【課題】円筒容器内部の底面および側面に付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去して、これら底面および側面を共に効率良く清掃できるようにする。
【解決手段】開口部Ｄｈが斜め下方に指向した状態で支持され、長手方向軸線Ｌｄを中心にして所定方向に回転させられる円筒容器Ｄに対して、底面用ブレード３０と側面用ブレード４０円筒容器Ｄ内部の所定位置まで前進させ、底面用ブレード３０を円筒容器Ｄの内部底面Ｄｂに押し当てた状態で円筒容器Ｄが所定回数回転した後に、側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに押し当てた状態と円筒容器Ｄの回転状態とを維持しながら、前記側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに沿って後退させることにより、円筒容器Ｄ内部の底面Ｄｂおよび側面Ｄｓに付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去する。 （もっと読む）

【課題】打錠機から取り外した複数の杵を洗浄する装置の小型化を図り、装置の大型化を招かず、汚れの落ちにくい杵の先端面を十分に洗浄できる打錠機の杵洗浄装置を提供する。
【解決手段】垂直軸回りに回転する円板状の回転体14,15からなり、外周部に杵１００をその先端を上向きにして取り外し可能に保持する保持部を設け、該保持部を周方向に沿って等ピッチに配した杵保持回転テーブル２を１間欠回転で複数の前記保持部に相当する角度を回転移動させると、昇降体２７が降下し、蒸気ノズル２１が臨む蒸気噴気室３２内に収容された杵１００の先端に蒸気を噴気し、同時にエアノズル２２が臨むエア噴気室３３内に収容された蒸気洗浄済みの杵の先端に圧縮空気を噴気して乾燥させる。この動作を複数回繰り返すことで、全ての杵の先端洗浄と乾燥処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 連続的に搬送されてくる個々の容器内部を衛生的かつ有効に洗浄し、引き続き水切り乾燥まで連続的に行なうことができる容器の連続洗浄装置の提供。
【解決手段】 容器を洗浄室内へ受け入れる受け入れコンベアと、該受け入れコンベアにより洗浄室内で受け入れられた容器を、その受け入れコンベアと共に洗浄位置まで上昇させ、さらには洗浄後の容器を受け入れコンベアと共に初期位置へ降下させる昇降機構と、該昇降機構の動作で上記コンベアと共に洗浄位置まで上昇された容器を、その両側方から挟持しながら、天地逆に反転するクランプ反転機構と、該クランプ反転機構により反転された容器の内外面を湯洗及びリンス洗浄する洗浄機構と、該洗浄機構による洗浄が終了された容器の内面及び外面の水切りを行なうエアブロー機構を有する。 （もっと読む）