説明

有限会社オアネスにより出願された特許

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【課題】 リフローに伴い発生するハンダに含まれるフラックスの蒸発成分を触媒体によって効果的、かつ大量に分解処理リフローハンダ付け装置を提供する。
【解決手段】 リフロー炉の雰囲気ガス中に存在するフラックスを分解する触媒体77を、輻射パネル75の放熱表面に接触させて配置する。 (もっと読む)


【課題】 ハンダをリフローさせて電子部品を印刷配線基板にハンダ付けする装置において、リフローに伴い発生するハンダに含まれるフラックスの蒸発成分を触媒体によって効果的、かつ大量に分解処理することができるリフローハンダ付け装置。
【解決手段】
雰囲気ガス循環経路が途中で複数に分割された後に合流する構造を有し、複数に分割された雰囲気ガス循環経路の中の少なくとも一つの雰囲気ガス循環経路には、ヒータと、ヒータの周辺に配置される触媒体とが配備され、ヒータと触媒体とが配備されている雰囲気ガス循環経路においてヒータ及び触媒体を通過してきた雰囲気ガスと、他の雰囲気ガス循環経路を流動してきた雰囲気ガスとが合流した後、印刷配線基板に対して吹きつけられる。 (もっと読む)


【課題】 搬送路に沿って複数の熱風加熱ユニットが配備されているリフロー炉内でリフローを行ってハンダ付けするリフローハンダ付け装置であって、リフロー炉内の加熱媒体としてヘリウムガスを使用しながらヘリウムガスの消費量を大幅に抑制し、なおかつリフローハンダ付けの過程で発生するフラックスなどの気化廃棄物の回収を簡単、確実に行えるリフローハンダ付け装置を提供する。
【解決手段】
印刷配線基板をリフロー炉に搬入する搬入口と、リフロー炉からハンダ付け処理後の印刷配線基板を搬出する搬出口とがそれぞれ搬送路より下方に位置するリフローハンダ付け装置。 (もっと読む)


【課題】 リフロー炉内の酸素濃度制御、管理のためにリフロー炉内に供給される不活性ガスの量を少なくし、なおかつ、少ない不活性ガスの供給量であってもリフロー炉内の酸素濃度をより低く抑え、このように低いリフロー炉内の酸素濃度を安定して制御、管理できるリフローハンダ付け装置を提供する。
【解決手段】
一方の端側に搬送入口、他方の端側に搬送出口を有し、これらの間に複数の加熱ユニットと冷却ユニットとを有するリフロー炉内に不活性ガスを供給してリフロー炉内の酸素濃度を制御しつつ、クリームハンダを介して電子部品を搭載した印刷配線基板を搬送入口から搬送出口へと搬送し、リフロー炉内での複数の加熱ユニットによる加熱によりリフローを行ってハンダ付けするリフローハンダ付け装置であって、不活性ガスをリフロー炉内へ供給する通路が加熱ユニットによって加熱される位置に配置され、これによって加熱された不活性ガスがリフロー炉内に供給される。 (もっと読む)


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