説明

マン、デーヴェーエー、ゲーエムベーハーにより出願された特許

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【課題】チューブ束反応器内の温度プロフィルを正確に測定する方法を提供する。
【解決手段】触媒が充填され、チューブ鏡板3,4へ固定された両端を有する反応チューブの束と、作動中該チューブのまわりを流れる媒体10と、チューブ束を囲むシェル5と、反応チューブと流体連通にあり、チューブ鏡板の一方を差し渡すガス入口ヘッド6と、反応チューブと流体連通にあり、チューブ鏡板の他方を差し渡すガス出口ヘッド7と、チューブ束内に配置された温度計チューブ2内に設置された少なくとも1個のステージ温度計9をさらに含んでいる、吸熱または発熱気相反応用のチューブ束反応器において、少なくとも1個のステージ温度計9は温度計チューブ2内部を軸方向に動くことができ、そしてチューブ束反応器1はステージ温度計9の軸方向運動を実行するため機械的位置決め手段8を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】始動および停止時の触媒気相反応に対する多管式反応器の温度変化方法において、許容されない熱応力が広範囲に回避され、その際に加熱および冷却が可能な限り迅速に行われるように温度差を制限する方法を提供する。
【解決手段】反応管の外側が通常運転で100℃〜450℃の範囲の溶融温度を有し、かつ1つの循環系内で反応器主部を通過して循環される熱媒によって洗浄され、a)熱媒の循環時に熱媒温度を変化させるステップと、b)少なくとも熱媒がまだ循環されずもしくはそれ以上循環されない場合に反応管を通る調温ガスを導通させるステップとを有する方法であって、調温ガスの温度の時間平均変化速度が反応管からの前記ガスの流出時に30℃/hを超えないように、上方への始動時および下方への停止時に反応管内への調温ガスの流入時の前記ガスの温度および/または上方への調温ガスの体積流量が制限される方法。 (もっと読む)


設計的にできるだけ簡単な方策によって、特に吸熱性の化学高温合成を、特にHCN合成をマイクロ構造化された反応器で実施し、できるだけ高い収量と等しく保たれた品質で、所望の反応生成物が得られるようにするために、好ましくは誘導加熱である無接触式の加熱によって反応ゾーンが加熱される、マイクロ構造化された反応器システムが提案される。ミリセカンド単位にまで達する反応時間を実現することができる。
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【課題】発熱性または吸熱性気体反応を行う多管式反応器における熱移動のための熱媒循環量を少なくすると共に、反応管長手方向を横切る面における反応管内壁温度の分布を均一化する。
【解決手段】反応器1は触媒を充填された反応管3を備え、これら反応管は反応ガスに貫流されながら、反応ゾーン12で反応管の周りを液体熱媒が流れる。熱移動を改善するため反応管を囲んで多数のバッフル34が取り付けられている。本反応器において、次のようなバッフルを配置、形成する。すなわちこのバッフルによって、熱媒循環量がわずかでも、または反応管長手方向における温度差が大きくても、熱移動が十分大きく、管束横断面上の温度差が十分小さく維持されるものとする。熱媒流中の温度をさらに均一化するため、多管式反応器中の反応ゾーンに予熱ゾーン11を前置し、両者ゾーンは管束領域でたがいに液密に分離され、同一の熱媒流が両者を貫流するものとする。 (もっと読む)


本発明は、発熱気相反応を行う次のような多槽型ジャケット管反応装置(2、60、90、130)に関する。すなわちこのジャケット管反応装置は、気化冷却によって動作する少なくとも1つの反応ゾーン(I)と、循環冷却によって動作する少なくとも1つの反応ゾーン(II)と、場合によってはそのほかのゾーン(III、IV)とを持つ。このジャケット管反応装置の特徴は、気化冷却によって動作する反応ゾーン(I)が第1の反応ゾーンを形成し、この反応ゾーンに、気化冷却により動作するもう1つの反応ゾーン(II)、または循環冷却により動作する1つの反応ゾーン(II)が接続されていることである。これにより、反応が最も激しく行われる反応開始時に、正確に制御可能な温度で、かつとくに反応装置断面全体にわたって一定な温度で、強い冷却が行われる。またつづいて、循環冷却によって動作する再冷却ゾーンでは、熱媒を全体的には対向流として導くことにより、反応ガスの継続的冷却が得られる。
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本発明は、触媒気相反応を行うためのジャケット管反応装置であって、触媒管束(8)とガス入口フードないしガス出口フード(2、60)とを備えるものに関する。この触媒管束は該当する反応ガス混合物が貫流し、触媒充てん物を備え、2つの管板(4、148)の間に延び、周りを囲む反応管ジャケット(6)の中で熱媒の接触流を受け、またガス入口フードないしガス出口フードは、両者管板の上に張り渡され、該当するプロセスガスを触媒管束に供給し、反応済みのプロセスガスを触媒管から排出するためのものである。このジャケット管反応装置は、プロセスガスと接触するそのすべての部品とともに、強度の点で、その運転状態上考慮すべき爆発圧力ないし爆轟圧力に耐えるよう設計されていることを特徴とする。好ましくは、触媒管入り口前でプロセスガス混合物に当てられる容積は、設計上および流体工学上の視点からできるだけ小さく抑えるものとする。該当する反応装置を用いれば、処理のため供給されたプロセスガス、かつ爆発の危険ある成分を含む同プロセスガスの装入量を、リスクのない経済的な方法で増加させることができる。そして反応装置の起動時には、そのときどきのガス構成における爆発危険範囲を通過することができる。
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本発明は、次のようなジャケット管反応装置(2)に関する。すなわちこの反応装置は、反応管束(6)とそらせ板(22、24)とそしてリング状流路(18、20)とを備える。まずこの反応管束はリング状、垂直であって、熱媒の接触流を受ける。次にそらせ板は熱媒のためのものであって、リング状のものとディスク状のものが交代に設けられ、熱媒が通過するための分流開口部(26)を備え、この分流開口部は少なくとも一部が、反応装置半径にそって断面積に変化づけされている。そしてまたリング状流路は、反応装置ジャケットの少なくとも両末端に設けられている。このジャケット管反応装置は、下記の事項の少なくとも2つが組み合わされていることを特徴とする。
a)流れ制御手段(38、42、44、50)を、反応装置円周にそって配分し、管束の外周および/または内周に設けること。
b)すべての半径方向において流れ抵抗を制御できるようにするため、反応装置円周にそって、管束の管ピッチに変化づけすること。
c)すべての半径方向において流れ抵抗を制御できるようにするため、反応装置円周にそって、管束の半径方向寸法に変化づけすること。
d)管接触流条件を制御できるようにするため、反応装置円周にそって、少なくとも一方の種類のそらせ板の半径方向寸法に変化づけすること。
e)管接触流条件を制御できるようにするため、反応装置円周にそって、少なくとも一方の種類のそらせ板において、分流開口部の少なくとも1つの輪縁の横断面に変化づけすること。
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本発明は、触媒気相反応のための次のようなジャケット管反応装置(2、50、90、150、162、180、190、200、220、234)に関する。この装置は、第1に反応容器(8、182、184、208、226)を備え、この反応容器は、反応装置ジャケットに囲まれて液体熱媒の接触流を受ける反応管束である。第2に少なくとも1つの循環ポンプ(12、230、270、280、290)を備え、この循環ポンプは熱媒のためのものであって、反応管束の外部に設けられる。第3にこの循環ポンプと並列に接続された熱交換器(16)と、第4にやはり循環ポンプと並列に接続されたバイパス(22)とを備える。このジャケット管反応装置において、バイパスを通過する熱媒流量は、反応装置の運転開始時、つまり熱媒がまだ比較的低温でそれに対応する粘性を持つときは、熱媒の一部が反応容器を通らずに迂回するように制御される。しかし反応装置の定常運転時は、その時々に得られる熱交換器出力に依存しながら、反応容器を通過する熱媒流量がほぼ一定となるように、自動的に制御される。
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