【課題】より再現性よく安定してエッチング対象物の特定の局所的な特定の領域のみをプラズマエッチング加工することが可能なプラズマエッチング技術を提供する。
【解決手段】吸引型かつドライエッチング型のプラズマエッチング装置は、エッチング対象物2を固定し、三次元方向に移動可能なステージ3と、一方の端部が、ステージ3に固定されたエッチング対象物2に対向して設置されるプラズマ発生管8と、プラズマ発生用電源10と、このプラズマ発生用電源10に接続され、プラズマ発生管8の外側と内側に配置される一対のプラズマ発生用電極9と、プラズマ発生管の他方の端部に連結される排気管を有する排気装置11,12とを備え、プラズマ発生管8両端の圧力および圧力差、プラズマの発光並びにプラズマ中に含まれる反応生成物の種類とその量のうちの少なくともいずれかを計測する計測手段と、該計測手段からの情報に基づきプラズマの発生状態を制御するコンピュータ14を有する。 （もっと読む）

【課題】吸引型のプラズマガン搭載型プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法を提供する。
【解決手段】キャピラリー３とプラズマ発生用電極４を具備したプラズマガン２のキャピラリー先端部６が密閉容器１内に配設されてなり、前記プラズマガン２の密閉容器１外にある端部には排気装置７が連結されており、また、前記密閉容器１にはガス導入部８が設けられており、該ガス導入部８には反応性原料ガス供給ユニット９が連結されている。 （もっと読む）

【課題】顕微鏡付吸引型局所マイクロプラズマエッチング装置および局所マイクロプラズマエッチング方法を提供する。
【構成】試料台と、ガス導入部が設けられている真空容器と、キャピラリー管とＲＦマイクロ波発振用電極を具備したプラズマガンと、顕微鏡と、試料台を具備する試料ステージとを有する吸引型局所マイクロプラズマエッチング装置であって、前記試料ステージは真空容器内にあり、前記キャピラリー管の先端部は真空容器内に凸設され、後部端部は真空容器外に存在して排気装置が連結されており、前記顕微鏡鏡頭は真空容器内に凸設され、前記ガス導入部から真空容器内に導入されたプラズマ用反応性原料ガスをキャピラリー管の先端部から吸引するようにしたことを特徴とする顕微鏡付吸引型局所マイクロプラズマエッチング装置である。 （もっと読む）

【課題】マイクロマニピュレーション装置において、プローブと顕体試料の電気的接触を効率的にかつ迅速、正確に行なうための方法および装置の提供。
【解決手段】走査型電子顕微鏡画像を観察しながら顕体試料の電気的微細作業を行なうマイクロマニピュレーション装置において、プローブへ交流電圧を印加した状態で、該プローブ先端の顕体試料表面作業点への針当てを走査型電子顕微鏡視野下で行ない、交流電圧の影響による走査型電子顕微鏡の画像の変化を認識することにより、プローブと顕体試料との電気的接触を検出する方法およびその装置。 （もっと読む）

【課題】顕微鏡観察画像視野下で顕体試料とマイクロプローブの針先を観察しながら、半導体集積回路などの多層微細配線深層部へダイレクトに電気的特性の測定を行ない不良箇所の解析を行なうにおいて、絶縁膜を効率的に除去し、測定対象箇所へのプローブの移動と位置決めを効率的に行ない、同時に操作性および確実性に優れた微細作業を行なうことのできるマニピュレーション装置の提供
【構成】局所プラズマ機構、および該局所プラズマ機構の先端部であるプラズマキャピラリー管を把持するプラズマキャピラリー管位置決めステージ、試料ステージおよび１つまたはそれ以上のプローバがプローバベース上に載置され、該プローバベースが顕微鏡の視野下に着脱自在に装着できる構造を有することを特徴とする顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置である。 （もっと読む）

【課題】 極めて微細かつ精緻な顕体試料の観察のみならず、オペレーターが顕微鏡の画像を観察しながら、電気的測定、さらには電気的超微細加工を、円滑かつ確実に行なうことを可能とするデュアルプローブを載置した電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置の提供。
【解決手段】 Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向への駆動及びＴ軸および／またはＲ軸の回転が各々独立に可能な1つ又は2つ以上のマニピュレータユニットにメインプローブ１１とそれに接合するサブプローブ１２よりなるデュアルプローブ１０を載置することを特徴とする電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置である。 （もっと読む）