説明

タイヨウ、アメリカ、インコーポレーテッドにより出願された特許

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【課題】スルーホールへの充填と露光性がよく、平坦性が得られるソルダ・マスクを得る。
【解決手段】ソルダ・マスクの形成はステンシル印刷ユニット12を使用して、フォトイメージャブル・インク2が、キャリア・フィルム1Aに金属ステンシル板12bの上面に沿ってスクレーパ12cによって、ステンシル開口12dを介してフォトイメージャブル・インク2を圧搾し、フォトイメージャブル・インク層を形成し、キャリア・フィルム1Aに転写することによって行われる。 (もっと読む)


ソルダ・マスクを形成するためのプロセスでは、キャリア・フィルムにフォトイメージャブル・インクが塗布されて、キャリア・フィルム上にフォトイメージャブル・インク層が形成される。フォトイメージャブル・インク層は、乾燥されてフォトイメージャブル・レジスト層が形成され、それによって少なくとも1つのフォトイメージャブル・レジスト層を有するフィルムが形成される。フォトイメージャブル・レジスト層を有するフィルムは、フォトイメージャブル・レジスト層の上面を基板と接触させるように、基板の少なくとも片側に積層される。フォトイメージャブル・レジスト層は、キャリア・フィルムを通して像様に露光される。キャリア・フィルムは、フォトイメージャブル・レジスト層から除去されて、露光済みレジスト層が形成される。露光済みレジスト層は、現像されて、現像済みレジスト層が形成される。現像済みレジスト層は、硬化されて、基板上にソルダ・マスクが形成される。 (もっと読む)


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