説明

シンテック,インコーポレイテッドにより出願された特許

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電子エミッタを形成する方法は、(i)ナノ構造含有材料を形成する工程と、(ii)ナノ構造含有材料とマトリクス材料の混合物を形成する工程と、(iii)電気泳動堆積によって混合物の層を基体の少なくとも1つの表面の少なくとも一部の上に堆積させる工程と、(iv)混合物の層を焼結しまたは溶融して複合体を形成する工程と、(v)複合体を電気化学的にエッチングして複合体の表面からマトリクス材料を取り除き、ナノ構造含有材料を露出させる工程とを含む。
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マルチビームX線生成装置は、陰極上に所定のパターンで配置され、固定され個々に制御可能な複数の電子放出ピクセルを有した、固定電界放出陰極と、前記ピクセルの前記所定パターンに対応する、所定パターンで配置された複数の焦点を備えた、前記陰極の反対側に位置する陽極と、前記陽極及び陰極を覆う真空槽と、を備える。別の構成は、その少なくとも一部に電子放出物質が配置された平面状の表面を有した固定電界放出陰極と、前記陰極の平面状の表面に対して空間を隔てて平行に設けられ、サイズの異なる複数の開口部を有したゲート電極と、前記陰極と空間を隔てて反対側に位置し、前記電子放出物質に合わせて複数の焦点を有する陽極と、前記陽極及び陰極を覆う真空槽と、を備え、前記ゲート電極は、少なくとも1つの焦点及びその登録位置から外れた位置へ、前記陰極から放出された電子の少なくとも1つのビームを送出するように前記開口部を操作できるように、動作可能であるX線生成装置として実現される。関連する方法も開示されている。 (もっと読む)


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