説明

株式会社アルファ・オイコスにより出願された特許

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【課題】従来の縦型加熱炉に用いる発熱線はその収納溝から飛び出したり、垂れ落ちる欠点があり、また、縦型加熱炉はそのメンテナンスに問題があった。
【解決手段】本発明のコイル状ヒータは、セラミック棒と、このセラミック棒にらせん状に巻き付け固定したセラミック線と、このセラミック線の各ターン間に形成されるらせん溝と、このらせん溝に沿って巻き付けたコイル状発熱線とより成る。本発明の縦型加熱炉は、円筒状炉壁と、この炉壁内面に円周方向に互いに離間して縦に設けた複数の上記コイル状ヒータとより成る。 (もっと読む)


【課題】従来の加熱炉においては、蛇行状ヒータエレメントの湾曲部を炉壁用断熱材に固定しているため、加熱中のヒータエレメントの膨脹及び冷却中の収縮による歪みがヒータエレメントに蓄積し、そのため長期亘って使用しているとヒータエレメントがこれを配置した溝内から飛び出したり、ヒータエレメント同士が接触したり、ヒータエレメントが炉内の被加熱物に接触したり、熱疲労によりヒータエレメントが破断してしまうという欠点があった。
【解決手段】本発明の高温用加熱炉は、炉壁用断熱材と、この断熱材の炉芯側面に上下方向に互いに離間して多段に配置した、夫々上下端で蛇行状に折れ曲がるヒータエレメントと、上記各段のヒータエレメントの左右に隣接する直線部分を互いに連結する、上記断熱材に固定されていない耐熱・絶縁性スペーサと、上記各段のヒータエレメントを吊下する固定具とより成ることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の蛇行状ヒータエレメントは、800℃〜1200℃の高温で長期間に亘り繰り返し使用した場合、線膨張による膨張と冷却による歪みが繰り返し湾曲部2に集中し、この部分から亀裂が発生し、破断するおそれがあった。
【解決手段】本発明のセラミックファイバーヒータ用ヒータエレメントは、湾曲部と直線部とを有し、上記直線部の断面形状が円形であり、上記湾曲部の断面形状が略矩形であることを特徴とする。また、セラミックファイバーヒータ用ヒータエレメントの製造方法は、断面形状が円形である発熱線を折り曲げ、湾曲部と直線部とよりなる蛇行状ヒータエレメントを形成せしめる工程と、上記ヒータエレメントの湾曲部を加熱・加圧してその断面形状を略矩形とする工程とよりなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の加熱炉においては、蛇行状ヒータエレメントの湾曲部を炉壁用断熱材に固定しているため、加熱中のヒータエレメントの膨脹及び冷却中の収縮による歪みがヒータエレメントに蓄積し、そのため長期亘って使用しているとヒータエレメントがこれを配置した溝内から飛び出したり、ヒータエレメント同士が接触したり、ヒータエレメントが炉内の被加熱物に接触したり、熱疲労によりヒータエレメントが破断してしまうという欠点があった。
【解決手段】本発明の高温用加熱炉は、炉壁用断熱材と、この断熱材の炉芯側面に上下方向に互いに離間して多段に配置した、夫々上下端で蛇行状に折れ曲がるヒータエレメントと、上下に隣接する上記ヒータエレメントの互いに対向する蛇行部分を連結する、上記断熱材に固定されていない耐熱・絶縁性フックと、上記ヒータエレメントの最上段のものを吊下する手段とより成ることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の加熱炉は、波形に形成した発熱体を炉壁に設けた溝内に配置し、上記発熱体の波高部を上記溝の両側壁に埋め込むことにより、上記発熱体を炉壁に固定せしめていたので、発熱体の加熱膨張・収縮により上記発熱体が溝から飛び出し、発熱体同士が接触したりしてしまう欠点があった。
【解決手段】本発明加熱炉は、炉壁と、上記炉壁内面に設けた発熱体収納溝と、上記発熱体収納溝内に配置せしめた波形に形成した発熱体と、上記溝の炉壁内面側開口の一部を塞ぐ枠体とよりなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の流体加熱ヒーターは加熱効率の向上に限度があり、また高温において強度が低下する欠点があった。
【解決手段】本発明の流体加熱装置は、一端に流体流入口を有し、他端に流体流出口を有する筒状パイプと、この筒状パイプ内に軸方向に延びるように配置した両端開口のハニカム構造体と、このハニカム構造体内に軸方向に延びるように配置したシースヒータとより成り、上記ハニカム構造体は互いにその外周面を接触せしめた複数のセルより成ることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来のプレートヒータでは、大面積のものでは重量が大きくなるとともに、反り、たわみが発生し、熱効率が悪い欠点があった。
【解決手段】本発明のプレートヒータは、互いに重ねられた複数枚の金属プレートと、互いに対向する2枚の金属プレートの間に介挿された多角断面形状の複数の金属パイプヒータから成り、上記各金属プレートが上記金属パイプヒータに接する面に絶縁被覆を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】波形に形成した発熱体を炉壁に設けた溝内に配置し、発熱体の端子部を炉壁に固定し、上記発熱体の波高部を上記溝の両側壁に埋め込むことにより、上記発熱体を炉壁に固定する発熱体の固定方法では、発熱体の加熱膨張・収縮により上記発熱体が溝から飛び出し、発熱体同士が接触したりしてしまう欠点がある。
【解決手段】炉壁1と、上記炉壁内面に設けた発熱体収納溝2と、上記発熱体収納溝2内に配置せしめた波形に形成した発熱体3と、上記炉壁1に設けた、上記発熱体3の端子部4を貫通せしめる貫通孔9とよりなり、上記貫通孔9が上記発熱体収納溝2の延びる方向に大きく延びる空隙とする。また、発熱体収納溝2の下側には上記発熱体3の波形端部収納溝8を有する。 (もっと読む)


【課題】従来のレーザ加熱装置では、レーザ出射面積は、発振器を構成するスタック形状を投影した形状に近いものとなり、しかも、同一出力のレーザダイオードバーを積層していることから被加熱物の中央部分の温度が最も高く、周辺が低くなる傾向にあった。特に、半導体基板は円形基板が使用され、直径で300mmにも及ぶ大面積を照射することもあるから、基板全体温度を均一化させることが極めて重要となり、従来のように同一出力、同一サイズのレーザバーを縦横に積層しただけでは、均一温度を得ることは困難であった。
【解決手段】本発明のレーザ加熱装置は、レーザダイオードバーが全体として、円形に近くなるように縦横に複数段積層配列し、その中心部に配置されるレーザバー出力を円周部より小さくする。 (もっと読む)


【課題】従来の基板加熱装置においては高温において基板全体の温度分布を均一にすることが困難であった。
【解決手段】本発明の基板加熱装置は、気密チャンバーと、この気密チャンバーの一側に設けた、レーザ光を透過せしめるレーザ光透過窓と、上記気密チャンバーの他側に設けた、赤外線を透過せしめる赤外線透過窓と、上記レーザ光透過窓と上記赤外線透過窓との間で、上記気密チャンバー内に順次に設けた均熱板及び加熱すべき基板と、上記均熱板にレーザ光を照射して、間接的に上記基板を加熱する基板加熱手段と、上記赤外線透過窓を介して上記基板の温度を測定する赤外線放射温度計とよりなる基板加熱装置において、上記均熱板として黒色陽極酸化処理したインコネルを使用し、レーザ照射面側に上記均熱板の黒色陽極酸化処理面を向け、上記均熱板に上記基板をネジで固定することを特徴とする。 (もっと読む)


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