説明

株式会社ジェイ・イー・ティにより出願された特許

1 - 4 / 4



Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189

【課題】シリコン基板表面にテクスチャを均一に形成することができる太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】フッ化水素酸を含有する第1の水溶液に前記シリコン基板2を浸漬し、前記シリコン基板2表面の自然酸化膜を除去するステップと、前記金属イオンを含有する第2の水溶液に、前記自然酸化膜を除去した前記シリコン基板2を浸漬し、無電解めっきにより前記金属イオンを前記シリコン基板2表面に付着させるステップと、フッ化水素酸と過酸化水素水を含有する第3の水溶液に、前記金属イオンを付着させた前記シリコン基板2を浸漬し、前記金属イオンの触媒反応により前記シリコン基板2表面に多孔質層3を形成するステップとを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ハウジングの天井面などに処理液や蒸気などが付着しない枚葉式の基板処理装置を提供する。
【解決手段】ハウジング1と、前記ハウジング1内に基板3を保持する保持手段2と、前記基板3の処理面3aに対して処理液を供給する供給手段8と、前記ハウジング1内に気体を取り込む取り込み口1aと、前記ハウジング1内の処理液の蒸気を当該ハウジング1から排出する排出口1cとを備え、前記保持手段2は前記処理面3aを前記ハウジング1の底部1bに向けて前記基板3を保持し、前記取り込み口1aから前記排出口1cへ向かう気流を形成し、前記気流によって処理液の蒸気を当該ハウジング1から排出することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、被処理基板に略均一に乾燥流体を供給するようにして乾燥不良をなくし、薬液・洗浄処理及び乾燥処理の一連の処理を効率的に行なえる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 洗浄槽3と、その上方に設けた乾燥室6との間にシャッター部材8を設けるとともに、シャッター部材8の略中央部に乾燥流体を排出させるための排気口9を形成し、上記乾燥室6の上部には、両側壁の対向する面のそれぞれに乾燥流体を噴射する噴射ノズル15a,15bを設け、これら噴射ノズルに設けた複数の噴射口を互いに対向させ、これら噴射口から水平方向に噴射させた乾燥流体を上記乾燥室6の上方中央部で衝突させてから排気口9に導いて、下方に向かう乾燥流体の流れを形成する。 (もっと読む)


1 - 4 / 4