【目的】アルミニウム反射膜を大きな成膜速度で形成することができるスパッタリング成膜法を改良して、ＰＭＭＡ基板の面に対するアルミニウム反射膜の密着力を高くかつ一定に制御する手段を提供する。
【構成】真空中でプラスチックス基板に対向する電極に電力を供給してグロー放電させることにより該基板の表面を改質する第１工程と、ヘリウムを含有しない不活性ガス雰囲気中で該基板の表面に対してアルミニウム又はアルミニウム合金膜をスパッタリング成膜する第２工程と、ヘリウム含有不活性ガス雰囲気中で該基板の表面に対してアルミニウム又はアルミニウム合金膜をスパッタリング成膜する第３工程と、ヘリウムを含有しない不活性ガス雰囲気中で該基板の表面に対してアルミニウム又はアルミニウム合金膜をスパッタリング成膜する第４工程とを順に実施して光学反射膜を形成する。 （もっと読む）