【課題】マウントによって光学素子ができるだけ安定かつできるだけ低応力な状態で固定されるようにする。
【解決手段】光学素子１２は、コンプライアントな支持部２２ａ、２２ｂ、２２ｃを介してマウント１６に固定される。支持部２２ａ、２２ｂ、２２ｃは、第１のスプリングストラット２６と、第２のスプリングストラット２８と、光学素子１２が接触点３２にて固定される接触領域３０とを有するスプリングストラット配列２４を有し、第１、第２のスプリングストラット２６，２８は第１の端部３４，３６を介して接触領域３０に、及び接触領域３０から遠い第２の端部３８，４０を介してマウントの外縁部４２に、それぞれ連結されている。第１、第２のスプリングストラット２６，２８は、接触領域３０の同じ側にてコンプライアンスの方向において隔てられて接触領域３０から延び、実質的に互いに平行である。 （もっと読む）

【課題】高熱負荷状態でのEUV波長域での使用に適した、反射光学素子を提供する。
【解決手段】本発明は、ＥＵＶシステムで用いる反射光学素子（１０）に関するものであり、少なくとも部分的には基板材から製造されるベース体（１）と、当該ベース体内に配置された、冷却媒体（７）が流れる少なくとも１つの冷却チャネル（６）とを備える。本発明では、５０W/mKよりも大きい熱伝導率を有する材料を基板材として備え、反射光学素子は、基板材に適用され、研磨加工可能なアモルファス材料を含む研磨層を備える。 （もっと読む）

【課題】 光学系、特に照明システム内に備えられる光学配置を提供することであり、高発光パワー密度においても、光学系内にて存在する熱を効率的に分散させることである。
【解決手段】光学系、特に照明光学系内の光学配置であって、
少なくとも一つの光学素子（１０１，２０１，３５２，３７０）と、光学素子（１０１，２０１，３５２，３７０）内で生成された熱エネルギーを少なくとも部分的には光学系の外部環境に放出させる、少なくとも一つの放熱素子（１２０，１３０，２２０，２２０’、３５１，３６０，３８０）と、を備え、放熱素子（１２０，１３０，２２０，２２０’、３５１，３６０，３８０）は、光学素子（１０１，２０１，３５２，３７０）と直接接触しないように配置される。 （もっと読む）

基板平面（１４）内に配置した基板を処理するための光ビームを生成する光学システムであって、光ビームは、光ビームの伝播方向（Ｚ）に対して垂直な第１次元（Ｘ）内のビーム長（Ｌ）と第１次元（Ｘ）及び光伝播方向（Ｚ）に対して垂直な第２次元（Ｙ）内の光ビーム幅（Ｂ）とを有する、光学システムは、第１次元及び第２次元の少なくとも一方における光ビームを相互に重畳して基板平面（１４）に入射する複数の光路（２４ａ〜２４ｃ）に分割する少なくとも１つの混合光学構成体（１８）を備える。少なくとも１つのコヒーレンスに影響する光学構成体が、光ビームのビーム経路内に存在し、少なくとも１つの他の光路からの１つの光路の少なくとも１つの光路間隔に関する光のコヒーレンス度を少なくとも低減するよう光ビームに作用する。 （もっと読む）

基板平面（１４）内に配置した基板を処理するための光ビームを生成する光学システムであって、光ビームは、光ビームの伝播方向（Ｚ）に対して垂直な第１次元（Ｘ）内のビーム長（Ｌ）と第１次元（Ｘ）及び光伝播方向（Ｚ）に対して垂直な第２次元（Ｙ）内の光ビーム幅（Ｂ）とを有し、ビーム長（Ｌ）はビーム幅（Ｂ）よりも大きい、光学システムは、複数の光チャネル（２６；２８）を画定する第１光学構成体を備え、複数の光チャネルは第１次元（Ｘ）内で相互に並んで配置されて第１次元（Ｘ）内の光ビームを複数の部分視野（３０，３２，３４）に分割し、部分視野（３０，３２，３４）記第１次元（Ｘ）内で相互に重畳して基板平面（１４）に入射する。第２光学構成体（２０）が、光伝播方向で第１光学構成体（１８）の上流に配置され、第２光学構成体の第１次元（Ｘ）内の範囲と、第１次元（Ｘ）内記第２光学構成体（１８）に入射する光ビームの角度スペクトルの広がりとは、第１次元（Ｘ）内の第２光学構成体（２０）のエテンデューが第１次元（Ｘ）内の光学システムの全エテンデューの５０％〜１００％となることで、記第１光学構成体（１８）の光チャネル（２６；２８）のほぼ全部が光で均一に照明されるようなものであることを特徴とする、光学システム。 （もっと読む）

レーザ光源（１０）のレーザビーム（１４）のスペクトルバンド幅（Δλ）を設定するための狭帯域化モジュール（１）であって、レーザビームの伝播方向に対して横方向にレーザビームを拡大するビーム拡大モジュール（１８）と、反射型回折格子とを備え、狭帯域化モジュールの第１コンポーネント（３２）を、狭帯域化モジュールの光軸に対して横方向の第１軸を中心とした円筒形部分を有する擾乱をレーザビームの波面に印加することができるよう構成した、狭帯域化モジュール。本発明によれば、第１光学コンポーネントは、第１軸と平行な旋回軸（３５、４３）を中心に旋回可能であるよう具現する。第１光学コンポーネント（３２）は、１つの軸に沿った波面収差を制御するよう旋回させる（４３）シリンドリカルレンズであり得る。バンド幅は、回折格子（２８）により制御され、シリンドリカルレンズはプリズム（４０）に組み込むことができる。 （もっと読む）

【課題】狭帯域光源、特に狭帯域化レーザのスペクトルを高分解能で測定可能にする。
【解決手段】狭帯域化レーザによって放射された光ビーム（６４）のスペクトルを測定するための分光計装置（１０）は１つのエタロン（１６）と光ビーム（６４）を第１の部分ビーム（６６）と第２の部分ビーム（６８）とに分けるビームスプリッタ（１８）と、ｎ及びｋは１以上の整数として第１の部分ビーム（６６）はエタロン（１６）を経てｎ回、第２の部分ビーム（６８）は（ｎ+ｋ）回指向させるための光指向素子（２０）と、光感知検出器（２２）と、検出器（２２）によって記録され、エタロン（１６）をｎ回通過した第１の部分ビーム（６６）とエタロン（１６）を（ｎ+ｋ）回通過した第２の部分ビーム（６８）とのスペクトルを評価してエタロン（１６）の装置関数に対して補正された光スペクトルを決定する、スペクトル評価デバイス（２８）とを有する。 （もっと読む）

本発明は、基板（３２）の照射面（３６）に細い照射線（３１）をつくりだす光学デバイスを含む大基板のレーザアニーリング用装置に関し、照射線（３１）がレーザ光線からつくりだされ、第１方向への広がりおよび第２方向への広がりのある断面を有し、第１方向への広がりが第２方向への広がりの倍数で大きく、走査デバイスが、基板の照射面の第１セクションを照射線で第２方向に走査するよう構成されている。本発明によると、装置は、第１セクション（３７）を走査した後に、基板（３２）を照射線（３１）に対して回転軸（３８）のまわりで１８０°回転させる回転装置を含み、その回転軸は照射面（３６）に垂直であり、走査デバイスは、基板（３２）の照射面（３６）の第１セクションに隣接した基板（３２）の照射面（３６）の第２セクションを、照射線（３１）で第２方向（ｙ）に走査するよう構成されている。
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少なくとも第１方向に角度分布を備える発散度を有する入射ビームを整形するための光学系が、少なくとも第１方向に角度分布を除去するための少なくとも１つの角度選択光学素子を備える。
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膜との相互作用のためにレーザービームを整形するためのシステム及び方法が開示され、レーザービームはビーム経路に沿って進行し、短軸と長軸を備えている。１態様において、システムは、ビーム経路に沿って膜から距離ｄ₁に配置されたエッジを有する第１の短軸要素と、ビーム経路に沿って膜から距離ｄ₂に配置されたエッジを有する第２の短軸要素とを含み、ｄ₂＜ｄ₁である。膜との相互作用のために短軸においてビームを合焦させるための光学系が第２の要素と膜との間でビーム経路に沿って配置される。別の態様において、システムは、短軸要素のエッジの一方又は両方の湾曲を選択的に調整するために動作する機構を有している。
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