【課題】基板の下面に非接触で基板を搬送し、基板を高速かつ安定的に移動させながら、基板の汚染やローラー痕の生成なく、基板の上下両面又は下面のみに処理を行う、非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板の上面と下面の両方又は下面のみに、水による洗浄処理、薬液による化学的処理、水によるリンス処理又は空気、窒素ガスといった気体による乾燥処理のいずれかの処理を行う、複数の基板処理ユニット７、８、９を備えてなる基板処理装置が、基板１の下面に向かって水、薬液、空気、窒素ガスといった流体を噴出して、基板１を浮上させ、基板１の下面に非接触でその位置を保持する、複数配置された基板浮上ユニット１０と、基板１の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して、基板１を移動させる複数配置された搬送ローラー１２を有する基板搬送ユニットと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 部品や部品組立体（ワーク）を短時間に十分に洗浄、乾燥させることができ、しかも、溶剤回収を長時間にわたって連続的、効率的に行うことができて、溶剤の消費量が少なく、環境を汚染することのない、溶剤回収装置を備えた溶剤洗浄装置を提供する。
【解決手段】 ワークを溶剤で洗浄して、ワークに付着する油分やパーティクルを除去するとともに、ワークを乾燥させるために、ワークを溶剤液に浸漬させて洗浄する複数の洗浄槽１１〜１３と、これらの洗浄槽のうちの最終段洗浄槽１３を出たワークを溶剤蒸気で洗浄及び乾燥させる蒸気乾燥槽２０とを備えている溶剤洗浄装置が、蒸気乾燥槽２０を出たワークを密閉された室内で完全に乾燥させる密閉型完全乾燥槽３０と、該密閉型完全乾燥槽３０で発生した、ガス濃度が上昇した溶剤蒸気を吸引し、液化して、回収する溶剤回収装置４０とをさらに備えている。 （もっと読む）