説明

イーエム マイクロエレクトロニック−マリン エスエーにより出願された特許

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【課題】 第1材料の表皮層を含む基板から第1材料製の部品をエッチングで製造する方法を提供する。
【解決手段】 本発明の方法は、(A)第1材料の表皮層の表面上に、第2材料の均一な表皮層を形成するステップと、前記第2材料は、第1材料の選択的エッチングに耐性があり、(B)前記第2材料の表皮層の周囲に、第2材料のビードを形成するステップと、(C)前記第2材料の表皮層とビードを、標準の光リソグラフ・プロセスにより構造化するステップと、この光リソグラフ・プロセスは、前記第2材料の表皮層はその全体厚さにわたって十分にエッチングするが、前記ビードはその全体厚さにわたって十分にはエッチングせず、かくして、前記第1材料の表皮層まで伸びる第2材料の酸化物マスクを形成し、(D) 第1材料の部品を、前記第2材料の酸化物マスクを介して、方向性エッチングにより、切り出すステップとを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、入力端末と出力端末と共振器と発振器回路とを有する発振器を提供する。
【解決手段】本発明の発振器回路は、第1電力供給端子と第2の電力供給端子と、前記第1電力供給端子と入力端末との間に接続される2個のキャパシタと、第1電力供給端子と出力端末との間に接続される第1活性トランジスタと、前記第1活性トランジスタを極性化する第1手段と、前記第1活性トランジスタに対し相補型の第2活性トランジスタと、その電流パスは、第1活性トランジスタ(N1)と直列に接続され、それと共に反転増幅器を形成し、前記第2活性トランジスタを極性化する第2極性化手段と、第2活性トランジスタと同型のトランジスタであり、前記第2電源端末と第2活性トランジスタとの間に配置される第1電流源と、前記第2極性化手段用の電流制御手段とを有し、安定動作状態において、前記第2極性化手段は、前記第1電流源のトランジスタ・ゲート電圧に対応する第2活性トランジスタのゲートに、所定の変動範囲内の極性化電圧を提供する。 (もっと読む)


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