【課題】 永久透明感光性レジストを現像処理した際に、現像液に使用されている現像液成分が感光性レジスト膜の表層に浸透、もしくは感光性レジスト膜表面に付着し、付着した現像液成分は、純水によるリンス工程でも十分除去出来ておらず、加熱工程での着色要因となっているので、これを解決し、透明性に優れる感光性レジスト膜を提供しうる現像後の洗浄処理方法を提供すること。
【解決手段】 感光性レジストのパターニング工程において、露光及び現像処理した感光性レジスト膜に対して、酸性水溶液を供給して洗浄処理を行う工程を有する、透明永久膜の洗浄処理方法。
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エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、１，３−ジヒドロキシ−２−プロパノン又は１価若しくは２価のカルボン酸と水酸基を有する１級又は２級の有機アミンとの反応物、必要により有機アミン、並びに、水溶性有機溶剤及び／又は水、を含有するフォトレジスト剥離用組成物であって、フォトレジストを高性能で除去でき、しかも金属配線材料の腐食を防止でき、なおかつ、剥離後の水リンス時に不純物が析出して基板などに再付着することがないフォトレジスト剥離用組成物を提供する。 （もっと読む）

重合性組成物を、下記式（１）で表されるフルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレートで構成する。重合性組成物は、重合開始剤（光重合開始剤など）やポリシランを含んでいてもよい。
【化１】


（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは置換基を示し、Ｒ^３ａおよびＲ^３ｂはアルキレン基を示し、Ｒ^４ａおよびＲ^４ｂは水素原子又はメチル基を示す。ｋ１及びｋ２は０〜４の整数を示し、ｍ１及びｍ２は０〜３の整数を示し、ｎ１およびｎ２は０又は１以上の整数を示し、ｐ１およびｐ２は２〜４の整数を示す。ただし、ｍ１＋ｐ１及びｍ２＋ｐ２は、２〜５の整数である） （もっと読む）