【課題】フォトレジストパターン形成の際、同時に感光性有機反射防止膜を形成するための感光性有機反射防止膜用の組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光性有機反射防止膜形成用の組成物は、エポキシ基及び酸発生剤（ＰＧＡ）によって分解が起こる酸分解型熱架橋剤を０．５〜５質量％と、アントラセンを含有するアクリレート単量体またはアントラセンを含有するメタアクリレート単量体を含む共重合体樹脂を１０〜２２質量％と、光酸発生剤を０．１〜１質量％と、その余の溶媒と、を含む。この感光性有機反射防止膜形成用の組成物で形成した感光性有機反射防止膜は、フォトレジストによりフォトレジストパターンを形成するための現象工程において、同時に現象される。 （もっと読む）

【課題】簡単かつ経済的な工程により、ナノサイズの直径である高縦横比の構造物を形成できる高縦横比のナノ構造物の形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に高分子薄膜を形成し、高分子薄膜にモールドを接触させる。次に、モールドの陰刻部のベース面と接触する高分子パターンを形成し、高分子薄膜から前記モールドを除去し、高分子パターンを伸張させることによって、高縦横比のナノ構造物を形成する。本発明のナノ構造物の形成方法を使用すれば、最適化されている自然系の各種繊毛を摸写できる。また、超疎水性又は高接着性などの性質を有する新しい機能性素材を開発できる。進んで、ますます微細化している電子素子のナノサイズの微細パターン形成工程などに応用が可能であり、かつ最近、注目されつつある炭素ナノチューブと共に、各種超精密産業の技術開発にも大きく寄与できる。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置の製造方法。
【解決手段】本発明による液晶表示装置の製造方法は、透明電極が形成された基板上に垂直配向膜を形成し、大気圧状態で垂直配向膜の第１領域に第１噴射条件を有するプラズマガスを噴射し、及び大気圧状態で垂直配向膜の第２領域に第２噴射条件を有するプラズマガスを噴射することを特徴とする。噴射条件は、単位面積当たり噴射するプラズマガスの粒子数、総噴射時間、噴射方向、プラズマガスの噴射速度等を意味し、このような噴射条件の変化を通して一つの液晶表示装置で領域によって液晶分子の配向を変化させてもよい。本発明による液晶表示装置の製造方法は、液晶分子の配向をプラズマガスの噴射を通して大気圧及び常温で非接触式で形成することができるため、静電気や汚染物質によるが問題なく、大面積に配向することができるという長所を有する。 （もっと読む）

【課題】水銀を使用しない光源およびこれを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】下部基板と、少なくとも２つの層を含み、上層は銀（Ａｇ）、鉛（Ｐｂ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）、タンタル（Ｔａ）、ビスマス（Ｂｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、およびモリブデン−タングステン合金からなる群より選択される少なくとも1つの金属を含む、前記下部基板上に形成されたカソード電極と、前記カソード電極上で成長したエミッタチップ用カーボンナノチューブと、前記下部基板に対向し位置して、蛍光物質と透明電極を含む上部基板と、を含むことを特徴とする面光源装置およびその製造方法、前記面光源装置を用いた液晶表示装置およびその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 表示特性を向上させることができ、生産性を向上させるための半透過型表示装
置及び半透過型表示装置の形成方法を提供する。
【解決手段】半透過型表示装置は、第１基板、第１基板上に存在し内部光を透過させる透
明電極と外部光を反射させる反射電極からなる画素電極、及び反射電極と透明電極のうち
少なくとも１つの上部に存在する位相差層を含む。このような半透過型表示装置は、反射
領域と透過領域で同一のセルギャップを有しながらも、反射領域と透過領域の駆動方式を
同一に動作させることができ、製造工程が単純で、表示装置の信頼性を向上することがで
きる。 （もっと読む）