザ加工装置における加工対象物を保持するために設けられたステージ上に載置するための水平な底部とを有し、前記傾斜部の表面は、光学ガラスで形成されていることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】成形品に不良が発生したり、キャビティ空間においてガスが発生したりすることがないようにする。
【解決手段】射出部材と、射出用の駆動部と、射出速度Ｓｄを検出する射出速度検出処理手段と、射出圧Ｓｐを検出する射出圧検出処理手段と、射出速度Ｓｄ及び射出圧Ｓｐに基づいて前記駆動部を駆動し、成形材料のキャビティ空間への充填を開始する前に圧力制御を行い、その後、速度制御を行う駆動制御処理手段とを有する。射出速度Ｓｄ及び射出圧Ｓｐに基づいて前記駆動部を駆動し、成形材料のキャビティ空間への充填を開始する前に圧力制御を行い、その後、速度制御を行うようになっているので、成形材料がキャビティ空間内に進入した後の、キャビティ空間内の圧力が安定し、圧力が均一になる。 （もっと読む）

【課題】本発明は往復移動する移動部材を支持する板ばね及びこれを有する冷凍機に関し、信頼性の向上及び延命化を図ることを課題とする。
【解決手段】シリンダー１７が取り付けられるハブ１２Ｄと、このハブ１２Ｄを取り囲むように設けられた円環状のリム１２Ｃと、このリム１２Ｃとハブ１２Ｄとを連結する複数の弾性アーム１２Ｂとを有する板ばねであって、前記ハブ１２Ｄの弾性アーム１２Ｂが接合される接合位置、及びリム１２Ｃの弾性アーム１２Ｂが接合される接合位置の少なくとも一方に、弾性アーム１２Ｂに沿うよう第１及び第２ばね４０Ａ，４０Ｂよりなる補助ばね４０を配設する。 （もっと読む）

【課題】樹脂供給装置における樹脂の供給量を安定させる。
【解決手段】出力を変化させることによって樹脂の供給量を調整する機能及び前記樹脂を所定の場所に搬送・供給する機能の双方の機能を有する樹脂供給量制御手段１１０と、樹脂供給量制御手段１１０により供給される樹脂の樹脂量を計量可能な電子天秤１１２とを備えた樹脂供給装置１００であって、樹脂供給量制御手段１１０により供給される樹脂の最終目標値Ａｅに対して段階的にｎ個（ｎ＝１以上の整数）の手前目標値Ａを設定し、樹脂の供給量が手前目標値Ａを超えた場合に、樹脂供給量制御手段１１０の出力を所定の変数に応じて比例的に低減させる。 （もっと読む）

【課題】基板保持装置及びレーザアニール装置に関し、異物により基板の裏面に傷が発生することを防止可能な基板保持装置及びレーザアニール装置を提供する。
【解決手段】基板保持板１１と、基板保持板１１に設けられ、基板１５を吸着する複数の第１吸着孔１８と、基板保持板１１に設けられ、基板保持板１１の上面１１Ａの上方に基板１５を持ち上げる複数のリフトアップピン１３と、を備えた基板保持装置１０であって、第１吸着孔１８の形成位置に対応する部分の基板保持板１１の上面１１Ａに、第１吸着孔１８と連結される第１貫通孔２３を有した第１突出部１２を設け、第１突出部１２により基板１５を保持した。 （もっと読む）

【課題】 アニール対象物のレーザビーム入射位置の溶融部分の深さを、非接触で計測する技術を提供する。
【解決手段】 レーザ光源(1)が、ステージ(10)に保持されたアニール対象物をアニールするためのアニール用レーザビームを出射する。他のレーザ光源(37)が、測定用レーザビームを出射する。合流分離器(5)が、アニール用レーザビームと、測定用レーザビームとを、共通の第１の経路に合流させる。さらに、アニール対象物で反射し、第１の経路を反対向きに伝搬する測定用レーザビームの反射光を、アニール用レーザ光源から第１の経路に至るまでのアニール用レーザビームの経路とは異なる経路に沿って伝搬させる。光検出器(41)が、アニール対象物で反射し、合流分離器を経由した測定用レーザビームの反射光の強度を測定する。制御装置(3)が、光検出器で検出された反射光の強度の時間変化に基づいて、アニール対象物が一時的に溶融した部分の深さを算出する。 （もっと読む）

【課題】
回転型ステージを用い、設置場所の面積利用効率が高く、均一なレーザアニール処理を行なえるレーザアニール装置を提供する。
【解決手段】
レーザアニール装置は、回転軸の周りに回転する回転ステージに向かうレーザビームを、第１、第２の半径方向辺と、前記第１、第２の半径方向辺の間を結ぶ第１の半径距離における第１の円弧と、第２の半径距離における第２の円弧とで画定される開口を備えたマスクを用いて整形し、マスクの開口の像を前記回転ステージ上の被処理対象物上に結像する。 （もっと読む）

【課題】予備電離開始タイミングを早め、かつ予備電離強度を高くすることで、より効率のよい安定した放電を実現する。
【解決手段】中空状の絶縁管と、前記絶縁管内に配されるワイヤ電極とを備え、前記ワイヤ電極に高電圧パルスを印加することで放電を発生させ、主放電空間に予備電離を発生させる予備電離電極において、前記絶縁管の表面に前記絶縁管の絶縁材料とは異なる誘電率及び電子放出性が高い絶縁材料からなる絶縁層を溶射により形成し、前記絶縁層が形成された絶縁管の軸は、主放電電極の長手方向に沿って延びるように主放電空間の側方に設けることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 出射光を高いコントラストで切り替えることのできるレーザ照射装置を提供する。
【解決手段】 入射するレーザビームを、第１の方向に出射させる透過状態と、第１の方向には出射させない非透過状態とが切り替わるが、非透過状態においても、一部の漏れ光が第１の方向に出射される第１の光学素子と、第１の方向に出射されたレーザビームを、第２の方向に出射させる透過状態と、第２の方向には出射させない非透過状態とが切り替わるが、非透過状態においても、一部の漏れ光が第２の方向に出射される第２の光学素子と、第２の光学素子から第２の方向に出射されたレーザビームが照射される位置に被照射物を保持する保持手段と、第１の光学素子及び第２の光学素子の各々の透過状態と非透過状態とを切り替える制御を行う制御装置とを有するレーザ照射装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】
アモルファスＳｉ等の半導体膜のアニール領域を接続して広い面積を均一に多結晶化できるレーザアニール方法ないしレーザアニール装置を提供する。
【解決手段】
レーザアニール方法は、（ａ）基板上に形成した半導体膜を仮想的に所定幅の複数の領域に分割し、各領域で長尺レーザビームを幅方向に走査して基板上の半導体膜を溶融、結晶化する工程と、（ｂ）隣接する領域の境界領域を長尺ビームより短い短尺レーザビームを幅方向に走査して溶融、再結晶化する工程と、を含む。 （もっと読む）