説明

三菱マテリアルポリシリコン株式会社により出願された特許

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【課題】 多結晶シリコンの製造に用いるシリコンシード等の棒状芯材について、その任意の長さに亘って、芯材の断面を丸形や角形に容易に加工することができる加工方法と加工装置、および加工したシリコンシードを提供する。
【解決手段】 回転砥石10の外周面に棒状芯材の外径に対応する溝状の研磨部が形成されている加工装置を用い、該溝部分11を棒状芯材の側面に押し当てて研削することによって、該棒状芯材の断面を上記溝部分11に対応する形状に成形することを特徴とする加工方法および加工装置であって、例えば、回転砥石外周の溝状研磨部が丸溝、多角形の溝、またはV字形の溝であり、該棒状芯材の断面を上記溝部分11に対応する丸形、多角形、またはV字形に成形する加工方法および加工装置。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコンの製造反応炉に設置された電極まわりの液滴の流下を阻止し、液滴の析出と堆積による短絡を防止する。
【解決手段】多結晶シリコンの製造反応炉に設置された電極に板材を装着し、該板材が電極まわりに張り出すように設けることを特徴とする電極の短絡防止方法、および、側方に開口する凹部を有する板材によって形成されており、該凹部が電極の軸まわりに装入されることによって該板材が電極まわりに張り出して装着され、電極まわりの液滴の流下を阻止することを特徴とする電極の短絡防止板。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコンの原料となる三塩化シランについて、ホウ素等の不純物を効果的に分離除去し、かつ不純物除去剤による汚染の問題を生じる虞もない精製効果に優れた精製方法を提供する。
【手段】 金属シリコンに塩酸ガスを反応させて生成した三塩化シランを精製する工程において、該三塩化シランを含む混合流体を蒸留装置に導いて塩化シラン系ポリマーと接触させ、三塩化シランを蒸留させて精製する一方、上記混合流体に含まれる低沸点不純物を上記ポリマーに取り込ませて蒸留残として三塩化シランから分離し、上記ポリマーと共に系外に除去することを特徴とする三塩化シランの精製方法。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコンロッドを均一に洗浄し、前槽の洗浄液の持ち込みが少なく、洗浄効果に優れた洗浄方法と洗浄装置を提供する。
【手段】多結晶シリコンを切断して得たロッドをバスケットに収納し、該バスケットを洗浄槽に浸漬して上記ロッドを洗浄する方法において、洗浄槽内で上記バスケットの片側を上下動して該バスケットを傾動することによって、バスケット内部のロッドを揺動ないし回転させて酸洗浄や純水洗浄を行い、あるいは上記バスケットの底部にロッドが脱落しない大きさの開口を設ける一方、バスケットを載置する支持台の上面に上記開口部を通じてロッドを回転する手段を設け、洗浄槽内で上記バスケット内部のロッドを強制回転させて酸洗浄や純水洗浄を行うことを特徴とする洗浄方法および装置。 (もっと読む)


【課題】原料の落下による坩堝の破損を防止することが可能な原料供給装置を提供する。
【解決手段】原料供給装置20は円筒状のフィーダ21を備え、チャンバ2の開口部3aにフィーダ21を挿通する。フィーダ21は、チャンバ2の上部からワイヤ23により吊下げられており、上下方向に昇降可能である。そのため、ピース25を供給する際に、フィーダ21の先端は坩堝5の近くまで移動することが可能である。また、フィーダ21は、ピース25の汚染を防ぐとともに、高熱に耐えることができるように石英で構成されている。フィーダ21の内部には、そのフィーダ21の内径より若干小さい径の円板状のピース25が複数積層された状態で装填されている。フィーダ21には投入機構が配設されており、その投入機構によりピース25を1つずつ坩堝5内の融液に投入する。 (もっと読む)


【課題】 アニール処理を不要としたカットロッドの加工方法を提供する。
【解決手段】 多結晶シリコンロッドの外周部分または外周部分の一部を取り除き、残した中央部分に加工を施すことを特徴とする加工方法であって、好ましくは、直径の10〜60%に相当する外周部分を研削して取り除いた後に溝加工などを施す加工方法およびこの加工を施した多結晶シリコンロッド。 (もっと読む)


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