説明

日本ビスマス株式会社により出願された特許

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【課題】金属、セラミックス、プラスチック、有機物等の物質を短時間で大量にナノ化できる超臨界装置を提供する。
【解決手段】圧力容器1の周囲に誘導コイル9、40を巻回し、この誘導コイル9、40に発振器17から135600Hzのプラズマ波を与えて圧力容器1内をプラズマ雰囲気とするとともに炭酸ガス供給ライン8の炭酸ガスを昇圧ポンプ7で200気圧以上にして炭酸ガスを超臨界領域として圧力容器1内に送り込み、これらの雰囲気内で処理すべき原材料m及びこの原材料mと協働する物質を処理し製造排出ライン34から取り出し、前記発振器17はコントローラによって発振タイミングがコントロールされ、前記圧力容器内1は温度コントロール装置2によって所定温度に維持される。 (もっと読む)


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