説明

ベネク・オサケユキテュアにより出願された特許

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【課題】原子層堆積(ALD)法の反応容器であって、真空チャンバ内のソース取付具の交換等の保守管理の容易な反応容器を提供する。
【解決手段】その反応容器が真空チャンバ1を備え、その真空チャンバ1が、ロード扉を備えた第1の端部壁2と、後部フランジを備えた第2の端部壁3と、第1の端部壁と第2の端部壁2、3を連結する側壁/筐体4と、ソース材料を反応容器の真空チャンバ1に供給するための少なくとも1つのソース材料取付具5とを有する反応容器であり、少なくとも1つのソース材料取付具5は、反応容器の真空チャンバ1の側壁/筐体4に設けられる。 (もっと読む)


基板(3)に上の多層コーティング及び多層コーティングを製造するための方法が提供される。前記コーティングは前記コーティングを通る原子の拡散を最小化するように構成され、前記方法は、基板を反応空間に導入し、前記基板上に第1の材料(1)の層を堆積し、及び前記第1の材料(1)の層上に第2の材料(2)の層を堆積することを含む。前記第1の材料(1)及び第2の材料(2)のの層の堆積は、前記反応空間に前駆体を交互に導入することを含み、続いてそれぞれの前駆体導入後にパージングすることを含む。前記第1の材料は、酸化チタン及び酸化アルミニウムを含む群から選択される前駆体、前記第2の材料は、酸化チタン及び酸化アルミニウムを含む群から選択される他の前駆体である。境界領域が、酸化チタン及び酸化アルミニウムの間に形成される。
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本発明は、材料を焼き戻すための方法及び装置に関する。
本発明によれば、1つ以上の液体が少なくとも1つの噴霧器によって液滴に霧化され、液滴の少なくとも一部が高温材料の表面と衝突して気化し、これによって熱エネルギーが高温材料の表面層から除去されるよう、これらの液滴が高温材料の表面に向かって誘導される。衝突部材を使用して、液滴のサイズをさらに小さくすることができる。液滴は、別個の誘導用ガス流によって表面に誘導することができる。 (もっと読む)


本発明はガラス基板(6)の表面(8)を通常の空気圧で被覆するための被覆方法に関し、その方法では、少なくとも1種の液体出発物質が小滴(12)に噴霧され、形成された小滴(12)が被覆される表面(8)に向かって導かれる。形成された小滴(12)は、被覆プロセスにガラス基板(6)で小滴(12)を気化するのに必要な熱エネルギーをもたらすことによって、小滴(12)が被覆される表面に接触する前に、被覆される表面の実質的に近傍で気化される。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1つまたはそれ以上の液体原材料を使用してガラス(2)をコーティングするプロセスおよび装置に関する。液体原材料は、本質的にガラス方面の少なくとも一部上で反応し、コーティングをそこに形成する。液体原材料の少なくとも一部は、1つまたはそれ以上の2流体アトマイザで飛沫(17)に霧化される。1つまたはそれ以上の2流体アトマイザで使用されるガスの少なくとも一部は帯電させられ、飛沫(17)の少なくとも一部は、霧化の間またはその後に帯電させられる。本発明によれば、飛沫(17)は、別個に形成される電場内に形成される。 (もっと読む)


本発明は、実質的にガラス基板表面(10)の少なくとも一部の上もしくは近くで反応する1種以上の液体原料を使用することによってガラス基板(2)をコーティングするための方法と装置に関する。本発明の方法は、a)ガラス基板(2)を実質的にコーティング温度以上の温度に加熱する工程;b)1種以上の液体原料を液体エアロゾルに変換し、そして該液体エアロゾルの少なくともごく少量をガラス基板表面(10)上に堆積させることによってガラス基板表面(10)上に被膜を形成させる工程;c)工程b)を1回以上繰り返す工程;及びd)少なくとも1回の工程b)の前にガラス基板表面(10)を加熱する工程;を含む。本発明によれば、工程d)における加熱は対流加熱によって行われる。 (もっと読む)


本発明は、反応チャンバを備えるALD反応器の構成に関し、この構成は、反応チャンバ(2)に反応ガスを供給するための、および反応ガスを吸引するための継ぎ手を有する。また、本構成は、バリアガスを供給するための継ぎ手を有する。反応ガスを供給および吸引するための継ぎ手は中間素子(3)を有し、この中間素子(3)は中間素子を通って延びる複数の平行チャネル(4−7)を備える。また、継ぎ手は、中間素子(3)の端部に配置される第1および第2の流れ反転素子(8、9)を備える。この流れ反転素子(8、9)内に、チャネル(4−7)が開口する。流れ反転素子(8、9)は、チャネル間流れを提供するように、中間素子(3)内でチャネルを結合するように構成される。 (もっと読む)


本発明は、疎水性の表面を材料上につくり出すための方法と装置に関する。本発明は、構造化しようとする表面に向けて、表面を構造化する粒子スプレーを、表面を構造化するように導くこと;及び構造化された表面を疎水性材料でコーティングすること;を含む。本発明によれば、所定のサイズdより大きい粒子が、1つ以上のインパクションノズル(7,11)によって粒子スプレーから分離され、これらの粒子が、構造化しようとする表面(9)に向けて、該粒子が構造化しようとする表面(9)と衝突して、これにより表面上に構造物がつくり出されるように導かれる。次いで、構造化された表面が出発物質の交互表面反応にて処理されるという気体デポジション法によって、構造化された表面がコーティングされる。 (もっと読む)


本願は、本発明に従ったコーティングによってガラス(1)の耐久性を高める方法に係る。当該方法は、厚さが5ナノメートルを下回る少なくとも1つの層(4,5,6)を有するコーティングでガラス(1)をコーティングする段階を有し、該コーティングは、少なくとも1つの要素の化合物を有する。本願はまた、本発明に従ったコーティングを有するガラス製品は、厚さが5ナノメートルを下回る少なくとも1つの層(4,5,6)を有するコーティングでガラス(1)をコーティングすることによって製造される。本願はまた、本発明に従ったコーティングを有するガラス製品に係り、50ナノメートルを下回るガラス(1)の表面のレベルにおける幅を有するスクラッチ(2)を有する。該コーティングは、ガラス(1)の耐久性を高めるよう表面スクラッチ(2)の内側に実質的に一致して存在する。
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本発明は、原子層堆積(ALD)プロセス又はALD型プロセスによって作製される金属酸化物被膜の均一性を高めるための方法に関する。ハロゲン化金属含有前駆体と酸素含有前駆体(好ましくは水)の交互パルスを使用し、必要に応じてパージすることによって層が作製される。酸素含有前駆体のパルス後に改質剤のパルスを導入すると、層の均一性に好ましい効果(一般には、特に密に配置された基板を含むアプリケーションにおいて勾配を示す)を与える。特に、層厚さの均一性が改善される。本発明によれば、1〜3個の炭素原子を有するアルコールを改質剤として使用することができる。 (もっと読む)


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