【課題】シリコンを原料とする水素の製造を、後処理に手間を要する副生成物を伴わずに、高い回収率にて連続して行わせ得る水素製造装置を提供する。
【解決手段】密閉可能な反応容器１又は２の内部に、水タンクＴ₁ 内の水を供給して所定の圧力にまで昇圧させると共に、ヒータ10又は20により加熱して亜臨界状態としておき、この反応容器１又は２に、スラリータンクＴ₂ 内のシリコンスラリーをスラリーポンプ31の動作により送り込み、反応容器１又は２の内部に亜臨界状態の水とシリコンとの接触反応により水素を発生させ、水素送出管４を経て高圧分離器５に導入して水蒸気を分離させ、回収管50を経て蓄圧器６に回収する。 （もっと読む）

【課題】 従来、ＣＭＰ等の機械的加工により発生する排水は、ＣＭＰスラリーに含まれる砥粒が微粒子であるためにコロイド溶液となり、有効な濾過装置がなかった。
【解決手段】 本発明では、コロイド溶液の微粒子を含む排水をタンク５０に導入し、排水を循環させて第１のフィルタ１の表面に吸引により形成されるゲル膜の第２のフィルタ２を用いて濾過する濾過装置を提供する。このときの吸引圧力は極めて微弱にして、第２のフィルタ２の目詰まりを延ばしながら濾過能力を維持している。更に第１のフィルタ１の表面に吸着される第２のフィルタ２のゲル膜は吸引を停止することで容易に離脱でき、タンク５０底部に貯まったゲルの濃縮スラリーを回収可能な濾過装置を実現した。 （もっと読む）