【課題】平面状被処理基体に対してプラズマ処理を行う装置であって、プラズマの利用効率及び均一性がよく、且つ生産性が高いプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマ処理装置は、真空容器１１と、真空容器１１の内部空間１１１に突出するように設けられた１個又は複数個のアンテナ支持部（プラズマ生成手段支持部）１２と、アンテナ支持部１２のそれぞれに取り付けられた高周波アンテナ（プラズマ生成手段）１３と、真空容器１１内にアンテナ支持部１２を挟んで設けられた、平面状被処理基体２１を保持するための１対の基体保持部１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】生成されたプラズマを効率よく利用することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマ処理装置１０は、真空容器１１と、真空容器１１の内部空間１１１に突出するように設けられたアンテナ（プラズマ生成手段）支持部１２と、アンテナ支持部１２に取り付けられた高周波アンテナ（プラズマ生成手段）１３と、を備えることを特徴とする。これにより、高周波アンテナが取り付けられる部分の面積が小さくなり、プラズマの利用効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】経済的に、均一化された誘導結合プラズマを生成させることができるプラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成室１内における一つの又は隣り合うもの同士が間隔をあけることなく連なる複数の、一辺０．４〔ｍ〕の立方体空間Ｃのそれぞれに高周波アンテナ２を割り当て設置し、各立方体空間Ｃにおける高周波アンテナの合計長Ｌ〔ｍ〕を、プラズマ生成室１内に設定する誘導結合プラズマ生成圧力Ｐ〔Ｐａ〕との間で、（０．２／Ｐ）＜Ｌ＜（０．８／Ｐ）の関係を満たす範囲の長さＬ〔ｍ〕に設定する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、安価に均一にプラズマを生成させ得るプラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】各アンテナ２は同一とし、各アンテナ２への高周波電力の印加を、各アンテナ２に共通に設けた高周波電源４から一つの整合器５及び一本のブスバー３を介して行うようにし、ブスバー３を整合器５との接続部位を基準にアンテナ数と同数に区間分けし、各アンテナ一端部を、対応する区間部分３１、３２又は３３に電力供給線３１１、３２１又は３３１にて接続し、各アンテナ他端部は接地し、各ブスバー区間部分のインピーダンス及び各電力供給線のインピーダンスを各アンテナに流れる電流及び各アンテナに印加される電圧のそれぞれが同一となるように調整することで、各アンテナ２に供給される高周波電力を均一化して誘導結合プラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置であって、プラズマ密度の低下を招くことなく、プラズマの電子温度を低く抑制することができる方法及び装置を提供する。かかるプラズマ生成装置を利用したプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成室１内に複数本の高周波アンテナ２を設置し、高周波電力供給装置（電源４１、４２、位相制御部Ｃｏｎｔ等）から供給される高周波電力をアンテナ２から室１内ガスに印加して誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置。複数本のアンテナ２は、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置される。高周波電力供給装置は、各アンテナ２に印加する高周波電圧の位相を制御することで誘導結合プラズマにおける電子温度を制御する。 （もっと読む）

【課題】誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置であって、プラズマの電子温度を低く抑制することができる方法及び装置を提供する。かかるプラズマ生成装置を利用したプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成室１、室１内に設置された少なくとも一本の高周波アンテナ２及び高周波電力供給装置（電源４１等）を有し、高周波電力供給装置から供給される高周波電力を高周波アンテナ２から室１内ガスに印加して誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置、並びに該装置を利用したプラズマ処理装置。高周波アンテナ２はインピーダンス４５Ω以下に設定される。 （もっと読む）