説明

株式会社リンテックにより出願された特許

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【課題】気化効率に優れる気化器を提供する。
【解決手段】液体原料L或いは液体原料LとキャリアガスGとの混合ガスLGを加熱するためのヒーター50が埋め込まれた円形の気化室形成用孔38を有するアウターブロック14aと、液体原料L或いは液体原料LとキャリアガスGとの混合ガスLGを加熱するためのヒーター42が埋め込まれ、気化室形成用孔38よりもわずかに直径の小さい円筒形のインナーブロック40と、気化室形成用孔38とインナーブロック40とで構成される気化流路44に液体原料L或いは液体原料LとキャリアガスGとの混合ガスLGを導入する導入孔14cと、該気化流路44から気化された液体原料ガスV或いは気化された液体原料ガスVとキャリアガスGとの混合ガスVGを排出する導出孔14eがアウターブロック14aに形成されている。 (もっと読む)


【課題】CVD装置等に用いる液体原料を安定して気化器に供給することのできる液体原料供給装置を提供する。
【解決手段】液体原料供給装置10は、入口41と出口42とを有し、入口41から与えられた液体原料LMの流量を制御するとともに、所定量の液体原料LMを出口42から吐出する液体原料流量制御バルブ12、気化器24と液体原料流量制御バルブ12との間に配設され、出口42から吐出された液体原料LMを気化器24へ与える原料供給管54、および出口42の近傍において原料供給管54に連通され、原料供給管54へキャリアーガスCGを与えるキャリアーガス導入管94を備えている。そして、液体原料流量制御バルブ12は、原料供給管54を介して気化器24から離隔して配設され、原料供給管54内の液体原料LMは、キャリアーガスCGによって気化器24へ圧送される。 (もっと読む)


【課題】CVD装置での成膜に供する液体原料を低温度で気化できる気化器を提供する。
【解決手段】気化器(10)は、ヒータ(66)、(76)、及び(81)により加熱された気化室(60)と、気化室(60)の下端部に配置され、ヒータ(81)により加熱された一次フィルタ(80)と、流量調節された液体原料(LM)を気化室(60)の上方から一次フィルタ(80)に向けて滴下する液体原料供給部(24)と、キャリアガス(CG)を一次フィルタ(80)の下面へ導くキャリアガス導入路(78)と、キャリアガス(CG)及び気化された液体原料(VM)との混合ガス(VM+CG)を気化室(60)の上部から排出する原料導出路(62)とを備える。一次フィルタ(80)に滴下された液体原料(LM)は、一部が気化され、更に下方向からのキャリアガス(CG)によるバブリング作用を受けてミスト状となる。ミストの表面積が非ミスト状態と比較して大きいので、液体原料(LM)は効率良く熱を受ける事ができ、低温度で液体原料(LM)を気化する事ができる。 (もっと読む)


【課題】 装置を不所望に大型化させることなく未気化状態の液体原料が次工程のCVD装置に供給されるのを防止できる気化器を提供する。
【解決手段】 液体原料LMを加熱して気化させる気化室62を有する気化部26と、気化室62内に液体原料LMを供給する液体原料供給部24とを備える気化器10,10'において、気化部26には、一端が気化室62に連通され、他端が気化原料排出口74に連通される未気化液体原料気化用流路80が気化室62の周囲を取り囲むように螺旋状に形成されている。
この発明によれば、気化室62内の気化原料VMを長経路で加熱された未気化液体原料気化用流路80内に通流させてから気化原料排出口74に送り出すようにしているので、気化室62から送出される混合ガスVM+CG中に未気化の液体原料LMが混入している場合であっても、これを未気化液体原料気化用流路80内にて完全に気化させることができ、リアクター16に未気化の液体原料LMが供給されることはない。 (もっと読む)


【課題】 液体原料を迅速かつ確実に気化させることができ、液体原料の流量制御における応答性を高めることができ、しかも、気化ガス流量の安定性を著しく高めることができる、気化器を提供する。
【解決手段】 気化器10では、流量制御バルブ24の出口近傍においてガス流路22が液体流路20に接続されているので、流量制御バルブ24を出た直後の液体原料にキャリアガスを合流させることができ、このキャリアガスによって液体原料を瞬時に気化室18へ搬送することができる。また、液体流路20の気化室18側の端部20bが気化室18の内壁18aの接線方向へ延びて形成されているので、気化室18へ供給された液体原料とキャリアガスとの混合物(ミスト)を、内壁18aに沿って螺旋状に回しながら流すことができ、ヒータ28によって加熱された内壁18aの熱を液体原料に十分に伝えることができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、従来の気化装置では対応できなかった問題点、すなわちキャリアガスを極力小流量にするか、或いはキャリアガス・フリーを達成でき、しかも様々な供給量に1台で対応することが出来る新規な気化装置を提供するにある。

【解決手段】 液体原料供給部(1A)から供給された液体原料(L)を加熱して気化させる気化装置(A)の気化部(1B)の気化構造であって、
気化部(1B)内に気化ブロック(2)が収納され、前記気化ブロック(2)との間に間隙(d)が設けられている気化室(3)が形成されており、
気化室(3)の内周面或いは気化ブロック(2)の外周面の少なくともいずれか一方に、気化室に入り込んだ液体原料の流下用の螺旋溝(4)が形成されていることを特徴とする。
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【課題】 有機モノマーを飽和蒸気圧の大きい高温で効率良く気化させるとともに得られた有機モノマーガスのプラズマ重合反応により有機高分子膜を高真空中で高速成長する。
【解決手段】 液体ジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテン(DVS−BCB)モノマーをキャリアガスと混合した後、高温に保持された減圧気化室に噴霧して有機モノマーの液体微粒子からなるエアロゾルを形成し、該エアロゾルを介してBCBモノマー(有機モノマー)を瞬時に気化させてBCBモノマーガス(有機モノマーガス)を発生させる。これによって、比表面積の大きいエアロゾルは気化面積が大きく、高温加熱しても重合反応が生じる前に気化が生じるため、飽和蒸気圧の大きい200℃での0.1g/min以上のBCBモノマーガスが可能となり、プラズマ重合BCB膜を従来の5倍以上の高速成膜が可能となる。 (もっと読む)


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