【課題】４−ヒドロキシスチレンのポリマーはホトレジスト等に有用であるが、分解しやすい等問題がある原料である４−ヒドロキシスチレンを使用しない新規な製法を提供する。
【解決手段】４−ヒドロキシスチレンの代わりに４−ヒドロキシメチル−カルビノールをメチルエーテル化し、これを重合させると新規の誘導体化されたポリ（４−ヒドロキシスチレン）（ＰＨＳ）が得られ、これはＮＭＲによって測定したところ、従来技術のＰＨＳと比べて実質的に直鎖状（約６％〜約４０重量パーセント）であり、さらに、低い多分散性（すなわち約２．０未満）を有する。 （もっと読む）

（ｉ）４−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールを含有するメタノールの溶液を供給し、（ii）前記溶液を、十分な時間、適切な温度及び圧力条件下で酸触媒置換反応に付して、溶液中で実質的にすべての前記カルビノールを４−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールメチルエーテルに変換し、（iii）前記エーテル含有溶液中のメタノールを第二の溶媒で置換し、そして（iv）エーテル含有乳酸エチル溶液を、十分な時間、適切な温度及び圧力条件下で適切な酸触媒と反応させて前記プロパノエートを形成させるステップを含むプロパノエートの製造法。上記のようにして製造されたプロパノエートを含む新規組成物は、電子化学品市場において、例えばフォトレジスト組成物において用途を有する。 （もっと読む）

微量金属含有ポリマーの溶液からのポリマー含有の安定なフォトレジスト溶液の製造方法であって、(a)ポリマー、第一の溶媒及び微量金属を含有するポリマー溶液を準備し；(b)ポリマー溶液を酸性の陽イオン交換材料に通して前記微量金属を該溶液から除去して遊離酸基を含有するポリマー溶液を形成させ；(c)ｂのポリマー溶液からポリマーを、実質的に不溶である第二の溶媒と接触・沈殿させ；(d)溶液と第二の溶媒をろ過することにより固体のポリマーケーキを形成させ；(e)ｄのケーキを十分量の追加の第二の溶媒と接触させ遊離酸基を除去し；(f)ｅの固体ポリマーケーキに相溶性のフォトレジスト溶媒を加え、混合してポリマーをフォトレジスト溶媒中に溶解させてフォトレジスト溶液を形成させ；(g)ポリマー含有のフォトレジスト溶液から残留第一及び第二の溶媒を除去し、安定なフォトレジスト溶液を形成させる工程とを含む方法。 （もっと読む）

ノボラック型の構造を有する誘導体化されたポリ（４−ヒドロキシスチレン）を製造する方法であって、本方法は、（ｉ）４−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールを含むメタノール溶液を供給する工程、（ｉｉ）前記溶液を、酸触媒による置換反応で、適切な温度および圧力の条件下で十分な時間処理し、溶液中の実質的に全ての前記カルビノールを、４−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールのメチルエーテルに変換する工程、（ｉｉｉ）前記エーテルを含む溶液を、適切な酸触媒の存在下で、適切な温度および圧力の条件下で十分な時間重合し、ノボラック型ポリマーを形成する工程を含む。上記の方法で製造された誘導体化されたポリ（４−ヒドロキシスチレン）を含む新規の物質の組成物であって、本組成物は、電子工学の化学の市場、例えばフォトレジスト組成物、および、その他の分野、例えばワニス、プリント用インク、エポキシ樹脂、コピー用紙、ゴムのための粘着性付与剤、原油セパレーターなどにおいて用途を有する。 （もっと読む）

逆沈殿による溶剤／非溶剤システム中での粗製のポリマーの分別によって、種々のモノマーから誘導されるポリマーが精製される。 （もっと読む）