説明

イツェーテー インテグレイテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フュール ハルブライタープリュッフテヒニク ミット ベシュレンクテル ハフツングにより出願された特許

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【課題】不連続的放出パターンを有する荷電粒子エミッタによる荷電粒子装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置及び方法。装置は、少なくとも2つの放出ピークを含む放出パターンを有するエミッタ(102)と、ガンレンズ(119、519、919)と、ダイヤフラム(120)とを含み、ガンレンズは、デフレクタ・ユニット(110)を含み、デフレクタ・ユニットは、少なくとも2つの放出ピークのうちの放出ピークをダイヤフラムの開口部に向け、それによって少なくとも2つの放出パターンから放出ピークのうちの放出ピークを選択するようになっている。 (もっと読む)


【課題】エミッタ表面を有する冷陰極電界エミッタを含む荷電粒子ビーム照射デバイス、特に電子ビーム照射デバイスを動作する方法を提供する。
【解決手段】本方法は、(a)所与の引き出し電界下で高い初期照射電流と低い安定平均照射電流とを示す冷陰極電界エミッタを真空中に配置する段階と、(b)エミッタ表面から電子を照射するために冷陰極電界エミッタに引き出し電界を印加して、冷陰極電界エミッタの照射電流が安定平均照射電流よりも高くなるようにする段階と、(c)少なくとも1つの加熱パルスを印加してエミッタ表面を温度にまで加熱することにより清浄化処理を行い、清浄化処理は、冷陰極電界エミッタの照射電流が低い安定平均照射値にまで低下する前に行われるようにする段階と、(d)清浄化処理(c)を繰返して、冷陰極電界エミッタの照射電流が安定平均照射値を連続的に上回るように維持する段階とを含む。 (もっと読む)


【課題】不連続的放出パターンを有する荷電粒子エミッタによる荷電粒子装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置及び方法。装置は、少なくとも2つの放出ピークを含む放出パターンを有するエミッタ(102)と、ガンレンズ(119、519、919)と、ダイヤフラム(120)とを含み、ガンレンズは、デフレクタ・ユニット(110)を含み、デフレクタ・ユニットは、少なくとも2つの放出ピークのうちの放出ピークをダイヤフラムの開口部に向け、それによって少なくとも2つの放出パターンから放出ピークのうちの放出ピークを選択するようになっている。 (もっと読む)


【課題】エミッタ表面を有する冷陰極電界エミッタを含む荷電粒子ビーム照射デバイス、特に電子ビーム照射デバイスを動作する方法を提供する。
【解決手段】本方法は、(a)所与の引き出し電界下で高い初期照射電流と低い安定平均照射電流とを示す冷陰極電界エミッタを真空中に配置する段階と、(b)エミッタ表面から電子を照射するために冷陰極電界エミッタに引き出し電界を印加して、冷陰極電界エミッタの照射電流が安定平均照射電流よりも高くなるようにする段階と、(c)少なくとも1つの加熱パルスを印加してエミッタ表面を温度にまで加熱することにより清浄化処理を行い、清浄化処理は、冷陰極電界エミッタの照射電流が低い安定平均照射値にまで低下する前に行われるようにする段階と、(d)清浄化処理(c)を繰返して、冷陰極電界エミッタの照射電流が安定平均照射値を連続的に上回るように維持する段階とを含む。 (もっと読む)


【課題】電界エミッタ配置、並びに、電界エミッタの放出面を清掃する方法を提供すること。
【解決手段】荷電粒子の一次ビーム(15)を生成するようになっている、放出面(11)を有する電界エミッタ・チップ(10)と、電界エミッタ・チップ(10)の放出面(11)に照射するようになっている、少なくとも1つの電子源(20)と、を備えた電界エミッタ配置(100)が提供される。 (もっと読む)


【課題】液体金属イオン源又は液体合金イオン源のための改良されたエミッタを提供する。
【解決手段】液体金属イオン源のためのエミッタ(100)が提供され、該エミッタは、ワイヤ(110)を備え、該ワイヤは、ほぼ湾曲した部分(115)及び表面(120)を有し;ワイヤ表面(120)の少なくとも一部分(125)がほぼ湾曲した部分(115)で先細にされてエミッタ先端を形成する。更に、このようなエミッタの製造方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】電磁界発生素子及び複数のこのような電磁界発生素子を含む多極素子を提供する。
【解決手段】磁極片(10)と、磁極片(10)が取り付けられたヨーク(12)と、少なくとも1つのコイル(20)と、この少なくとも1つのコイル(20)を収容する真空気密容器(21)と、真空気密容器(21)が磁極片(10)及びヨーク(12)から離間するように真空気密容器(21)を保持するようになったホルダ(40、23)とを含む電磁界発生素子(1)。 (もっと読む)


本発明は、荷電粒子ビーム装置に関する。本装置は、荷電粒子を放出するためのエミッタ(12)と、放出された荷電粒子を少なくとも2つの独立した荷電粒子ビームに分離するための少なくとも2つのアパーチャ(36)を有するアパーチャ構成(26;86)と、少なくとも2つの独立した荷電粒子ビームを合焦するための対物レンズ(18)とを備え、独立した荷電粒子ビームが焦点面内の同じ位置上に合焦される。 (もっと読む)


本発明は、荷電粒子ビーム(3)を集束させる荷電粒子レンズ(1;1000)を有するビーム光学コンポーネントであって、荷電粒子レンズ(1;1000)は、荷電粒子ビーム(3)を通過伝搬させることができる第1のスペースを画定する第1の開口部(7)を備えた第1の要素(5;1005)と、荷電粒子ビーム(3)を通過伝搬させることができる第2のスペースを画定する第2の開口部(11)を備えた第2の要素(9;1009)と、第1の要素(5;1005)及び第2の要素(9;1009)のうちの少なくとも一方に結合されていて、第1の開口部(7)を第2の開口部(11)に対して整列させる第1の駆動手段(13)とを有する、ビーム光学コンポーネントに関する。第1の駆動手段により、第1の開口部(7)と第2の開口部(11)をビーム操作中、互いに整列させてビーム光学コンポーネントの優れた位置合わせ(アライメント)を得ることができ、それにより良好なビーム集束が得られる。本発明は又、荷電粒子ビーム(3)を集束させるために上述のビーム光学コンポーネントを用いる荷電粒子ビーム装置及び第1の開口部(7)と第2の開口部(11)を互いに対して整列させる方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、荷電粒子ビーム(7)を所定のランディング角度(42;42′;42)で試料上に集束させる集束レンズ(100)に関し、この集束レンズは、荷電粒子ビーム(7)を試料(3)上に集束させる集束電場(110)を発生させる第1のアパーチュア(106)を備えた少なくとも1つの第1の電極(26,105,105a)と、試料(3)により引き起こされる集束電場(110)のランディング角度依存性ディストーションを補償する湾曲面(115)を備えた修正電極とを有する。修正電極の湾曲面(115)により、垂直ランディング角度とは異なるランディング角度での荷電粒子ビームの集束具合を向上させることが可能である。 (もっと読む)


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