【課題】コントラストを向上させた荷電ビーム装置を提供する。
【解決手段】試料を検査する荷電粒子ビーム装置は、一次荷電粒子ビーム（７）を発生させる荷電粒子ビーム源（５）と、一次荷電粒子ビームを試料（３）上に差し向ける対物レンズ装置（40，45）と、試料から飛び出た二次荷電粒子を加速する減速界型装置と、中央開口（16）を備えていて、二次粒子を検出する少なくとも２つの方位検出器セグメントを含む第１の検出器装置（15，150）とを有し、対物レンズ装置は、試料からの飛び出し角度の異なる粒子が対物レンズと検出器装置との間で試料から実質的に同一距離のところにクロスオーバを呈するよう構成され、対物レンズとクロスオーバ（90）との間に設けられたアパーチュア（100）が検出器装置（15）の中央開口よりも小さい開口を有する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム装置の分解能を高める。
【解決手段】荷電粒子ビームを光軸に沿って放出するエミッタ組立体が提供される。ガンチャンバ（２０）内に収納されたエミッタ組立体は、エミッタ先端部（１５）を備えたエミッタ（５）を含み、エミッタ先端部は、光軸に垂直な第１の平面のところに位置決めされ、エミッタは、第１の電位まで付勢されるよう構成され、エミッタ組立体は、開口部を備えたエクストラクタ（１１２）を更に有し、開口部は、光軸に垂直な第２の平面のところに位置決めされ、エクストラクタは、第２の電位まで付勢されるよう構成され、第２の平面は、第１の平面から２．２５ｍｍ以上の第１の距離を有する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームのスループット向上のための共通磁界による複数レンズを構成する方法において、磁界の非対称成分を補償して良好な分解能を得る。
【解決手段】複数レンズを構成するレンズシステム１は、第１ポールピース、第２ポールピース、及び荷電粒子ビームの夫々用の複数のレンズ開口部１６、及び、夫々のレンズ開口部へ第１磁束を供給する共通励磁コイル２０と、レンズ開口部１６間に配置される補償コイル３０を備え、夫々のレンズ開口部の少なくとも一部に第２磁束を供給して第１磁束の非対称性を補償する。 （もっと読む）

【課題】所望の信号対ノイズ比で高いスループットを達成するために、高い電子ビーム強度をもった電子ビーム装置を得ることが求められる。
【解決手段】一次電子ビーム101を放出するビームエミッター102と、試料130上に一次電子ビーム101の焦点を合わせる対物電子レンズ125であって、該レンズは光軸126を定める、対物電子レンズと、一次電子ビーム101から信号電子ビーム135を分離するための一次分散を備えたビームセパレータ115と、二次分散を備えた分散補償素子104であって、該分散補償素子は、前記二次分散が前記一次分散を十分に補うように、前記分散補償素子104の下流の一次ビーム101の傾斜角とは独立して、前記二次分散を調節するのに適しており、前記分散補償素子104は、前記一次電子ビーム101に沿って、前記ビームセパレータ115の上流に配置される、分散補償素子（104,204）と、を含む電子ビーム装置100。 （もっと読む）

【課題】導入される収差を減少させると共にスループットを増大させる荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置用のコラム（１）が開示される。コラムは、一次荷電粒子ビーム源として一次荷電粒子ビームを放出する荷電粒子ビームエミッタ（２）と、２つの仮想源が作られるように一次荷電粒子ビームに作用するようになったバイプリズム（６）と、荷電粒子ビームを２つの仮想源の像に対応した試料（８）の２つの位置に同時に集束させるようになった荷電粒子ビーム光学系（１０）とを有する。 （もっと読む）

【課題】試料の観察および加工を可能にする単一カラムのイオンビーム装置を提供する。
【解決手段】ガス電界イオン源から引き出されたイオンビームを集束させて試料２４に照射し、試料を加工および観察する集束イオンビーム装置であって、前記イオン源はイオンを生成するエミッタチップ１３と、これを加熱する加熱手段１５と、第１のガスおよび少なくとも１つの第２のガスを導入するガス導入口１１０，１１２と、何れかのガスのイオンビームを生成するために第１のエミッタチップ温度と第２のエミッタチップ温度とを切り替えるコントローラ１７２とを備える。前記第１のガスは軽いガスであり、観察モード用に用いられ、前記少なくとも１つの第２のガスは重いガス（不活性ガス、反応ガス）であり、スパッタリングモード用（不活性ガスの場合）、または反応モード用（反応ガスの場合）に用いられる。 （もっと読む）

【課題】負及び正に荷電された粒子を同時に検出するための装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明によれば、荷電粒子ビーム装置に使用する検出装置は、正及び負に荷電された二次粒子を分離する分離フィールドを発生する分離フィールド発生部分２２０と、正に荷電された粒子を検出する第１検出器２１２と、負に荷電された粒子を検出する第２検出器２１４とを備え、正に荷電された二次粒子を第１検出器で且つ負に荷電された二次粒子を第２検出器で同時に検出する。更に、負及び正に荷電された粒子を同時に検出する本発明の方法は、分離フィールドを用意し、第１と第２の検出器を用意し、分離フィールドにおいて負に荷電された粒子を正に荷電された粒子から分離し、正に荷電された粒子を第１検出器で且つ負に荷電された粒子を第２検出器で同時に検出することを含む。 （もっと読む）

【課題】より簡易な構成な集束イオンビーム装置及びその動作方法を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置が記載されている。集束イオンビーム装置は、イオンを生成するためのエミッタ領域を備えるガス電界イオン源エミッタを収容するための筐体を含むイオンビームカラムと、ガス電界イオン源エミッタからイオンを引き出すための電極と、第１のガスおよび第２のガスをエミッタ領域へ取り込むため適合した１個以上のガス入口と、第１のガスまたは第２のガスから生成されたイオンビームを集束させるための対物レンズと、電極とガス電界イオン源エミッタとの間に電圧を供給するための電圧源と、第１のガスのイオンのイオンビームまたは第２のガスのイオンのイオンビームを生成するための電圧源の第１の電圧と第２の電圧とを切り替えるコントローラとを含む。 （もっと読む）

【課題】高速かつ頻繁なビーム電流測定を提供することが可能である荷電粒子ビーム装置及び方法を提供する。
【解決手段】 荷電粒子ビーム装置が記載されている。荷電粒子ビーム装置は、１次荷電粒子ビームを放射するために適合したエミッタと、２次および／または後方散乱荷電粒子が１次荷電粒子ビームの衝突時に放出される試料を保持するために適合した試料場所と、２次粒子および／または２次粒子を検出するために適合した検出ユニットと、１次荷電粒子ビームを検出ユニットに衝突させるため１次荷電粒子ビームを検出ユニットへガイドするために適合したビームガイドユニットとを含む。 （もっと読む）

【課題】高分解能でかつ撮像中に試料の損傷をできるだけ少なくできるイオンビーム顕微鏡を実現する方法を提供する。
【解決手段】ガスフィールドイオン源からイオンビームを放出するステップ２０２と、最終的なビームエネルギーよりも高いイオンビームエネルギーをイオンビームカラム内に供給するステップ３０２と、イオンビームが試料に衝突するときに、１ｋｅＶ〜４ｋｅＶの最終的なビームエネルギーを供給するためにイオンビームを減速するステップ２０４と、試料を撮像するステップ２０６とを含む。 （もっと読む）