【課題】化学増幅型レジストとして好適に使用できかつ保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１−１）または一般式（１−２）で表される酸発生剤と、（Ｂ）下記一般式（２）で表される酸拡散抑制剤と、（Ｃ）共重合体と、を含む感放射線性樹脂組成物である。
〔一般式（１−１）および（１−２）において、Ｒ^１はアルキル基等、Ｍ^＋は１価のカチオンを示す。Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂは相互に独立に有機基等Ｙは２価の有機基等を示す。一般式（２）において、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はアルキル基等である。〕
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【課題】安価で、低抵抗かつ高精細のパターンを形成することができる感光性ペースト組成物を提供すること。
【解決手段】アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）、ならびにＡｌ、ＬｉおよびＭｇから選択される金属を含有する有機金属化合物（Ｇ）を含むことを特徴とする感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】スピンコート法の実施条件を変更することにより、膜厚が大きく異なる樹脂膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位を有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、および（Ｃ）２０℃、１気圧での飽和蒸気圧が３．０ｍｍＨｇ以下のエチレングリコール系有機溶媒を含む有機溶媒類を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用組成物から気体の発生を抑制する手段を提供すること。
【解決手段】樹脂成分と溶剤とを含む液浸露光用組成物をフィルタで濾過する工程Ａと、液浸露光用組成物の溶存気体を脱気する工程Ｂと、工程Ａ及び工程Ｂを終えた後に液浸露光用組成物を充填する工程Ｃと、を有する液浸露光用組成物の製造方法の提供による。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、研磨速度が高く、被研磨面の平坦性（被研磨面における研磨量の面内均一性）に優れ、かつ、スクラッチの少ない化学機械研磨パッドおよび該研磨パッドを用いた化学機械研磨方法を提供する。
【解決手段】
本発明の化学機械研磨パッドは、（Ａ）成分；エチレン−（メタ）アクリル酸系共重合体を１００質量部と、（Ｂ）成分；エポキシ樹脂と、（Ｃ）成分；水溶性粒子を５〜１２０質量部と、を含む研磨層を有し、前記研磨層は前記（Ａ）成分の（メタ）アクリル酸に由来する繰り返し単位１．０モルに対し、エポキシ基含有量が０．１〜１．０モルに相当する前記（Ｂ）成分を配合して製造される。 （もっと読む）

【課題】
カラーフィルター製造工程で該フィルター上に発生する異物や突起を安定して高研磨レートで除去でき、なおかつ高い研磨面品位を得ることができるカラーフィルター研磨用パッド、およびそのカラーフィルター研磨用パッドを用いたカラーフィルター研磨方法を提供する。
【解決手段】
本発明の前記課題は、第一に、（Ａ）炭素−炭素二重結合を有するポリウレタンと、（Ｂ）架橋剤を含むカラーフィルター研磨用パッド形成用組成物によって達成される。さらに、前記（Ａ）ポリウレタンが、ビニル基（ＣＨ_２＝ＣＨ−）およびアリル基（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−）から選ばれる１種以上を側鎖に有することによって達成される。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用樹脂に対する熱履歴を少なくすることができ、且つフォトレジスト用樹脂溶液を効率良く製造できるフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】本フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、重合性化合物を重合させることにより、レジスト用樹脂を含有する樹脂溶液を調製する工程と、樹脂溶液に含まれる樹脂を再沈殿により精製し、スラリーを得る工程と、スラリーを濾過し、洗浄溶剤を用いて洗浄することにより湿粉を得る工程と、恒率乾燥領域内で湿粉を乾燥して乾燥物を得る工程と、乾燥物を再溶解し、洗浄溶剤をフォトレジスト用溶剤に置換する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高温条件下で成形加工しても、熱分解による発煙や、酸化劣化による着色などがなくまたは少ない樹脂組成物およびその樹脂成形品の提供。
【解決手段】樹脂組成物は、環状ポリオレフィン系樹脂と、（１）ビフェニル基の両端と結合した特定のジホスホナイト化合物、（２）フェノールプロピレン基と結合した特定のモノホスファイト化合物から選ばれたリン系酸化防止剤とを含有する。 （もっと読む）

【課題】通常の圧力条件下においても銅膜および低誘電率絶縁膜に欠陥を引き起こすことなく、銅膜に対する高研磨速度および高研磨選択性を有し、かつ、ウエハの金属汚染の少ない化学機械研磨用水系分散体、ならびにこれを用いた化学機械研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る化学機械研磨用水系分散体は、（Ａ）シリカ粒子と、（Ｂ）有機酸と、（Ｃ）重量平均分子量が１万以上１５０万以下のルイス塩基としての性質を有する水溶性高分子と、を含有する銅膜を研磨するための化学機械研磨用水系分散体であって、前記（Ａ）シリカ粒子は、下記の化学的性質を有することを特徴とする。
^２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナル面積から算出されるシラノール基数が、２．０〜３．０×１０^２１個／ｇである。 （もっと読む）

【課題】はんだリフロー工程等の高温条件下でもパッケージ基材からの剥離等が発生しない硬化体を与える光半導体封止用重合体およびその製造方法を提供すること、およびｍｍ単位の膜厚を有する硬化体を形成した場合でも十分な硬化性とクラック耐性とを併せ持つ光半導体封止用重合体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】下記（ｉ）（ｉｉ）工程を含む、重量平均分子量が１０００〜１０００００の範囲にある光半導体封止用重合体の製造方法。（ｉ）特定の構造を有するエポキシ基含有アルコキシシラン（Ａ）と、重量平均分子量が３００〜５０００の範囲にあるヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサン（Ｂ）とを塩基性化合物または金属キレート化合物の存在下反応させる工程、（ｉｉ）工程（ｉ）で得られた生成物を塩基性化合物および金属キレート化合物から選ばれる少なくとも一種の存在下、水と反応させる工程。 （もっと読む）