本発明の一実施例によれば、基板（たとえば基板を支持するための基板テーブルを備えたリソグラフィ装置内の基板）を露光する方法には、第１及び第２のセンサを使用して少なくとも１つの基板の一部の第１及び第２の高さ測定を実行するステップと、測値の差に基づいてオフセット誤差マップを作成し、且つ、記憶するステップと、第１のセンサを使用して高さ測定を実行することによって、前記基板（又は前記部分と類似した処理が施された他の基板）の複数の部分のハイト・マップを作成して記憶し、且つ、オフセット誤差マップによってこのハイト・マップを修正するステップと、前記基板（又は他の基板）を露光するステップが含まれている。
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リソグラフィ装置の少なくとも２つの部材を接合するための方法が開示される。この方法は、第１の部材１を提供するステップと、第２の部材２を提供するステップと、第１の部材と第２の部材とを直接結合して、直接結合を形成するステップと、第１の部材と第２の部材とを陽極結合するステップとを含む。部材の少なくとも１つが、超低膨張ガラスおよび／または超低膨張ガラス・セラミックスを含む。
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リソグラフィ装置が開示される。このリソグラフィ装置は、放射ビームのビーム光路に配置されるフラット物品に対して放射ビームを照射する照射系と、物品の配置または取外しの間に物品を操作する物品操作装置とを含む。この物品操作装置は、物品を静電的にクランプする静電式クランプを形成するために、電極および誘電層を含む。
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センサ構造１０を使用して、基板を処理するようになされた装置の特性、例えば光学特性を測定することができる。センサ構造は、集積回路として提供された複数のセンサ・エレメント２をその中に有する基板１を備えており、複数のセンサ・エレメントの各々は、センサ・エレメントに接続された処理回路６と、処理回路に接続された入／出力インターフェース８と、電源ユニット９とを備えた電子回路に結合されている。電源ユニット９は、複数のセンサ・エレメントのうちの使用中の１つ又は複数のセンサ・エレメントと結合している電子回路にのみ動作電力を供給するようになされている。少なくとも１つのセンサ・エレメント２及び場合によっては処理エレクトロニクス４、入／出力インターフェース８及び／又は電源ユニット９は、１つ又は複数の集積回路として、或いは他の構造として基板１の中に提供することができる。
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リソグラフィ投影装置が開示される。この装置は、パターン形成装置を照射するのに使用される放射ビームを提供するための照射系と、パターン形成装置を支持する第１の支持台とを備える。パターン形成装置は、放射ビームをパターン形成することができる。この装置はまた、基板を支持する第２の支持台と、パターン形成した放射ビームを、基板の目標部分上に投影するための投影系と、投影系の速度と加速度の少なくとも一方に基づいて投影系の位置と向きの少なくとも一方を制御する、投影系の位置決めモジュールとを備える。
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投影システムの最終エレメントと基板の間の空間に液体が供給されるが、液体と基板の間には空間が存在している。液体と基板の間にエバネッセント・フィールドが形成され、光子の一部を使用して基板を露光することができる。液体の屈折率によってシステムの解像度が改善され、また、基板上への液体の付着が回避される。
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