【課題】高い分解能および処理の高速化が実現可能な視覚装置を提供する。
【解決手段】物体に対して照射した光の反射光を受光することによって当該物体との距離を測定する視覚装置であり、光源、光学素子、および受光部を備える。光学素子は、光源から発せられる光を反射する反射面の方向を変化させることによって、当該光が照射する方向を主走査方向に走査移動させる。受光部は、光学素子が照射した光が物体に照射された場合、当該物体の表面で反射した散乱光の少なくとも一部を受光する。光源は、複数の発光素子および発光制御部を含む。複数の発光素子は、互いに離間して設けられ、光学素子が有する反射面に向けてそれぞれ光を発する。発光制御部は、複数の発光素子のうち１つを順次発光させる。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット方式の画像記録装置においてエア浮上モジュールを使用した場合にも、エア浮上モジュールにインキが付着することがないインクジェット画像記録装置を提供すること。
【解決手段】 インクジェット画像記録装置は、エア浮上モジュール１１、１２により基板を浮上させた状態で一方向に搬送するエア浮上搬送機構と、このエア浮上搬送機構により搬送される基板の上方からインクを吐出してインクジェット方式で画像を記録する画像記録部２０とを備える。画像記録部２０と対向する領域においては、複数個のエア浮上モジュール１２は、基板の搬送方向に対してインクジェットヘッド２１と同方向に交差する方向で、かつ、各インクジェットヘッド２１と対向しない位置に配設されている。 （もっと読む）

【課題】シートフィルム上に薄膜を形成する薄膜形成システムおよび薄膜形成方法において、多数枚のシートフィルムを連続して処理するのに適した技術を提供する。
【解決手段】フィルムカセットから取り出したシートフィルムＦに対し、塗布ユニット３４内で薄膜材料を塗布するとともに上部リングＲupおよび下部リングＲdwにより挟み込む。形成されたリング体ＲＦは乾燥ユニット３６を経て転写ユニット３５に送る。基板Ｗを基板カセット１１から取り出し反転ユニット３１でフェースダウン状態として転写ユニット３５に搬入しシートフィルムＦ上の薄膜を転写する。剥離ユニット１０ではリングＲup,Ｒdwを取り外し、シートフィルムＦを基板Ｗから剥離する。取り外したリングＲup,Ｒdwは再び塗布ユニット３４に搬入し新たなリング体ＲＦの形成に使用する。 （もっと読む）

【課題】ノズルの保護部材を設けた場合において、塗布不良の発生を効果的に抑制する技術を提供する。
【解決手段】スリットノズル４１の前方端面４１２から離間距離Ｄ１分離れた位置に、保護部材６０を配置する。保護部材６０は、接続部材６１を介してスリットノズル４１に固定される。保護部材６０、接続部材６１およびスリットノズル４１は、ボルト部材６２により一体的に連結可能であり、このボルト部材６２を着脱することで、接続部材６１が着脱自在となっている。また、離間距離Ｄ１は、接続部材６１のＸ方向の長さを変えることにより調整可能であり、離間距離Ｄ１の値は、塗布速度に応じて設定される。このように、離間距離Ｄ１を設けた分、吐出口４１１と基板９０との間に形成されるレジスト液ＲＧの液面が、離間空間Ｓ１を通過する気流により乱されることを効果的に抑制できる。 （もっと読む）

【課題】検査対象領域における印刷の検査を迅速かつ高精度に行う。
【解決手段】印刷装置では、検査対象領域８０１の搬送方向の範囲を示す目印８０５が元画像に追加された印刷データに基づいて印刷が行われ、印刷結果画像から検査対象領域８０１を含む検査画像８４が目印８０５に基づいて取得されて検査対象領域８０１における印刷の検査が行われる。このように、印刷結果画像全体を元画像と比較することなく、印刷結果画像の一部である検査画像８４のみを元画像と比較することにより、検査対象領域８０１における印刷の検査を迅速に行うことができる。また、検査対象領域８０１の搬送方向の範囲を示す目印８０５に基づいて検査画像８４の取得が行われることにより、印刷媒体の伸縮等が生じている場合であっても、検査対象領域８０１の全体を高精度に検査画像８４に含めることができ、検査対象領域８０１における印刷の検査を高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】マスクの交換や洗浄の頻度を低減させ、それにより、パターン描画装置の生産能力を向上させることができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】このパターン描画装置では、マスクＭ上に形成された８組のパターン群Ｇａ１〜Ｇｄ２の中に、同一の形状を有して互いに代替可能なパターン群（Ｇａ１とＧａ２，Ｇｂ１とＧｂ２，Ｇｃ１とＧｃ２，Ｇｄ１とＧｄ２）が含まれている。そして、マスク移動機構３２２ａを動作させることにより、これらのパターン群のいずれに対してパルス光ＰＬを照射するかを選択することができる。このため、あるパターン群に汚れまたは欠陥が発生した場合にも、マスクＭ自体を交換または洗浄することなく、同一の形状を有する他のパターン群を使用して描画処理を行うことができる。従って、マスクＭの交換や洗浄の頻度を低減させることができ、その結果、パターン描画装置の生産能力を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】対象物上に形成された膜の膜厚測定において、複数の測定点における膜厚を迅速に求める。
【解決手段】膜厚測定装置１では、光学定数が既知である膜９２について、複数の検査波長に対応する複数の反射特性が予め記憶されており、検査波長を切り替えつつ膜９２を撮像することにより取得された複数の検査波長に対応する複数の検査画像と上記複数の反射特性に基づいて、膜厚演算部７３により、膜９２上の各測定点における複数の検査画像の複数の画素値と、各膜厚における複数の反射特性が示す複数の理論反射率との一致度に基づいて各測定点における膜厚が求められる。したがって、測定点数が増加した場合であっても膜厚演算部７３による演算量が僅かに増加するだけであり、基板９上の複数の測定点における膜厚を迅速に求めることができる。その結果、基板９上における広い範囲の膜厚分布が高精度かつ高分解能にて取得される。 （もっと読む）

【課題】エッジ効果による線状図形要素の幅の増大を補正し、トナー画像における線状図形要素の幅を所望の幅とする。
【解決手段】画像形成装置１のデータ補正部７２では、元パターンデータの線状図形要素に対し、線状図形要素のエッジ部の各画素と各画素に最も近接する離間画素（すなわち、各画素を中心とする周囲の所定領域内において図形要素に含まれる画素であって、かつ、各画素との間に図形要素に含まれない背景画素が存在する画素）との間の距離に基づいて線状図形要素を細らせることにより補正済パターンデータが生成される。そして、補正済パターンデータに基づいて感光体３１２上に形成された静電潜像が現像され、形成されたトナー画像が対象物９に転写される。これにより、エッジ効果による線状図形要素の幅の増大を補正し、対象物９上のトナー画像における線状図形要素の幅を所望の幅とすることができる。 （もっと読む）

【課題】フッ素系溶剤を主成分とする溶剤を基板表面から除去して当該基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、基板表面に水滴が付着するのを防止して乾燥性能を高める。
【解決手段】ＩＰＡ液で覆われた基板表面ＷｆにＨＦＥ液を供給してＩＰＡ液をＨＦＥ液で置換して基板表面Ｗｆの全部がＨＦＥ液で覆われた後に、高温窒素ガスが基板裏面Ｗｂに供給されて基板Ｗが加熱されるとともに、基板表面ＷｆからＨＦＥ液が除去される。この基板加熱は、乾燥処理（除去処理）によってＨＦＥ液が基板表面Ｗｆから全部除去されるまで継続される。このように乾燥処理の間、基板裏面Ｗｂに高温窒素ガスを供給して基板Ｗを加熱しているため、仮に基板の周辺に多量の水蒸気成分が存在していたとしても、基板表面Ｗｆに水滴は付着することなく、基板Ｗを確実に乾燥することができる。 （もっと読む）

【課題】フラッシュ光照射時における保持プレートの変色を防止することができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】ホットプレート７１の上面に石英のサセプタ７２が載置され、そのサセプタ７２の上面に半導体ウェハーＷが載置される。ホットプレート７１およびサセプタ７２の直径は半導体ウェハーＷの直径よりも大きい。半導体ウェハーＷよりも外側のサセプタ７２の周縁部には遮光リング７５が載置される。遮光リング７５は、ホットプレート７１の上面のうち半導体ウェハーＷによって覆われる領域よりも外側の円環状領域を覆う。これにより、ホットプレート７１の上面のほぼ全面が半導体ウェハーＷおよび遮光リング７５によってフラッシュランプＦＬのフラッシュ光から遮光される。その結果、フラッシュ光が照射されたときに、ホットプレート７１の酸化による変色が防止される。 （もっと読む）