本発明は、水素ガスの製造装置および方法に関するものである。本発明の水素ガス製造装置は、ａ）誘電性中空管；ｂ）前記誘電性中空管を減圧に維持するための手段；ｃ）マイクロ波を発生するマイクロ波源；ｄ）前記マイクロ波を前記誘電性中空管に印加するマイクロ波源に連結される導波管；ｅ）前記誘電性中空管に供給される水素元素含有ガスは前記導波管からのマイクロ波によりプラズマ放電されて、プラズマ放電によって生じる電子の水素元素含有ガスとの衝突によって、熱分解ではなくむしろ分子内結合切断により水素ガスを含む反応生成物を生成する、水素元素含有ガスを前記誘電性中空管に供給するガス供給源；およびｆ）水素ガスを前記反応生成物から分離するセパレータを有する。本水素ガス製造装置は、簡単な構造を有し、簡単にかつ効率的に少量の水素ガスを製造する。
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固体塊から固体元素のプラズマを生成する方法及び前記方法に使用されるプラズマソースを提供する。本発明の方法は、加速された粒子またはレーザーを内部でスパッタリングが遂行する第１チェンバー内の固体塊と衝突させて前記固体塊から固体原子を取り出すこと、前記固体原子を内部でプラズマ放電が遂行される第2チェンバーに移動させること、前記第２チェンバーに電圧を印加してプラズマ放電によって固体原子のプラズマを生成すること、及び前記固体原子のプラズマを、処理すべきターゲットに接触させることを含む。本発明は固体元素を含むガスを固体元素ソースとして使用する従来システムで発生する不純物とガスの毒性による問題点を解消する。
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本発明は、中性粒子ビーム処理装置に関するものである。より詳細には、本発明はプラズマ放電を通じて処理ガスをプラズマに転換させるプラズマ放電空間、プラズマイオンと衝突して前記プラズマイオンを中性粒子に変換させる重金属板、プラズマイオン及び電子の通過は妨害して前記重金属板と前記プラズマイオンの衝突によって生成された中性粒子は通過させるプラズマリミッター及び表面処理を要する基板を収納する処理室含む。ここで、前記プラズマ放電空間は前記重金属板と前記プラズマリミッターの間にサンドイッチされたことを特徴とする中性粒子ビーム処理装置に関するものである。
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誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を使用する光線分割増幅レーザーで、各ビームの位相を制御して、それらの相対位相を“０”にする装置及び方法を提供する。位相共役鏡から反射されたレーザービームの位相差を“０”にする過程は、前記位相共役鏡から反射されるレーザービーム１０４’、．．．、１１４’、１２４’を光経路コンバーター１３１、１３２を通じて光感知機１５０に入射させる第１段階と、前記反射レーザービーム中から一つ１０４’を基準レーザービームとして、それを他の反射レーザービーム１１４’と干渉させる第２段階と、前記干渉結果を感知して、二つのレーザービーム１０４’、１１４’の位相差が“０”になるように圧電素子１０９、１１９を微細駆動して反射板１０８、１１８、１２８の位置を制御する第３段階と、を含む。
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