【課題】
熱膨張係数の異なる材質の積層構造で、ミラー製造時の温度差に起因する歪による表面形状の加工誤差と、ナノ集光作業時の設置環境条件に起因する歪による表面形状の誤差を解消し、ｎｍオーダーの形状精度を実現し、Ｘ線ビームを理想波面に変更し、また焦点距離可変な反射面形状制御ミラー装置を提供する。
【解決手段】
基板１の表面中央部に帯状のＸ線反射面２を形成し、Ｘ線反射面の両側に沿って基準平面３を形成し、基板の両側部で少なくとも表裏一面に複数の圧電素子４をＸ線反射面の長手方向に並べて基板に接合した反射面形状制御ミラーと、各圧電素子に電圧を印加する多チャンネルのコントロールシステムとからなる。 （もっと読む）

【課題】
ナイフエッジを用いて回折Ｘ線と透過Ｘ線を利用して高精度なＸ線ビームプロファイルの計測を行うことができる暗視野計測法において、一つのナイフエッジを用いて異なる波長のＸ線の計測に対応でき、またＸ線ビームの焦点深度やその他の計測装置の条件に応じて最適な計測を行うことが可能なＸ線ナノビーム強度分布の精密測定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】
ナイフエッジ４は、それを透過するＸ線の位相を進める作用を有する重金属で長手方向に厚さを連続的又は段階的に変化させて作製するとともに、透過Ｘ線と該ナイフエッジの先端で回折した回折Ｘ線とが強め合う範囲の位相シフトが得られる厚さ位置でＸ線ビームを横切るように設定し、回折Ｘ線と透過Ｘ線とが重ね合わさったＸ線をＸ線検出器で測定する。 （もっと読む）

【課題】
ワイヤースキャン法のバックグラウンドノイズと微分によってノイズが強調される問題点を克服し、より高精度なＸ線ビームプロファイル計測を行うことが可能なＸ線ナノビーム強度分布の精密測定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】
Ｘ線ビームを横切るようにナイフエッジを走査するとともに、ナイフエッジの背後でＸ線源に対して幾何学的暗部となる位置に配置したＸ線検出器でＸ線強度を測定する暗視野計測法を用い、Ｘ線ビームの断面におけるＸ線強度分布を測定するＸ線ナノビーム強度分布の精密測定方法であって、ナイフエッジは、それを透過するＸ線の位相を進める作用を有する重金属で作製するとともに、透過Ｘ線と該ナイフエッジの先端で回折した回折Ｘ線とが強め合う範囲の位相シフトが得られる厚さに設定し、回折Ｘ線と透過Ｘ線とが重ね合わさったＸ線をＸ線検出器で測定する。 （もっと読む）

【課題】 放射光施設で用いられる硬Ｘ線から軟Ｘ線を集光させるため長尺の曲面ミラーを、ナノ若しくはサブナノオーダーの精度で超精密に測定することができ、特に一方向に長い領域における楕円形状や円筒形状のＸ線ミラーの全体形状を測定できる超精密形状測定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】 フィゾー型干渉計で、その参照面の直径よりも長い被測定物の被測定面全体の部分形状データと、隣接する部分形状データ間の相対角度を取得した後、各部分形状データを相対角度と重合領域の一致度を利用してスティッチング処理を施して全体形状を測定すべく、被測定物１と基準平面ミラー３とをフィゾー型干渉計の参照面２に対して略平行に並べるとともに、被測定物を主傾斜ステージ上にＸステージを介して保持し、基準平面ミラーを主傾斜ステージ上に設けた副傾斜ステージ上に保持した配置とした。 （もっと読む）

【課題】 ＲＷＶを用いた回転培養技術をもとに細胞播種、培養液交換、品質管理等を自動化したＧＭＰ対応のＣＰＣ不要のシステムを構築することが可能な自動細胞培養装置を提供する。
【解決手段】 密閉筐体内に、水平な回転軸１４を有する円筒形培養容器２に、細胞液投入口１１と、培養液交換用の供給口１２と排出口１３とが設けられた回転培養装置を備え、供給口と排出口は対となって培養容器の外周円筒面で回転中心に対して互に１８０°の回転角度離れた位置に設け、供給口と排出口を鉛直線上に配置し且つ供給口を上に位置させた状態で、供給口に新しい培養液が入った供給シリンジ４を気密状態で挿脱し、排出口に空の排出シリンジ５を気密状態で挿脱するシリンジ移動手段と、供給シリンジのピストンを押し込むと同時に、排出シリンジのピストンを引き抜く操作を行うピストン駆動手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 従来のキャップに代わる新しいキャップを遠心管やＴフラスコに装着することにより、キャップ自体の着脱をしなくとも開閉可能であり、開いた状態で開口部からノズルを差し込み、内溶液の分取分注作業を行なうことが可能なキャップを提供する。
【解決手段】 遠心管２やＴフラスコの投入口に装着するキャップ１であって、投入口に気密状態で螺着又は嵌着することが可能な開口部７を備えたキャップ本体５と、キャップ本体の開口部を開閉する蓋６とを備え、更に蓋でキャップ本体の開口部を閉止した状態で蓋を開口部に一定の力で押し付ける弾性付勢手段９と、蓋と開口部を密着させるシールと、蓋を開閉するために該蓋と連係させて設けた操作部１１とからなる。 （もっと読む）

【課題】 波動光学理論に基づく位相回復法を利用し、実際の評価で使用する硬Ｘ線を用いてミラーにより集光された集光ビームの強度分布を用いることで、ミラー上の位相誤差分布、即ち、形状誤差を求めるＸ線波面計測法を提案し、それを利用してＸ線集光光学系を最適に調節する位相回復法を用いたＸ線集光方法及びその装置を提案する。
【解決手段】 反射Ｘ線の波面を微調節可能な波面調節能を有するＸ線ミラーを備え、焦点近傍でのＸ線強度分布を測定し、Ｘ線ミラー近傍でのＸ線強度分布を測定し若しくは入射Ｘ線の既知のＸ線強度分布を用い、焦点近傍でのＸ線強度分布と反射面近傍でのＸ線強度分布から位相回復法を用いて反射面での複素振幅分布を算出し、この複素振幅分布からＸ線集光光学系の波面収差を算出し、この算出した波面収差を最小にするように波面調節能にてＸ線ミラーの反射面を制御する。 （もっと読む）

【課題】機械的強度が高く、熱的安定性に優れた基材と電鋳層とを強固に一体化し、マスター型からの離型時に転写面に歪を生じさせず、また離型後の転写面を高精度に形状を維持することが可能な電鋳法による超精密部品の製造方法を提供する。
【解決手段】超精密な反転形状のマスター型１を準備するマスター型準備工程と、マスター型の表面に導電層２を形成する導電層形成工程と、導電層の上に所定厚さの金属の電鋳層３を形成する第１電鋳工程と、電鋳層の上に電気絶縁性で透水性を有する多孔質基材４を密着若しくは接近させて配置する多孔質基材セット工程と、電鋳層から多孔質基材の孔内まで連続して電鋳を成長させて、電鋳層と多孔質基材を一体化する第２電鋳工程と、マスター型から離型して導電層からなる超精密形状転写面を表面に有する超精密部品６を得る離型工程とよりなる。 （もっと読む）

【課題】硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を集光し、あるいはＸ線の光路を変更するための超高精度なＸ線ミラー若しくはＸ線光学素子の姿勢、特にＸ線の入射角度を１μｒａｄ以下で一定に保つことが可能なＸ線ミラーの高精度姿勢制御法を提供する。
【解決手段】光源Ｏと集光点Ｆを焦点とする楕円形状の反射面からなる集光面帯７が形成された縦方向集光ミラー５と横方向集光ミラーを互に垂直に配置したＫ−Ｂミラー配置とし、各集光ミラーの集光面帯の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面９，１０でフレネルミラーをそれぞれ構成し、集光面帯による集光ビームに影響されない位置で各集光ミラーのフレネルミラーによる干渉縞１３を別々にモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号を各集光ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用する。 （もっと読む）

【課題】放射光施設で用いられる硬Ｘ線、軟Ｘ線を集光させるためＸ線集光装置であって、大きな開口数（ＮＡ）を有するＫ−Ｂミラーのアライメントを高精度且つ迅速に行うことが可能なミラーマニピュレータを備え、集光スポットが１００ｎｍ以下の高い空間分解能を達成することが可能なＸ線集光装置を提供する。
【解決手段】光源と集光点を焦点とする楕円の形状が作り込まれた２枚の全反射ミラーからなる第１ミラー１と第２ミラー２を互に垂直に配置したＫ−Ｂミラー配置とし、２本の平行なレーザービームの一方を、水平に配した第１ミラーに垂直に入射し、他方を垂直に配した第２ミラーに９０°方向を変換して垂直に入射し、両ミラーからの反射ビームが入射ビームと重なるように調節する。 （もっと読む）